• 【技術資料】焼成依頼前に必読!材料ごとの適切な炉×温度の対応範囲 製品画像

    【技術資料】焼成依頼前に必読!材料ごとの適切な炉×温度の対応範囲

    PR【研究・開発・OEM向け】焼成依頼前に知っておくと便利な《炉の設備×温…

    焼成依頼に役立つ『炉×温度×材料の対応範囲』について紹介した本資料は、「大気焼成炉の対応温度とその実績」や「雰囲気焼成炉の対応温度とその実績」、「所有炉の対応温度」などを図を使いながら分かりやすく紹介した資料です。 【掲載内容】 ■よくあるお悩み事 ■加工実績例 ■大気焼成炉の対応温度及び実績分野 ■雰囲気焼成炉の対応温度及び実績分野 ■所有炉の対応温度 ■分野別の焼成温度域 ■受託加工フロー ...

    メーカー・取り扱い企業: 新興窯業株式会社 工場

  • 受託加工サービス 製品画像

    受託加工サービス

    PR切断をはじめ、ポリッシング、積層などの工程をご紹介!当社の受託加工のご…

    脆性材の端面ポリッシング、および、端面塗布の受託加工をご案内 ショーダテクトロンでは、脆性材加工用機械装置の技術を活かして、矩形、円形、その他形状の硝材の端面ポリッシング加工、および自由形状の端面樹脂塗布の加工を受託致します。また、端面研磨に関しましては、協力工場を通して、インゴットご支給からのスライス、芯出し、端面研磨といった一貫した加工も承ります。 試作品や小ロットの加工をお考えでしたら、...

    メーカー・取り扱い企業: ショーダテクトロン株式会社

  • 標準バッチバッチタイプ蒸着装置(AMFシリーズ) 製品画像

    標準バッチバッチタイプ蒸着装置(AMFシリーズ)

    電子デバイス用途のスタンダードシリーズ。R&D用の多目的小型研究用から…

    半導体・MEMS・各種電子部品(センサー、水晶振動子等)の研究開発から本格量産まで幅広く対応する標準型蒸着装置のラインナップ。 全機種クリーンルーム、クリーンバキューム対応で各種選択機構を装備。 実績豊富な標準仕様から個別要求に細やかに対応。 蒸発源・加熱温度・基板機構(プラネタードーム・公転ドーム)操作・ロギングソフト 全てカスタマイズOK 社内デモ機でプロセステストも対応 幅広く柔軟な...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 自動車部品用蒸着装置(AAMF-C1075SR型) 製品画像

    自動車部品用蒸着装置(AAMF-C1075SR型)

    コンパクトな筐体で自動車外装品など大型樹脂成形品の全面成膜に対応 高速…

    『高速バッチ型樹脂用蒸着装置』は、自動車部品(外装品)など 樹脂成形品の蒸着加工に特化した専用蒸着装置です。 大口径の排気系とコンパクトなチャンバによる高速バッチ処理を実現。 シンプルな装置構成と高...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 大型樹脂基板用蒸着装置 製品画像

    大型樹脂基板用蒸着装置

    成膜前の高周波プラズマによる放電洗浄により、樹脂基板に対して高い密着力

    大型樹脂基板へ低温での高速成膜が可能。 自動車部品だけでなく電子機器への電磁波シールドにも実績を持っており、 大型チャンバ(φ2000)、電子銃蒸発源、大型排気系の組合せにより 大量バッチ処理による高品質装飾膜や電磁波シールド膜の生産に好適です。 【特長】 ■各種金属膜の低温形成(70℃以下) ■短時間バッチ処理 ■RFボンバードによる樹脂基板への膜の高い密着性 ■各...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」 製品画像

    多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」

    リフトオフ・厚膜・低温成膜対応 昭和真空の技術を結集させた最上位モデ…

    .7×-5Pa以下 ○排気速度 大気圧より4.0×10-4Pa迄20分以内 ○蒸発源 電子銃270°偏向、電源16kW ○基板加熱 MAX150℃ 常用100℃ ○膜厚分布 ±1%以内 (バッチ内、バッチ間) T/S=900mm ○排気系 クライオポンプ、ドライポンプ、メカニカルブースターポンプ ○真空槽 W800mm × D800mm × H1300mm、SUS304製 ○フット...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • 化合物半導体用蒸着装置(AAMF-C1650SPB型) 製品画像

    化合物半導体用蒸着装置(AAMF-C1650SPB型)

    先端光デバイスに最適な専用蒸着装置。低温・低ダメージ成膜で平滑な膜表面…

    6連式電子銃と移動式多元抵抗加熱蒸発源を装備したバッチ式高真空蒸着装置 標準ウェハプロセス対応蒸着装置よりチャンバ径をコンパクト化し小径ウェハに対応。 リフトオフプロセスに対応した垂直蒸着用の公転ドームと大量処理用の3面プラネタリー自公転ドームの...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • ウェハプロセス用真空蒸着装置 製品画像

    ウェハプロセス用真空蒸着装置

    膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を実現!高品質の電極膜を安定して形…

    『ウェハプロセス用真空蒸着装置』は、6インチまでのウェハへの 電極膜形成に対応したバッチタイプ蒸着装置です。 ディスクリートIC、化合物IC、MEMSデバイスの量産用途に 豊富な実績を持っています。膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を 実現するオイルフリー排気系により高品...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 側面電極用イオンプレーティング装置(面実装小型部品対応) 製品画像

    側面電極用イオンプレーティング装置(面実装小型部品対応)

    小型電子部品(面実装タイプ)の側面電極形成をドライ化。PVD(イオンプ…

    で高い密着威力を持つ電極膜を高速形成。 横型タイプを採用し、小さな設置面積で大きな処理量を実現。 電極の形成も密着層・接合電極も同一真空槽で一括形成。成膜前に効果的なプラズマクリーニングも同一バッチで実施。シンプルな装置構成で多層・マルチステップ処理を実現。 部品寸法・形状に合わせ治具や基板保持方法の細かく対応。信頼性の高い基本ハードとカスタマイズで多様な基板と生産ラインに対応。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 横型蒸着装置 製品画像

    横型蒸着装置

    両面成膜・端面成膜・コンパクト・大量バッチ処理。基板の自公転機構が蒸着…

    小型基板や小径ウェハの両面成膜、セラミック基板の端面成膜、マスク成膜に最適な独自基板機構を装備。 小型チャンバで大きな処理量を持つ標準横型蒸着装置。 蒸発源・加熱温度・排気系の各種選択可能。樹脂装飾用から電子部品量産の電極形成まで実績豊富な独自機構で対応 ...φ750から最大φ1000まで基板寸法と生産量に合わせて最適な処理量と蒸発源等各種機構が選択できます。 イオンプレーティング機構の...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • Epitaxial-EB蒸着装置 製品画像

    Epitaxial-EB蒸着装置

    最高900℃の高温プロセスが可能!エピタキシャル促進機構により単結晶成…

    る優れた膜厚分布および再現性を実現させ、またチャンバの メンテナンスが容易。 リフトオフプロセスにも対応しており、適切な表面処理によりパーティクル 低減させます。 マルチチャンバ仕様やバッチ式も製作可能です。 【特長】 ■酸化促進ガス導入機構 ■材料酸化防止機構 ■最高900℃ の高温プロセスが可能 ■ロードロック式による高真空プロセスに対応 ■リフトオフプロセスにも...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • 超高性能光学薄膜用蒸着装置 「Sapio 1300/1550」 製品画像

    超高性能光学薄膜用蒸着装置 「Sapio 1300/1550」

    低パーティクル仕様の超高性能光学薄膜用蒸着装置です。

    【特徴】 ○IRカットフィルターの20バッチ連続成膜においても  ヘーズ値(濁度)の増加を最小限に抑えられている ○排気・ベント手法の適正化・蒸発源近傍の防汚対策・電子銃の  チューニングを行うことにより低パーティクル化を実現している...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • ロードロック式EB蒸着装置 製品画像

    ロードロック式EB蒸着装置

    好適な表面処理によるパーティクル低減!ロードロック式による高真空プロセ…

    【その他の特長】 ■リフトオフプロセスにも対応 ■トレイ搬送にも対応 ■マルチチャンバ仕様やバッチ式も製作可能 ■各種オーダーメイドも製作可能 ■デモ機にてサンプル処理を実施 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

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