『耐圧防爆型 自動制御機器』株式会社東邦製作所カタログ

PR製薬工場や、各種プラントの防爆エリアで使用可能なダンパーアクチュエータ…

「耐圧防爆型 自動制御機器 カタログ」では、容器内部で爆発性ガス爆発が起こった場合に、容器が圧力に耐え外部のガスに引火しないようにした耐圧防爆形製品を多数掲載しています。 空調用、プラント用ダンパのアクチュエータ「コントロールモータ」をはじめ、モータバルブやソレノイドバルブなどを取り揃えています。 【掲載内容】 ■コントロールモータシリーズ ■ソレノイドバルブシリーズ ■モータバ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社東邦製作所

命の水を確保。河水や雨水から純水を造る、レス救水。デモ機貸出中

PR【被災地・能登でも川の水や雨水から浄水。非常時の電源確保、移動可能なシ…

3.11東日本大震災や熊本地震での実機投入の経験を活かして開発を続けるレス救水。 年明け1/17・18の能登地震に対応して被災地・輪島で2カ所の調剤薬局に TOPレスキューXROを支援設置、川の水・雨水などから毎時1000Lの飲料水、 生活用水やトイレ用水などを浄水しました。 レス救水シリーズは、ガソリン発電機搭載の大容量を供給できるXROをはじめ、 太陽光パネル搭載で大容量のRO2から、50...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トップウォーターシステムズ

レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

高速高解像度レーザー露光装置

。グレイスケールリソグラフィーは伝統的なバイナリリソグラフィーと異なり、マイクロレンズやブレーズド回折格子のようなスロープパターンをレジスト上に再現する技術です。 『DWL 2000 GS』シリーズは最大描画エリアが200x200mm²もしくは400x400mm²あり、MEMS、BioMEMS、Micro-Optics、ASIC、Micro Fluidics、センサー、ホログラム、および微細...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

高速パターン・ジェネレータ

『VPG＋シリーズ』は、高速な露光速度により、大型マスク製造、レジストマスター作成、さらには様々な平面基板にも直接描画に対応できる高速露光システムです。 半導体、ディスプレー、センサー、MEMS、先端パッケー...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ

高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

『ULTRA』は、半導体用マスク作成に適した、高速高解像度レーザー描画装置です。 『ULTRA』高生産性、高精度性、高均一性、超高精度位置合わせ精度を備えるコスト性の良いマスク描画装置です。...【基本性能】 ■最小図形寸法：　500nm ■描画速度: 580mm2/分（FXモード時）、325mm2/分（QXモード） ■ラインエッジラフネス：20nm(QXモード） ■CD均一性：30...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

VPG 300 DI

VPGシリーズに300x300mm角基板まで対応した高速描画装置が加わ…

・高精細・高速描画 ・最大描画領域　300x300mm2 ...最小寸法0.5um、Line　Space 0.8umまで描画可能。 選択できるWrite Mode(最小寸法0.5um　または0.8um) 高出力DPSSレーザー 最大描画面積　300x300mm2 リアルタイムオートフォーカス オートローダー 基板検出機能 裏面アライメント機能 Zerodur採用 高精度微分干...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社