グリッド | イプロスものづくり

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偏光ビームスプリッターワイヤグリッドタイプ・キューブ型

PRカスタマイズ可能なワイヤグリッド偏光ビームスプリッター、入射角依存の少…

WGF(TM)を使用した、ワイヤグリッド偏光ビームスプリッターキューブタイプ（WGF(TM) PBS)です。すでにハーフミラーをお使いの場合、WGF(TM) PBSに替えることで輝度向上が期待できます。縮小系でも色や偏光度が部分的に変わることはなく、画像検査の精度を向上させます。入射角依存が少なく、安定した光学性能を維持します。 ※WGF(TM)は旭化成の製品です。...規格品　WP...
メーカー・取り扱い企業：株式会社オプティカルソリューションズ
イートンのエネルギーマネジメントソフトウェア

PRイートンのエネルギーマネジメントシステム：未来へのパワー、今日のスマー…

エネルギー・マイクログリッドだけではなく、電気の使用場所、使用量と電気代を表示することによって電気代を節約するための分析、CO2の可視化、ロボットで自動に電気設備の監視、電気制御機器のリモート制御もできます。多数の成功事例もあります。どんな製品か、お客様へのメリットは何だか、デモにてご回答できます！ぜひ一度お問い合わせてみてください！...実際の使用感を実感いただけるよう、準備をしておりま...
メーカー・取り扱い企業：イートン・エレクトリック・ジャパン株式会社
カフマン　グリッドタイプイオンソース

ＫＲＩグリッドイオンソースはDCタイプ、RFタイプがあります。

カフマン型グリッドイオンガン　RFICPイオン源グリッドサイズ：4cm, 10cm, 14cm, 22cm, 36cm 　DCイオン源グリッドサイズ：1cm, 4cm, 8cm, 10cm, 16cm ...

メーカー・取り扱い企業：アールエムテック株式会社
グリッドイオンソース　仕様詳細

カウフマン&ロビンソン社製の各種グリッドイオンソースの仕様を掲載してい…

オーエスアイ・インダストリーではカウフマン&ロビンソン社製の各種グリッドイオンソース取り扱っています。各種グリッドイオンソースの仕様を細かく掲載していますので、この機会に是非ご覧ください。【掲載内容】 ●放電/放電電流/放電電力 ●グリッド ●ビーム...

メーカー・取り扱い企業：アールエムテック株式会社
紫外線洗浄改質装置【回転機構を取付可能。むらなく照射！】

密着性、濡れ性の向上に！コンパクト設計の紫外線洗浄改質装置『OZB-0…

『OZB-021』は、短波長紫外線とオゾンの効果で有機化合物の分解、洗浄及び改質を行う紫外線洗浄改質装置です。均一性に優れた平面グリッド管ランプを採用。操作スイッチ及び安定器電源一体型のコンパクト設計となっています。また、照射時間の設定調整機能及びランプ寿命積算計付きです。【特長】 ■均一性に優れた平面グリッ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社たけでん UVシステム G
イオンビームエッチング・成膜装置『QuaZar(TM)』

高いスループットを実現！大面積イオンソースと高度なモーションコントロー…

エッチング・成膜装置『QuaZar(TM)』をご紹介いたします。大面積イオンソースと高度なモーションコントロールにより、高いスループットを実現。特にMarathon(TM)グリッドは、従来の方式に比べ、長期に渡り良好な均一性を得ることが出来ます。【仕様】 ■イオンビームシステム ■プロセス温度：-40℃～+60℃ ■傾斜角：+90度～-80度 ■ロードロ...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
レーザー直接描画装置『DWL 66＋』

研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

【描画モードの一例】 ■描画モード：HR(High Resolution Mode 0.3um) ■最小アドレスグリッド（nm）：5 ■最小描画サイズ（μm）：0.3 ■エッジラフネス（3σ、nm）：50 ■CD均一性（3σ、nm）：60 ■重ね合わせ精度（3σ、nm）：500 ※詳しくはカタログをご...

メーカー・取り扱い企業：ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
イオンビームエッチング・ミリング（IBE）装置

高レート・高信頼性を実現した生産用イオンビームミリング装置

特長最新設計のグリッドによる8インチ基板への均一なエッチングイオンソース冷却機構の最適化による高レートエッチングの連続運転改善基板保持部の傾斜機構をダイレクト駆動方式より高速化最新OSの採用と制御システムの改善に...
メーカー・取り扱い企業：ティー・ケイ・エス株式会社
スタンピングツール（転写ピン）を取り扱っています。特殊形状も対応

半導体製造における転写ピンを様々な材質でご用意できます。定番形状の3種…

1ピン型、スター型、グリッド型など定番パターンに加えて特殊形状での製作も可能です。対象となるダイサイズにおいて最適な形状を長い設計経験の中からアドバイスします。...

メーカー・取り扱い企業：有限会社オルテコーポレーション本社
高出力RFイオンソース「ISG-180」

広範囲で安定した放電を実現した高出力RFイオンソースです。

【RFイオンソース仕様と寸法】 ○グリッド径　Φ180mm　3枚構成、モリブデン製 ○BEAM v　100～1500V ○BEAM ｉ　100～1500mA ○ACC v　100～1000V ○RF POWER　1000W ○G...

メーカー・取り扱い企業：株式会社昭和真空
光学薄膜用蒸着装置「SGC-S1700シリーズ」

樹脂レンズへの成膜に最適！大量生産を高次元で実現する光学薄膜用蒸着装置…

【特徴】 ○高効率排気系の採用によりφ1300クラスと比較しても　成膜処理時間は+10%程度 ○広範囲照射が可能なグリッド式ＲＦイオンソースを採用、　パレット全面の膜質が安定する ○設置面積の省スペース化、高さも抑えたコンパクト設計 ○作業性を考慮した最適な装置サイズ、大きすぎないパレットサイズを採用 ○樹...

メーカー・取り扱い企業：株式会社昭和真空
イオンビームスパッタリング装置

RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを…

●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。【装置仕様概略】　・スパッタリング用イオンソース　　フォーカスグリッド 　・アシスト用イオンソース　　デフォーカスグリッド 　・シングルステージ　・ターゲットホルダー　・排気系　・制御系【オプション】　・プラネタリーステージ　・膜厚計...

メーカー・取り扱い企業：アールエムテック株式会社
小型ECR原子ビーム源『ERS-35』

メタルコンタミフリーの誘電体ライニング！超高真空装置に対応できる小型E…

長】 ■完全メタルシールにより超高真空装置に対応 ■取り扱いが容易な同軸ケーブル給電 ■メタルコンタミフリーの誘電体ライニング ■ラジカルビームの発生に優れた、バイアス電極付きの誘電体引出グリッド ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：ノベリオンシステムズ株式会社