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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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PR装置全体をコンパクト化し組立た状態で運搬する為設置工事を簡略化 !生…
『Deopo(デオポ)』は、従来の蓄熱燃焼式脱臭装置「RTO」の3塔式と回転式の 優れている要素を併せ持ち、ワンユニットにパッケージ化した装置です。 VOCの処理効率は98%以上、温度効率は95%以上の性能を持ち、従来品に比べ、 パージ部分の体積を最小にすることによりコンパクト化することが出来ました。 また、工場で組立した状態で運搬可能なサイズなので、標準装置の場合は 現地の荷降...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社サーマルプラント
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セラミック基板用のウエット処理装置です。 サーマルプリンタヘッドのフ…
小さな基板に対応したコンパクトな製造装置です。 サーマルプリンタヘッド(TPH)基板の 電極パターンを形成するフォトエッチングライン、 あるいはチップ抵抗基板用のめっき装置をご紹介します。 製造実績に基づき標準的な設備仕様も カタログで紹介...
メーカー・取り扱い企業: 進和工業株式会社 本社工場
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卓上型サーマル式 / プラズマ支援 原子層堆積(ALD)装置
Arradiance社製卓上型ALD装置 卓上型ながらプラズマユニット…
テーブルトップのコンパクトサイズALD装置ながら原子レベルレイヤーの成膜が可能。プラズマユニットを装備したPEALD装置もございます。 直径200mm、高さ25mmまでの構造物、カーボンナノチューブ(CNT)やグラフェンにも成膜可能。 酸化膜以外にも窒化物、PtやRuの金属の成膜も対応。 4系統のマスフロー制御プラズマ・ガス入力を備えた300W空冷ダイレクトICPプラズマヘッド 最...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイチ・ティー・エル HTL(エイチティーエル)
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航空機関係のお客様へ!クロムめっき代替となる表面処理技術として認証
【航空機部品用溶射皮膜の特性】 ■サーマルバリアコーティング(TBC) ・溶射法:プラズマ溶射 ・溶射材:セラミック、サーメットなど高融点材料 ・膜厚:0.5~0.7μm ・断熱被膜、高温耐食皮膜として燃焼筒、タービンブレ...
メーカー・取り扱い企業: 倉敷ボーリング機工株式会社
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金属意匠の外観と電波透過性・絶縁性を両立!6価クロムを使用しない環境対…
当社は、『クロムPVD』による電波透過・絶縁性の成膜、安価で調色工程が 不要な技術を確立しました。 【特長】 ■1MΩ以上の絶縁性 ■湿式クロムめっきと同等の色調 ■良好な密着性(サーマルサイクル試験) ■インジウム蒸着膜を超えるミリ波透過減衰量 ■6価クロムを使用しない環境対応型の成膜工程 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 柿原工業株式会社 本社工場
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加熱ヘッドHDR-0670はプラスチックカード幅54mmに対応した加熱…
加熱ヘッドHDR-0670はプラスチックカード幅54mmに対応した加熱ヘッドです。 100℃~200℃の加熱が中心です。 サーマル・リライタブルカードの消去 昇華型再転写(IDカード) プラスチック・カードのラミネート 保護層コーティング等 加熱の必要なカード、シートなどにご利用頂けます。...
メーカー・取り扱い企業: ハヤシレピック株式会社 第3事業部
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マザーテクノロジーで未来を拓く アールムテック サービスご紹介
【取扱い製品紹介】 ●温度信頼性試験装置 ハイタオ製サーマルショック装置は温度信頼性試験環境として -55℃→+125℃まで10秒で昇温 +125℃→-55℃まで16秒で降温 急速温度変化環境を提供します。 ●サップコールド 弊社相模原サービスセ...
メーカー・取り扱い企業: アールエムテック株式会社
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