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PR産業用オートメーションの現場にフィット!x86産業用コンピューターBX…
Moxa社の新製品『BXP/DRP/RKSシリーズ』は、 ボックスタイプ、DINレールマウントタイプ、1Uラックマウントタイプの 3つのホームファクターがベースの全75モデルからなる 堅牢性と信頼性に優れたコンパクトサイズのx86産業用コンピューターです。 現在、ファクトリーオートメーション、リテールオートメーション、 輸送オートメーションでの活用例をご紹介したアプリケーションノート...
メーカー・取り扱い企業: アイ・ビー・エス・ジャパン株式会社
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ハロゲン系反応性腐蝕性特殊ガスに対し、耐蝕性が非常に高く極めて優れた性…
半導体製造ガスラインなどに用いられる(株)ピュアロンジャパン製セラミックガスフィルターです。 フィルター構成部材には、フィルターハウジングにハステロイC-22を、そしてフィルターエレメントにはセラミックスを使用しております。これら全ての部材は、HBr、HClなどのハロゲン系反応性腐蝕性特殊ガスに対し、耐蝕性が非常に高く極めて優れた性能を発揮いたしま...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ピー・ジェイ
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【HTシリーズ基板加熱ヒーターMax1900℃】Φ1〜8inch
プレート最高温度Max1900℃。HV, UHVほか過酷なプロセス環境…
アルミプレート表面温度Max 1600℃ 対応可能サイズ Φ1〜8inch用、及び最大150mm角まで 超高温・超高真空対応フルカスタムメイド基板加熱ステージ ◉ヒーターエレメント: ・C/Cコンポジット Max1700℃ ・SiC3(炭化珪素)コーティンググラファイト Max1300℃ ・TiC3(チタン・カーバイド)コーティンググラファイト Max1900℃ 高純度・耐...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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ダブルフェルールタイプ継手「BI-LOK」【高品質!低価格!】
様々な流体を低温から高温まで確実にシールする継手です!
部はすべて同じ材質(SUS316)で構成 ●広い温度範囲で低温から高温まで使用可能 【仕様】 ●使用温度領域:-196~+600℃(SUS316) -196~+200℃(C3604、C3771) ※圧力により、使用可能温度領域も変動します。 ●RoHs対応品(SUS316) ※詳しくはカタログをご覧いただくか、お気軽にお問合せ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: イハラサイエンス株式会社
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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排気ガス中の有害成分を専用触媒により除去します。
● 反応副生成ガスにも対応 カーボンナノチューブCVDプロセスで使用される NH3(アンモニア)の他 副生成される可能性が ある毒性の強いHCN(シアン化水素)にも対応。※1 ● 視認性に優れたデザイン 集合表示灯及びタッチパネル(オプシ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社巴商会 管理部署:企画営業部
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高濾過精度
【特徴】 ○高濾過精度で定評のあるセラミックスエレメントタイプ(0.003μm)と、メタルエレメントタイプ(0.003μm)があります。 ○Cシール/H1Gシール/Wシールに対応しています。(Cシール/Wシールは1.125インチタイプも対応しています) ○数LPMの少流量から120LPMまでの大流量タイプをラインナップしています。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ピー・ジェイ
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ヨーロッパ 発の技術!Leuven instruments装置の日本国…
・Shale Cシリーズ:ICP CVD(誘導結合プラズマCVD) 低温条件(<120℃)で緻密な成膜を実現可能 プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える 高アスペクト比の穴埋めに適用 ・Shal...
メーカー・取り扱い企業: 日星産業株式会社
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ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置!実験~量産に幅広く対応…
リコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能 ■幅広い温度の工程に対応可能 ■エッチングの速度と均一性を精密制御 ■BOSOH工程に対応可能 【成膜機種(一例)】 Shale Cシリーズ: ■ICP CVD(誘導結合プラズマCVD) ■低温条件(<120℃)で緻密な成膜を実現可能 ■プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える ■高アスペクト比の穴埋めに適用 ...
メーカー・取り扱い企業: 日星産業株式会社
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ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。 熱CVD、低温~高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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ポリパラキシレン(パリレン)とALD(原子層堆積法)による無機酸化物層…
レンは、絶縁性、バリア性、抗菌性、生体適合性に優れています。 ・プリカーサ: ポリ・パラエチレン, ポリ・クロパラエチレン, ポリ・ジクロロパラエチレン(材料も販売可能です) ・パリレンC(ポリ・パラエチレン)は生体適合性に優れており、FDA認証も取得しております。 ・成膜プロセス:コーティングは、専用の真空蒸着装置を用い、室温にて実施されます。ダイマーと呼ばれる固体の顆粒状原...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー
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ソーラーリサーチ研究所の非接触搬送装置:フロートチャックSAC型
オーダメイドの垂直気体噴流方式非接触搬送装置「フロートチャックSAC型…
ベルヌーイ効果・エゼクタ効果・コアンダー効果を持つベルヌーイチャック「フロートチャックSAC型」の新機構を採用したオーダメイドの「ベルヌーイチャック・非接触搬送装置」製作いたします。 新機構:非接触搬送装置「フロ-トチャックSAC型」には吸引力を生じるエゼクタ効果を高めるためにコアンダー...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所
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スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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ヨーロッパ 発の技術から生まれた汎用性の高い装置!実験~量産に幅広く対…
ズ: シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能; 幅広く温度の工程に対応可能; エッチングの速度と均一性を精密制御; BOSOH工程に対応可能 ・成膜機種 Shale Cシリーズ: ICP CVD(誘導結合プラズマCVD) 低温条件(<120℃)で緻密な成膜を実現可能 プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える 高アスペクト比の穴埋めに適用 ...
メーカー・取り扱い企業: 日星産業株式会社
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