• 4インチ対応 ウェハーワックス貼付装置『TEC-1006ZR』 製品画像

    4インチ対応 ウェハーワックス貼付装置『TEC-1006ZR』

    セラミックプレートへの多数枚ウェハー貼付作業を自動化に!

    『TEC-1006ZR』は、4インチ対応のウェハーワックス貼付装置です。 ウェハーの貼付平坦度の安定化を実現。 多数枚ウェハーに対応できます。 2インチは最大10枚、3インチは最大5枚、4インチは最大3枚まで 貼り付けが可能です。 【特長】 ■ウェハーの貼付平坦度の安定化を実現(当社実績2.5um) ■多数枚ウェハーに対応可能 ■ヒーター、WAX塗布、プレス、冷却などの...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社くまさんメディクス MPSD事業部 大津第1工場

  • 化合物半導体プロセス用 ICPエッチング装置 製品画像

    化合物半導体プロセス用 ICPエッチング装置

    化合物半導体プロセス用 ICPエッチング装置

    tively Coupled Plasma)を 採用した化合物半導体プロセス用多数枚処理エッチング装置 【特徴】 ○Φ330mmの大型トレーに対応  Φ2インチウェハーなら27枚、Φ2.5インチウェハーなら17枚、  Φ3 インチウェハーなら12枚、Φ4インチウェハーなら7枚、  Φ6インチウェハーなら3枚同時の処理が可能 ○新型のICPソースであるSSTC(Symmetrica...

    メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社

  • 2500万画素、150fpsの高速カメラ 製品画像

    2500万画素、150fpsの高速カメラ

    2500万画素、150fpsの高速フレームレートの小型CoaXPres…

    『VCC-25CXPHS』シリーズは、2500万画素での撮影に対応したCoaXPressカメラです。 コンパクト・高解像度・長距離伝送といった従来機の特長はそのままに、 最速150fps(CXP-12・8bit時)の高速フレームレートを実現しており、高速移動するワークを鮮明に捉えることが可能です。 液晶・基板・半導体ウェハなどの外観検査用途、計測やロボットビジョン、ドローン搭載、研究・観...

    • VCC-25CXPHS-H(背景あり).png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社シーアイエス

  • SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4 製品画像

    SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4

    最大4インチ角基板対応 手動露光機

    ズースマイクロテックMJB4は最大4インチ角基板まで対応可能な手動式マスクアライナ(露光装置)です。 シンプルな操作性、高精度アライメント、高い露光解像性が特徴です。 研究開発用途以外に少量生産用途でもご使用頂けます。...・対応基板サイズ 小片 5×5mm~最大φ100mm ※100×100mm対応はオプション ・露光モード コンタクトソフト, ハード, バキューム ギャップ露...

    メーカー・取り扱い企業: 兼松PWS株式会社

  • 角形基板専用ダイサー『ADT7300シリーズ』 製品画像

    角形基板専用ダイサー『ADT7300シリーズ』

    サイズは最大9インチ×12インチ!2つの構成がある単軸ダイシングソーの…

    『ADT7300シリーズ』は、角形ワークのダイシングが可能な単軸ダイシングソーです。 「7302」は、壊れたブレード検出器(BBD)と最大2.2kWの高出力2インチスピンドルの 2つのオプションで構成。 「7304」は、硬質材料のダイシングに対応する最大2.5kWの高出力スピンドルを 備えた4インチ全自動ダイシングソーで、最大外径5インチのブレードで構成でき、 厚さ10mmまでの...

    メーカー・取り扱い企業: 日本技術産業株式会社

  • SUSS MicroTec 手動マスクアライナMA/BAGen4 製品画像

    SUSS MicroTec 手動マスクアライナMA/BAGen4

    最大8インチ対応角基板まで対応可能 セミオートアライメント対応露光…

    ズースマイクロテック MA/BA GEN4 は最大8インチ角基板まで対応可能なセミオートアライメント対応の露光機です。MEMS、光学部品の製造、化合物半導体などのR&D、少量生産用途に対して最適な装備を備えています。最適化されたアライメントマーク観察光学系と画像処理機能によりバラツキの少ないアライメントが行えます。...・対応基板サイズ MABA6 : 小片~最大φ150mm MABA8 : ...

    メーカー・取り扱い企業: 兼松PWS株式会社

  • レーザー直接描画装置『DWL 66+』 製品画像

    レーザー直接描画装置『DWL 66+』

    研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

    『DWL 66+』は、研究開発用途および小ロット生産やマスク作成やマスクレス露光に適した、高解像度のレーザー直接描画装置です。 マイクロストラクチャの製作と分析に必要な機能を、標準システムとして 装備。 処理能力が高く、また、対応範囲も広いため、MEMSやマイクロ光学など マイクロストラクチャ製作が必要なアプリケーションの研究開発に貢献します。 【特長】 ■マスクレス露光や...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • 常圧CVD装置「AMAX800V」 製品画像

    常圧CVD装置「AMAX800V」

    優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

    常圧CVD装置「AMAX800V」は、φ200mmウェーハ対応、モノシランガスの反応特性を応用したUSG、PSG、BPSG等の絶縁膜およびシリコン基板の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。 搬送機構の改良により高スループットを実現しました。 SiCトレーの採用により重金属汚染は発生しにくくなり、また熱による経年変化が少なく安定したプロセス性能が得られます。 【特徴】 ○高スル...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社天谷製作所

  • ウォールマウント型IPC AT-IPCW003 製品画像

    ウォールマウント型IPC AT-IPCW003

    デジタルI/O搭載の小型機

    ウォールマウント型産業用コンピュータです。長期供給が可能、動作温度範囲 -25℃~65℃、2.5インチHotswapベイ装備、絶縁型DIOインターフェースを装備、DC入力9 ~ 50Vに対応...

    メーカー・取り扱い企業: アナログ・テック株式会社

  • 近赤外無限遠f=200mm結像顕微鏡 製品画像

    近赤外無限遠f=200mm結像顕微鏡

    InGaAs(SWIR) カメラ対応顕微鏡

    InGaAs(SWIR)カメラに対応。 900-1700nmで高透過率のf=200mm結像鏡筒。 1.1インチセンサー対応 Cマウント 同軸ケーラー照明 ...近赤外線専用対物レンズPEIRシリーズ 1x、2.5x、10x、20x、50x、100x 2000nmまで高透過率を持つPEIR2000HRシリーズ 20x2000HR、50x2000HR...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社清和光学製作所

  • GNCパターンウエハサービス等受託加工サービスのご紹介 製品画像

    GNCパターンウエハサービス等受託加工サービスのご紹介

    基板の手配、マスク設計からの一貫生産の対応が可能!グローバルネット株式…

    グローバルネット株式会社では、GNCの加工ファンドリーをはじめ、 GNCパターンウエハサービス等を提供しています。 シリコンウエハ、ガラスなどを主に、お客様のニーズに応じた 加工サービスを提供。 基板の手配、マスク設計からの一貫生産の対応が可能です。 【事業概要】 ■GNCの加工ファンドリー ・成膜ファンドリー ・プロセス評価 ■GNCパターンウエハサービス ・GN...

    メーカー・取り扱い企業: グローバルネット株式会社

  • ウォールマウント型IPC AT-IPCW004 製品画像

    ウォールマウント型IPC AT-IPCW004

    デジタルI/O搭載の小型機

    ウォールマウント型産業用コンピュータです。長期供給が可能、動作温度範囲 -25℃~65℃、2.5インチHotswapベイ装備、絶縁型DIOインターフェースを装備、DC入力9 ~ 50Vに対応、DINレールブラケットオプション...

    メーカー・取り扱い企業: アナログ・テック株式会社

  • ロードロック式周波数調整装置 「SFE-B03-II」 製品画像

    ロードロック式周波数調整装置 「SFE-B03-II」

    コンパクト設計・高精度・低価格・高安定・高再現性

    ロードロック式周波数調整装置 「SFE-B03-II」は、省スペース・高精度・低価格、タクトタイム0.4 s/pcs以下を実現しました。(※SMD3.2 × 2.5, 24 MHz, H1000 ppm/s, L50 ppm/s の場合) 新型イオンガン (ビーム幅: 100 mm) 搭載で、標準24~32個同時処理が可能となりました。 高精度・高安定・高再現性の搬送機構により、2.0 × 1...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

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