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■長所 ・ご要望に合わせたオーダーメイド ・均一な気体の拡散 ・…
複数の理由により、液体に様々な気体が拡散(スパージング)されます。例えば、廃水処理工場や水道水には酸素やオゾ ン、飲料や化学品製造工程においては、窒素や二酸化炭素が利用されます。GKN製エレメントを底に設置し、液体に気 体をスパージングします。 素 材:ステンレス プロセス:フィルター ■アプリケーション詳細 ・気体を均一に拡散するための安定した気孔 ・カスタム設計 ・ア...
メーカー・取り扱い企業: ダイアエンタプライズ株式会社 本社
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気泡の原因を元から除去!既存プロセスに後付けするだけで溶存酸素を10p…
半導体・電子部品、食品、医薬品、化粧品 業界の皆様からの問い合わせ多数! 通常の純水に溶け込んでしまう空気の成分である窒素、酸素のガス成分を減圧や気液分離方式で取り除き、コントロールすることにより減少させた脱気水を用いて、既存プロセスの歩留りを改善します。 ■特徴1:生産・検査・試験プロセスの歩留まり改善 液体に溶け込んでいるガス成分(窒素、酸素等)を高効率で除去、または供給することで液...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社東設 本社ヘッドオフィス
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キズがつかない!精密洗浄システム『スノーガンII』※デモ試用可能
廃液処理が不要!超微細ドライアイスパウダーでパーティクル・オイルを徹底…
精密洗浄システム『スノーガンII』は、純度99.99%以上の液化炭酸ガスで ノズルから、サブミクロンの超微細ドライアイスパウダーを噴射。 対象物にキズをつけず、パーティクル・オイル等の汚れを引きはがします。 また、ドライクリーニングのため、洗浄液の洗浄度管理・廃液処理が不要! 「ハンドヘルドタイプ」と「電磁弁タイプ」をご用意しています。 【アプリケーション例】 ■レンズ・ミ...
メーカー・取り扱い企業: オーテックス株式会社
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リフロー時における熱変形を高精度測定 半導体パッケージ・プリント基板・…
用により最大で10℃/secでの加熱が可能となり、リフロー時の温度プロファイルを忠実に再現できます。 幅広い温度範囲 正確な温度制御 試料の加熱・冷却・温度保持をおこなう恒温チャンバは、液体窒素流量制御とヒータ出力制御によりマイナス70℃から350℃までの温度範囲で正確な温度制御をおこないます。 充実した測定機能 各種解析サポート機能 多彩な解析と機能 ◇Surface測定・C...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社日立テクノロジーアンドサービス
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コンパクトなサイズ(1インチ〜2インチ)対応のMBE装置です。
蒸着源には、弊社製金属蒸着セル(KMD-Cell)を搭載しております。また、他社製蒸着セルの搭載も可能であり、ご指示頂きました蒸着セルをご選択可能な設計をしております。超高真空対応に、標準にて液体窒素用シュラウドを装着しております。基板加熱・回転機構を装備しております。窒化物半導体や酸化物半導体は、RFアトムソースを接続する事により、成長可能です。また、蒸着チャンバーを複数ドッキング可能な設計...
メーカー・取り扱い企業: 北野精機株式会社
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