スパッタリング | イプロスものづくり

PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池やバッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や表面保護のためのコーティングにも対応。サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の用途に応じて組み立てることが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

3次元レーザ統合システム『ALCIS-1008e』

PR【変わる世界に、光でこたえを。】高出力Blueレーザによる高速・高品質…

『ALCIS』日々進化する素材や工程に対応する柔軟な加工機高出力Blueレーザ発振器/ファイバーレーザ発振器を搭載「高出力Blueレーザ」高出力BLUEレーザ（３kW/４kW）により、高速・スパッタレスの銅溶接を実現します。「スキャナヘッド」スキャナヘッドにより多数の加工点の高速加工を実現。コンビ加工、オンザフライ加工、スキャナ加工の三つの加工方法で、好適な加工方法を選択可能で...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アマダ（アマダグループ）

多目的スパッタリング装置

研究開発から量産までサポート！

容易。【各種　選択機能】 ●カソード変更（大型カソード化、4インチカソード多元化） ●高温加熱機構（800℃） ●バイアススパッタ機構【ラインナップ】 ●ロードロック式スパッタリング装置 ●マルチチャンバスパッタリング装置 ●超高真空対応枚葉式スパッタリング装置 ●サイドスパッタリング装置 ●カルーセルタイプスパッタリング装置 ●巻取式スパッタリング装置 ...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

Φ300mm基板対応　ロードロック式スパッタリング装置　

大型基板の自動搬送に対応し、研究開発～量産までの応用が可能な装置です。…

大型基板の自動搬送に対応したロードロック式スパッタリング装置です。【主な特長】・Φ300mmを例とする大口径基板のベア搬送が可能　（角基板の対応も可能です。）・独自設計のカソード機構により、汎用ターゲットサイズでの　広範囲膜...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

スパッタリング成膜

高エネルギーを利用して材料そのものを叩き出す、再現性に優れた成膜技術！

スパッタリング法は、プラズマ等により高いエネルギーをもった粒子（アルゴン）を成膜材料（ターゲット）に衝突させ、その衝撃で材料成分をたたき出し、ガラスやシリコンウエハーなどの基板上に堆積させることで、薄膜を形成する方法です。弊社では、イオンプレーティング法、真空蒸着法に加え、 スパッタリング法によるコーティングサービスも行っております。現在、スパッタリング法での対応膜種は、Ti、Ti...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社

空冷　小型スパッタ電源

ドイツ・ADL社製の、空冷式の小型スパッタ電源です。

「GSシリーズ：GS05-GS30」は、容量0.5 kWから 3 kWまでをカバーした全11型式がございます。主に研究開発用の小型スパッタ装置をターゲットにした製品です。すべて空冷式であり、煩わしい冷却水を導入する必要がございません。...以下のモデルがございます。型式　　　 DC-出力　　　　　　　　パーツ番号 GS 05/800 0.5 kW 800 V 0.9 A 03Z040...

メーカー・取り扱い企業：株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン

イオンビームスパッタリング装置

RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを…

●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。【装置仕様概略】　・スパッタリング用イオンソース　　フォーカスグリッド　・アシスト用イオンソース　　デフォーカスグリッド　・シングルステージ　・ターゲットホルダー　・排気系　・制御系【オプション...

メーカー・取り扱い企業：アールエムテック株式会社

ターゲット材、スパッタリング材用高純度シリコン製品（5N〜6N）

高純度シリコン製品（5N〜6N）をお客様の要望によってカスタマイズしま…

弊社では、高純度シリコン製品を製造する海外企業と密接な関係を作っており、お客様の要望に合わせた仕様の多結晶シリコン・インゴット、単結晶シリコン・ターゲット、単結晶スパッタリング・ターゲットを供給可能です。まずは弊社からのヒアリングにお答えいただき、サンプルを作成させていただきます。そのサンプルを実際にお手にとってご判断ください。きっとご満足いただけると思っております...

メーカー・取り扱い企業：テラスケープ合同会社

薄膜材料　スパッタリングターゲット・蒸着材料

スパッタリングターゲット、蒸着材料ともに高純度の製品をお届けします。

半導体をはじめ、さまざまな産業分野で活躍する各種薄膜材料。高純度貴金属にはじまり、高純度ニッケル・コバルト合金、希少金属材料と、高付加価値の薄膜材料を供給いたします。...【特徴】 ◯電極膜形成用ターゲット　湿式精製、高温精製技術を駆使した、極めて不純物の少ないターゲットを提供します。 ◯バリア膜形成用ターゲット　接合用ハンダ材料から拡散する各種元素からセラミックなどの基盤を守...

メーカー・取り扱い企業：株式会社タイヘイテクノサービス

アル株式会社　会社案内

グロバールなネットワークでお客様をサポート！ALUがお届けします

式会社は、1990年、薄膜部品のレーザー加工分野をサポートする技術商社として出発し、現在まで各種ウェハープロセス装置用の光源、互換部品、部材、表面処理部品、計測及び測定機器、研究開発用スパッタリング装置を輸入し、キーデバイスを製造する最前線のプロセス設計技術者のみなさんにお届して参りました。今後とも進化し続けるニーズ、例えば製造現場のFA化、超微細加工、センシング、...

メーカー・取り扱い企業：アル株式会社本社

膜厚モニター用水晶振動子

蒸着装置やスパッタリング装置などの真空成膜プロセスにおいて、膜厚モニターとして広く使われているQCM方式の膜厚計用の水晶振動子です。周波数は５ＭHzと６MHz、電極膜材料は金（Au）と銀（Ag）を揃えております。 ...

メーカー・取り扱い企業：有限会社アベニューマテリアル

プラズマＣＶＤ成膜

ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成！低温加工も可能です。

より励起や分解をさせて、基板表面で吸着、反応等を経て膜を形成する方法です。プラズマを用いるため熱ＣＶＤに比べて低温での製膜が可能です。また、イオンプレーティング法、真空蒸着法、スパッタリング法と比べて凹凸への付きまわりがよいのも特徴です。弊社では、イオンプレーティング法、真空蒸着法に加え、プラズマＣＶＤ法によるコーティングサービスも行っております。現在、プラズ...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社

アルゴンプラズマ（Arプラズマ）洗浄サービス

表面の汚れを除去！接合の安定化に最適なアルゴンプラズマ洗浄サービスをご…

アルゴンプラズマ（Arプラズマ）洗浄サービスは、アルゴンのプラズマを用いて基板や素子の表面をスパッタリングし、表面の数分子を洗浄除去します。接合の安定化に使用され、主にワイヤーボンドを行う前に利用されます。【サービス概要】 ■新しい機材や樹脂材料との接合強度を測定する際に、表面汚れを防ぐ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社佐用精機製作所

アメリカ製三酸化インジウム

ITO、IZGOスパッタリングターゲット用に実績多数！４N、５Nなど高…

＊微粒子グレードあり。BET値などご要望に応じて粒度調整可能。＊脱中国のソースとしてご検討ください。当社無機ファイン部HPもご覧ください。 ...　...

メーカー・取り扱い企業：蝶理株式会社無機ファイン部

シリコンゴムロール　シリーズ

μレベルの微細なゴミ除去、優れた摩耗性

本製品はクリーン用途に使用される各種フイルム基材、機能性フイルム、光学フイルム、蒸着・スパッタリング材料、金属箔やガラス基板などの印刷、コーティング、ラミネート、スリット加工等の加工、製造工程で使用されます。＜各種光学材料、ＦＰＤ用の液晶、ＬＥＤ、ＥＬ、ＰＤＰ等の表示材料、半導体材料、プ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社イワナカコーポレーション東京本社

USTRON株式会社　会社案内

自社生産ならではのスピーディかつ正確な情報を提供可能！各バッチに於いて…

USTRON株式会社は、薄膜材料、石英製品、及びその付属部品について 20数年間の生産経験を持っており、中国にある21,000m2余りの生産工場にて各種高純度蒸着材料及びスパッタリングターゲット材料等の生産をしています。厳しい品質管理により、各バッチに於いて安定した成膜を保証。薄膜技術の生産・研究に専念し、日々発展する業界の中でお客様の信頼できるパートナ...

メーカー・取り扱い企業： USTRON株式会社

スパッタリングターゲット市場レポート 2022

主要サプライヤーの情報等を掲載！スパッタリングターゲット市場とサプライ…

『スパッタリングターゲット市場レポート 2022』は、米国の半導体材料専門の調査会社テクセット社の調査レポートです。半導体デバイス製造に適用されるスパッタリングターゲット市場とサプライチェー...

メーカー・取り扱い企業：株式会社データリソース