• 一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末 製品画像

    一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末

    PRサブミクロンから塊状まで幅広くカスタマイズ可能なSiOパウダー。LiB…

    当社は、リチウムイオン電池(LiB)負極材料などとして活用可能な 『一酸化ケイ素(SiO)』を提供しています。 粉末状(1~100μm)、粒状(1~5mm)、塊状(50~200mm)に対応し、 サブミクロンレベルまでカスタマイズ可能です。 1μmの粉末でSiO純度99.8%、5μmの粉末でSiO純度99.9%などの製品事例があります。 【特長】 ■製造方法:結晶化学気相成長法 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • 266nm ナノ秒パルス 固体レーザー 製品画像

    266nm ナノ秒パルス 固体レーザー

    産業用 266nm パルスレーザー 0.5W-3Wモデル

    で使用されています。多くは24/7で運用されており、高い信頼性能を評価されています。 付属のGUIソフトによるPC制御で各種パラメータ設定、モニタリングが出来ます。 高品質・高信頼性能の4倍波結晶を採用しています。 GUI上から結晶のスポットを変更できます。 ...

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    メーカー・取り扱い企業: サンインスツルメント株式会社 本社

  • 現像機洗浄剤 製品画像

    現像機洗浄剤

    結晶などの汚れを綺麗に除去!泡タイプの現像機洗浄剤

    『現像機洗浄剤』は、ラックやタンクに付着した結晶などの汚れを 綺麗に除去します。 現像~乾燥までの全ての部品にご使用いただけます。 (乾燥ラック中の布ローラー等) 【特長】 ■泡タイプ ■本体の外装部分の清掃にもご使用可能 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ラットコーポレーション 本社:営業部・業務部

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