DrM社製ろ過装置『FUNDAWAVE/FUNDALOOP』

PRペプチド医薬品・バイオ医薬品・飲料製造などの精製濃縮プロセスに好適。簡…

当社では、製薬や飲食料品、電池の陽極製造など様々な分野における UF・MFプロセスの工程改善に貢献するDrM社製ろ過装置を多数取り扱っています。 【特長】 ＜クロスフローろ過システム『FUNDAWAVE』＞ ■平膜を振動させてろ過する工業用クロスフローろ過ソリューション ■ろ材表面のケーキ層形成やTMP(膜間差圧)の上昇を抑制し、高濃度・高粘度な濃縮を実現 ■フィードポンプの小型化...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社富士フィルター工業 本社

JPCA Show　実装プロセステクノロジー展 出展のご案内

PR実装関連製品を中心に「CAMソフトウェアを活用した省力化とミスらない作…

実装関連製品を中心に「CAMソフトウェアを活用した省力化とミスらない作業」を テーマに展示いたします。 実装関連製品、基板関連製品をデモを交え展示いたします。 是非当社ブースにお立ち寄りください。 会　場：東京ビッグサイト　東4ホール　4C-15/4C-17 会　期：2024年6月12日(水)～14日(金)　10：00～17：00 来場事前登録： https://jp...

メーカー・取り扱い企業： ダイナトロン株式会社

ＡＬＤプロセス用高速高耐久バルブ『TDFシリーズ』

高速開閉・高い応答安定性！特殊面間寸法や弁形状、耐腐食性材料ボディなど…

『TDFシリーズ』は、ＡＬＤ（原子層堆積）プロセスに必要な高速開閉、高耐久、耐食性、耐熱性、Cv安定性を兼ね備えた高純度ガス対応ダイヤフラムバルブです。 アクチュエータへの熱伝導を低減する構造を採用し、最高220℃までの 高温流体に使用可...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キッツエスシーティー

『事例』　高温・ALDプロセスで使用可能なバルブ ※無料進呈中

『流路まるごと事例集』バルブ全体を最高200℃ の高温環境で使用できる…

バルブ全体をヒーティングしたい、ハンドルを付けたまま恒温槽に入れられるバルブ、ガス量の安定と再現があるバルブ欲しいなど、お困りごとはありませんか？ KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。気になる事例がありましたらイプロスまたは当社ホームページ経由でお問い合わせください。 ホームページ：https://www.kitzsct.com/con...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キッツエスシーティー

『事例集』固体材料供給における高温化の課題への提案※無料進呈中

半導体材料メーカー様　必見！固体材料供給における高温化の課題への提案の…

250℃の供給プロセスでオールメタルバルブを使用しているが、耐久回数に不満がある。 200℃の供給プロセスでシート交換できないバルブを使用しているため、バルブを交換しなければならず、ランニングコストがかさんでしまう。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キッツエスシーティー

高温対応バルブ　SCVサブマージブルバルブ『TD-Sシリーズ』

高温環境(最高200℃)で多種多用なガスに使用可能な集積化ガスシステム…

ガスシステム対応のダイヤフラムバルブです。 バルブ全体を最高200℃までの高温環境で使用できることにより 効率の良いヒーティングが可能。 流量の再現性が求められる原子層堆積（ALD）プロセスのプリカーサ （前駆体）供給に適しています。 【特長】 ■高温環境に対応 ■安定したCv値 ■PFAシートの採用 ■多種多用なガスに使用可能 ■高耐久 ※詳しくはPDF資料...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キッツエスシーティー