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PRR&D用特殊仕様から量産向けまで対応可能!一般的なグリッドと比較して約…
当社で取り扱う、「イオンビームエッチング(IBE)・成膜装置(IBD)」を ご紹介いたします。 標準的なエントリーモデルから、膜厚均一性等の精密な制御が可能な ハイエンドモデルまでラインアップ。企業、アカデミアでの研究開発向けに、 グローブボックス付属等の特殊仕様にも対応します。 また、R&Dのラボスケールから量産まで対応し、難エッチング材料のエッチング プロセスや、デュアルイ...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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PRSi純度2N~4N、粒度分布50nm~3mmに対応。ニーズに合わせカス…
当社は、用途に応じた純度や粒度分布のカスタマイズに対応可能な 『シリコン(Si)粉末』を提供しています。 Si純度は2N(Si>99.0%)、3N(Si>99.9%)、4N(Si>99.99%)、 粒度分布は微粉末(100nm~)、粉末(1.0μm~)、粒体(1~3mm)に対応。 プラズマアーク合成により50nmまでの微粉化を実現した『超微粉末』もあり、 超微粉末はSi純度2Nに...
メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社
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設置・移設が容易な一体型ユニット!2軸強制練りバッチ式ミキサで高い混練…
【仕様(一部)】 ■NEO500 ・ミキサ容量(軸下容量):0.5m3 ・処理能力(2分バッチ):~15m3/H ・ミキサ動力:30kW ・コンベヤ排出方向は左右変更可能 ・水タンク:300リットル ■NEO100 ・ミキサ容量(軸下容量):0.1m3...
メーカー・取り扱い企業: 日工株式会社 事業本部
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