サーモクーラー　極低温SAMOL「VL-2F2/VL-3F3」

PR-50℃の極低温状態を、あなたの机上に実現！高性能の電子冷却システム

日本ブロアーのサーモモジュール電子冷却システムSAMOLファミリーに、極低温環境を机上に実現するVLシリーズが登場しました。 従来品では-10℃が実現最低温度でしたが、高機能のVl-3F3では-50℃(VL-2F2では-30℃)の冷却空間を作り出します。 温度管理は専用コントローラーで±0.1℃単位で設定できます。 コンプレッサーを使用しないため騒音もありません。 理学や薬学関連の...

メーカー・取り扱い企業： 日本ブロアー株式会社

データ消去サービス＜データ消去技術のガイドブック進呈＞

PRHDD・SSD、磁気メディア、スマートフォンなど様々なメディア・デバイ…

当社では、情報漏洩リスクが発生する情報機器の処分・再利用時に、 高いセキュリティ環境下でデータ消去を確実に行うサービスを提供しています。 第三者機関ADEC（データ適正消去実行証明協議会）より、 消去サービス事業者の認証を最上位レーティングで取得し、 消去の方法やステータス、タイムスタンプなどを記入した証明書を発行可能。 入庫からデータ消去、出荷まで一連の作業を専用エリア内で完結...

メーカー・取り扱い企業： 日本ビジネスロジスティクス（JBL）株式会社 藤沢北事業所

【共同研究】活性剤の洗浄性 低スタンドオフ部の残留性検証

リーク電流の発生や絶縁抵抗性の悪化に直接的に起因！洗浄ノウハウをご紹介

はんだを使用した接合工程において優れた無洗浄技術が確立している 日本市場ではありますが、 様々な課題が生じるケースが増加しており、 年々洗浄の需要は高まっています。 増加し続ける洗浄需要の背景の一つとして、イオン残渣への対応が あげられます。 イオン残渣は、基本...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【共同研究】Sn-Bi系低融点はんだペースト洗浄性検証

金属塩(Bi塩)の形成における課題解決策などを掲載！洗浄性検証を共同で…

として焼結後 の金属塩(Bi塩)の 形成があります。 Bi塩は、マイグレーション発生の原因になる可能性があり、有機溶剤に 溶解しにくく、洗浄は困難です。 そこで、Bi塩形成の課題を解決するため、日本スペリア社様が開発した Sn-Bi系低融点はんだペーストにおいての洗浄性検証を共同で行いました。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 ※PDF資料はパワーデバイスの進化と課題について解...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

溶剤系洗浄剤によるフラックス洗浄の落とし穴

イオン残渣見逃していませんか。フラックス洗浄の落とし穴について解説

業において 不可欠な存在であり、使用を完全に止めることは難しいのが現状です。 近年では各業界における技術躍進と企業努力により、有機溶剤の使用量・ 大気排出量は大きく削減されてきていますが、日本の電子デバイスの フラックス洗浄において、有機溶剤を主体とした洗浄剤が広く使われています。 しかし、フラックス洗浄は実質的に「複合物質残渣洗浄」へと変化しており、 溶剤系洗浄剤は、ロジンな...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【資料】洗浄の新たな課題 洗浄方法の適正化

洗浄技術も進化が問われている！どのような点が問題となっているかなどを掲…

物質への対応力やソルダリングの洗浄の今後についてなどを 画像や図、詳しい解説を交えて掲載しておりますので、 是非ご一読ください。 【掲載内容(一部)】 ■はじめに ■「洗浄」への認識 日本は特殊な環境 ■難溶性物質の台頭 ■難溶性物質への対応力(MPC洗浄剤) ■ソルダリングの洗浄の今後 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

5Gにまつわる技術課題例

5Gの開発担当企業に開発の裏側について！洗浄ノウハウをご紹介

新型コロナにより、さらに注目されている「5G」。 日本では2020年春から商用サービスがスタートしており、携帯電話だけでなく 自動車、産業機器、医療などの様々な分野において、インパクトを与えると 言われています。 4Gよりさらに進化した技術と...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社