太陽電池の最大電力点で動作「MPPT負荷装置」シリーズ

PR独自MPPT制御機能を採用し、様々な太陽光の照度・角度・温度条件で最大…

太陽電池モジュールの最大動作点（Pmax）で追従する装置です。 太陽電池の発電性能を評価するには、太陽電池を実際に発電状態にする必要があります。負荷を接続しないと電流は流れませんので、発電性能を計測できません。 本装置は太陽電池を接続することで、その出力電力を内部で熱に変換することにより消費します。最低限の計測環境を構築するだけで太陽電池の発電量計測が可能です（本装置内で毎秒電圧・電流・電力を...

メーカー・取り扱い企業： 日本カーネルシステム株式会社 本社

『アルマイト処理の受託サービス』

PR2700×650×1250mmの大型品や、400kgまでの重量物に対応…

当社は『アルマイト処理』を行うための工場を保有し、超大型の電解槽で 様々な形状・サイズのアルマイト処理を行っています。 高電流・高電圧のアルマイト処理で、鋳物・ダイキャスト製品への 均一な処理が可能。通電が必要な箇所はマスキング対応が可能です。 例えば、1250×2500mmのアルミ板材や、1個400kgの印刷ロールなどの 処理が容易に行え、治具の種類も豊富で複雑形状にも対応でき...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社富商 本社

高電流密度イオンビーム型イオン銃

EUROVAC社製VARIAN型廉価版3keVイオン銃

の製造をスウェーデンのストックホルムに移管し、製品、スペアパーツ、サービスサポート等を提供する製造メーカーとして信頼性の高い非常に優れた機器を低価格でご提供しております。 【特⾧】 　■ 高電流密度イオンビーム：サンプル表面のスパッタ洗浄及び薄膜構造の迅速で正確な深さプロファイリングに最適です。 　■ スイッチャブルデュアルフィラメント：真空サイクル中でフィラメントがバーンアウトした場合...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テク

高電圧パルス発生器

電圧・電流設定の操作、モニタ-を行う事が可能

・高安定度高圧電源(温度変動50ppm/℃)搭載。 ・電流、温度制御の時定数設定可能。 ・高電圧高速スイッチ(2KV-pp / 40ns)搭載。 ・各電源を機能別にモジュール化。 ・各電源の電圧、電流、温度モニタ機能。 ・負荷短絡時の保護機能。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社Ａ・Ｒ・Ｐ

リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【多目的真空蒸着装置】抵抗加熱蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用抵抗加熱蒸着源

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用の抵抗加熱蒸着源です。 抵抗加熱蒸着法は、最も一般的な真空蒸着プロセスです。ボート型やルツボ型の加熱容器に材料を置き、加熱容器に電流を流すことで抵抗熱を発生させ、材料を加熱します。加熱容器の温度が充分に上昇すると、容器内の材料が蒸発し始めます。蒸着レートは電流によって制御することが可能です。 抵抗加熱蒸着装置の利点はプロセ...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

リモートイオンソース型 HR-PVDスパッタリングモジュール

指向性成膜を実現し、リアクティブスパッタリングも可能な高イオン電流ヘリ…

AVP Technology社製 HR-PVDスパッタリングモジュール ・ヘリコンプラズマイオンソースを用いたリモートプラズマソースによりICPソースと比べ高いイオン化効率を実現しています。 ・傾斜角方向からの優れた直進性により、膜厚均一性およびステップカバレッジにおいても優れた結果を得ています。 ・リモートプラズマにより、基盤を低温に保っての成膜を実現します。 ・ターゲット利用効率においても優...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

平行移動式3元RFスパッタリング装置『MSS600-3』

ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能！

【仕様】 ■電源電圧：AC200V　三相3線式　50/60Hz（電源電圧変動：±10％） ■最大電流：250A ■運転可能周囲温度湿度：+5～+35℃/75%rhまで ■装置本体外形寸法(W×H×Dmm)：3940×1980×1550 ■装置システム敷地寸法(W×Dmm)：5000×3000...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社愛知真空

【多目的真空蒸着装置】電子ビーム蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用1源および4源電子ビーム蒸着源

偏向マグネットは使用しません。 TAUソースの各ポケットには、蒸気中に含まれるわずかなイオンを検出するための、"フラックスモニタリングプレート"が標準で搭載されています。ここで検出されるイオン電流値は、蒸着レートと比例関係にあり、サブモノレイヤーの膜を精密に成長できるほど高感度です。 4源同時蒸着モデルであるTAU-4には、4つのポケットにそれぞれ独立したフラックスモニタリングプレートが備...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

研究・開発用機器/超高真空機器

信頼性の高いシステムを構築！メンテナンスや改造も当社にお任せください

抜粋)】 ＜真空成膜装置＞ 　■RFマグネトロンスパッタ装置 　■対向ターゲットスパッタ装置 　■電子ビーム蒸着装置 ＜各種研究用装置＞ 　■高真空高温炉装置 　■基板加熱装置 　■電流導入端子各種 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ