• 貼るだけで熱対策!薄くて軽い輻射放熱シート PAL-350A 製品画像

    貼るだけで熱対策!薄くて軽い輻射放熱シート PAL-350A

    PR貼るだけで熱対策!小型化・軽量化が求められる発熱部品や筐体の熱対策に貢…

    熱伝導率の高いアルミフィルムに輻射率の高い放熱塗料をコーティングし、粘着加工した製品です。 熱を赤外線等に変換し、放熱します。 ヒートシンクと比べて非常に薄いため、スペースに限りがある場所の熱対策に適しています。 【特長】 ■発熱体へ直接貼りつけることで輻射(ふくしゃ)放熱による熱拡散効果を付与 ■総厚が約110μm程と非常に薄い ■ふっ素樹脂を加えることで耐候性に優れる ■使用...

    • s_輻射放熱シート_カット品.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 中興化成工業株式会社 本社

  • 耐薬品性と弾性を持ったOリング『GTジャケットOリング』  製品画像

    耐薬品性と弾性を持ったOリング『GTジャケットOリング』 

    PR【サンプル提供可能】ゴムの弾性とフッ素樹脂の耐薬品性を兼ね備えたOリン…

    GTジャケットOリングはフッ素ゴムまたはシリコンゴムをフッ素樹脂で完全に被覆し、ゴムの弾性とフッ素樹脂の耐薬品性を兼ね備えたOリングです。JISサイズ・AS568Aといった規格品から内径6.1mm~3,568mmまでの特殊寸法品も対応。 【特長】 ■高い耐薬品性 ■広い寸法範囲 ■広い使用温度範囲 ■継ぎ目がスムーズでシームレス ■強靭・優れた電気絶縁性 ※サンプル提供可能で...

    メーカー・取り扱い企業: マスオカ東京株式会社

  • VUV-5K (紫外光源) 製品画像

    VUV-5K (紫外光源)

    真空紫外光源の紹介

    輝度の高い紫外光源(真空紫外光源)のご紹介です。 【詳細】※英文 The Scienta VUV5000 is a high intensity, narrow bandwidth extreme UV source. It provides radiation con-centrated to He I (21 eV and 23 eV) and He II (41eV). T...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • Oxygen Atom Beam Source OBS 製品画像

    Oxygen Atom Beam Source OBS

    Oxygen Atom Beam Source OBSの製品情報となり…

    The Oxygen Atom Beam Source OBS is a thermal gas cracker which produces an ion-free oxygen gas beam. The OBS do...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • HAXPES-Lab(ラボ型硬X線光電子分光分析システム) 製品画像

    HAXPES-Lab(ラボ型硬X線光電子分光分析システム)

    放射光施設でのみ可能であった硬X線光電子分光がラボでも使用可能に!

    a ka単色化線源により9.25keV励起による高分解能硬X線光電子分光を実現いたしました。 【用途】 表面より深い領域での試料のXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 HAXPES-Lab is designed to allow hard X-ray photoelectron spectroscopy (HAXPES) measurements in standa...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • HAXPES Lab system 製品画像

    HAXPES Lab system

    "A window to the bulk" 、"ビームタイムをお手元…

    硬X線を励起源とするラボタイプの光電子分光システムです 硬X線光電子分光法(HArd X-ray PhotoElectron Spectroscopy : HAXPES)は、 多くの放射光施設が既に導入している、次世代の光電子分光(XPS)の一つです。ビームラインより、膜の下...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • Custom MBE Systems(真空蒸着装置) 製品画像

    Custom MBE Systems(真空蒸着装置)

    真空蒸着装置の紹介です。

    niques. ●Combined UHV SPM / XPS / UPS / MBE system ●Hybrid (PLD) Laser-MBE System (based on a LAB10 MBE System) ●UHV PLD and MULTIPROBE Compact ●Charge & spin transport in graphene layers on 2 ...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKO 製品画像

    CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKO

    CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKOの製品情報…

    icon MBE. The SUKO provides a very clean and constant flux at a low deposition rate up to 2 Å/min. A maximum total layer thickness of 5 μm C with one filament is reported. 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • R3000 (光電子アナライザー) 製品画像

    R3000 (光電子アナライザー)

    XPS/UPS/ARPES 分析アナライザーの紹介

    XPS/UPS/ARPES分析アナライザーのご紹介です。 【詳細】※英文 With its 135 mm mean radius and mu-metal analyzer vacuum tank the S...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • HYDROGEN ATOM BEAM SOURCE HABS 製品画像

    HYDROGEN ATOM BEAM SOURCE HABS

    HYDROGEN ATOM BEAM SOURCE HABSの製品情報…

    The Hydrogen Atom Beam Source HABS is a thermal gas cracker which produces an absolutely ion-free hydrogen gas be...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

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