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PRウルトラファインバブル水を使用した温水洗浄で、ボイラー燃料使用量を約3…
『 UP0814H』は、微細気泡(ウルトラファインバルブ)生成部を備える 温水洗浄機です。80℃の温水と比較して60℃のウルトラファインバルブ水 の方が洗浄(除塩・除油)効果が高く、温水温度を下げて使用可能です。 温水温度を80℃から60℃へ下げることでCO2を削減し洗浄時間短縮も短縮。 ボイラー燃料使用量は約30%削減でき、コストダウンに貢献します。 【特長】 ■微細気泡(ウ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社丸山製作所 産機営業部
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PRHFCを含まないフッ素系洗浄剤!様々な法規制に非該当!PC・ABS樹脂…
『ネクシアS-63』は脱脂洗浄に適したフッ素系洗浄剤です。鉱物油系加工油付着の鋼板・金型・ロール等の手拭き洗浄、金属加工部品の浸漬洗浄等が可能。他フッ素系洗浄剤と比べて、コストパフォーマンスに優れております。HFCを含まないフッ素系洗浄剤のため、環境に配慮した洗浄剤です。 『ネクシアS-63』の主な特長 1)HFC,臭素を含まないため、法規制の該当が少ないことによる扱いやすさ 2)オゾン破壊係数...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カネコ化学
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洗浄装置・UV/O3洗浄装置・ドライ洗浄装置・クリーナー(クリーニング装置)・ストリッパー(ストリッピング装置)
洗浄装置・UV/O3洗浄装置・ドライ洗浄装置・クリーナー(クリーニング…
ジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された研究開発用の洗浄装置です。...
メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社
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ドライ洗浄のプラズマ技術で環境を守り、半導体デバイスの生産性を大幅に向…
【掲載製品(抜粋)】 プラズマ装置 プラズマドライクリーナー プラズマ洗浄装置 プラズマクリーナー プラズマ自動機 プラズマエッチャー プラズマアッシャー ■PIPI ■PDC210 ■PDC510 ■PDC610 ■YSP600U/YSP2KU ■Y...
メーカー・取り扱い企業: ヤマトマテリアル株式会社
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H2(水素プラズマの還元力で各種基板表面クリーニング。表面酸化層除去効…
多用途に実績豊富なプラズマクリーニング装置に新タイプ登場。 従来のプラズマによる表面洗浄機能に加え、水素プラズマによる還元洗浄機能を実現。 今まで以上に表面酸化層の除去能力が向上し、クリーニング後の基板の親水性も大きく向上。 従来と同じプラズマクリーニングにも当然対応。さらに従来の...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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プラズマドライクリーナー プラズマクリーナー プラズマ洗浄装置
ご要望に合わせてカスタマイズ出来るプラズマクリーナー
ドライ洗浄のプラズマ技術で環境を守り、半導体 電子デバイス製造工程のアッシング、エッチングをはじめ、レンズ、医療処置具、チューブ、粉体洗浄、表面改質による印刷やコーティング材の密着(親水)性の改善により 生...
メーカー・取り扱い企業: ヤマトマテリアル株式会社
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基板、樹脂、粉体、医療、半導体…。あらゆる分野で使えるプラズマ技術の応…
マ表面処理技術」をまとめた技術資料を無償配布中です。 プリント基板、フィルム、樹脂、粉体、医療、半導体後工程といった 分野を問わず活用できるプラズマ装置。 剥離、有機物除去、表面改質・洗浄など幅広い分野に活用できる技術を 用途例と合わせて解説しています。 【応用例の概要】 ■フッ素系樹脂への親水化処理 ■プリント基板のデスミア処理 ■金属ナノインクへの低温プラズマ焼結 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研
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瞬時電圧低下による製品不良の発生と装置故障の損害からラインを守る『TS…
ター、パソコン、電磁開閉器、高圧放電ランプ、 マグネット・スイッチ付きモーターなどが瞬時電圧低下の影響を受けて 動作に支障をきたす可能性があります。 シリコンメーカ様では研磨、エッチング、洗浄工程等で影響を受ける 可能性があり、デバイスメーカ様ではCVD、スパッタ、フォトリソ、 エッチング、イオン注入、拡散、洗浄工程での影響が想定されます。 このため半導体の製造設備に対し「SE...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社シナジー
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