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PRSi純度2N~4N、粒度分布50nm~3mmに対応。ニーズに合わせカス…
当社は、用途に応じた純度や粒度分布のカスタマイズに対応可能な 『シリコン(Si)粉末』を提供しています。 Si純度は2N(Si>99.0%)、3N(Si>99.9%)、4N(Si>99.99%)、 粒度分布は微粉末(100nm~)、粉末(1.0μm~)、粒体(1~3mm)に対応。 プラズマアーク合成により50nmまでの微粉化を実現した『超微粉末』もあり、 超微粉末はSi純度2Nに...
メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社
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PR【動画公開中!】電線ケーブルのぐちゃぐちゃから解放!束状電線を絡ませず…
『TCF1000X』は、束状電線を絡ませずに束の外側から引出し加工機械に 自動供給できる繰り出し装置です。 測長切断加工機械の速度に合わせて無段階に速度を調整します。 電磁ブレーキ機構を新たに内蔵しているので回りすぎる事もありません。 オプションの連滑車取付けで軽負荷に対応出来るので、耐寒チューブなど 延び易い材料にも対応出来ます。 【特長】 ■束の外径は580mmまで対...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ダイショウ
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Ni/Cr/Wなどに対応! ソフトウェア制御で高精度コントロールを実現
「SC-701HMCII」は、W(タングステン)/Ni(ニッケル)/Cr(クロム)/Ti(チタン)等の薄膜作製に適したマグネトロンタイプのプログラマグルスパッタコーターです。 フルオートとマニュアルの2通りの操作が可能で、ビギナーユースからプロフェッショナルユースまであらゆるニーズに応えます。ソフトウェアにるシステム制御により、成膜条件をより細かに、かつ格段に高い精度でコントロールすることができ...
メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社
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簡単操作のTMP排気システム採用!拡張性に優れたテーブルトップ型真空蒸…
「SVC-700TMSG/7PS80」は、TMP+RP型の抵抗加熱式真空蒸着装置です。コンパクトさと使い勝手の良さにこだわった装置です。 排気装置「SVC-700TMSG」と蒸着電源「SVC-7PS80」から構成されています。 シンプルかつイージーオペレーションで、将来の機能拡張までをも考慮しています 豊富なオプションにより、薄膜作製実験の幅が拡がります。 また、専用オプションにより、有機物の薄膜...
メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社
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コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物…
『SVC-700RFIII』は、卓上に置けるコンパクトなサイズながらφ2インチのカソードを3基搭載。3種類のターゲットを使用した積層膜の形成が可能なRFマグネトロンスパッタ装置です。 ガス導入機構を増設でき、アルゴンガスを含めた最大3種類のガス導入が可能。 金属薄膜に加え、絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜など様々な薄膜作製に対応できます。 【特長】 ■研究開発向けのデスクトップサイ...
メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社
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Ni、Cr、W、Ti、Al等多種金属対応のハイスペックコンパクトコータ…
QUICK COATER SC-701HMC IIは、Ni、Cr、W、Ti、Al等、多種金属対応のハイスペックモデルです。 ソフトウェア制御で高精度コントロールが可能。各種金属の薄膜作製を手軽に行なえます。 【特徴】 〇プログラマブルスパッタコーター 〇フルオート/マニュアルの2タイプの操作 〇シャッター標準装備...【仕様】 ○ターゲットサイズ:φ49mm 〇適用可能ターゲット...
メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社
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