フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

JUKI新製品公開！6/12~14実装プロセステクノロジー展出展

PRJUKI Smart Solutions「高効率、最適化、高品質な生産…

JUKIは6/12(水)～6/14(金)に東京ビッグサイトにて開催される 「第25回 実装プロセステクノロジー展」に出展いたします。 今回の実装プロセステクノロジー展では、 JUKI Smart Solutions「高効率、最適化、高品質な生産プロセスの実現でお客様の課題を解決」 をテーマに、プラネットヘッドP20Sを加えた「高速フレキシブルマウンタ LX-8」をはじめ、 世界初公開...

メーカー・取り扱い企業： ＪＵＫＩ株式会社

省エネ型窒素ガス発生装置『NE-IIシリーズ』

省スペース+省電力で発生量増加を実現！1m3辺りの消費電力を最大26.…

『NE-IIシリーズ』は、20-180Nm3/hの発生量をコンパクトな筐体設計で可能 とし、プロセスの改良により、窒素発生量を従来機種比で約36.5%アップした 省エネ型窒素ガス発生装置です。 パネル扉の採用により、前後左右のメンテナンススペースが600mmのみで、 余分な設置スペース...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社弘輝テック 本社

コンプレッサ内蔵型窒素ガス発生装置『N2 IMPACT II』

窒素ガスの使用量により、最大49%の電力を削滅！駆動電力の大幅な削減が…

により、駆動電力の大幅な削減が 可能になったコンプレッサ内蔵型窒素ガス発生装置です。 従来機種ではN2ガス使用量が減少しても駆動電力は一定でしたが、当シリーズ ではN2ガスの使用量と制御プロセスを無段階に自動演算する事で、使用流量に 応じた省エネ運転が選択可能に。 N2発生プロセスの改良により、既存シリーズと同じモータ出力のコンプレッサ を使用し、N2ガスの発生量を最大27.3...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社弘輝テック 本社