CVD装置 | イプロスものづくり

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

【プラズマCVD 装置】アピステのチラーPCUシリーズ

アピステのチラーはノンフロン・高耐久・超ワイドレンジの3シリーズ展開！…

【プラズマCVD 装置】冷却水温を一定に温調することで、反応室やプラズマ電極、基板の最適温度を保ちます。ーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーー【選べる3シリーズのチラー】 1.PCU-NEシリーズ：ノンフロン冷媒を使用し、フロン排出抑制法の対象外 2.PCU-SLシリーズ：厳しい現場環境でも、安心してご使用いただける高い耐久性を実現 3.PCU-Rシリーズ：...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アピステ

CVD、IBDの成膜装置

ヨーロッパ発の技術！Leuven instruments装置の日本国…

・Shale Cシリーズ：ICP CVD（誘導結合プラズマCVD）低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える高アスペクト比の穴埋めに適用・Shaleシリーズ：PE CVD（プラズマCVD） 2周波数のプラズマ源を搭載、SiNx製膜の応力を幅広く制御可能・Ganistarシリーズ：IBD（イオンビーム堆積）低温低圧条件...

メーカー・取り扱い企業：日星産業株式会社

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～8インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適　・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜　・密閉式チャンバーによる高い安全性と成膜...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・～56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～12インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メタ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速…

『VC-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。多点制御により、より細かな均一性を確保。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社SCREENファインテックソリューションズ

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品…

『VC-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔への超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。多点制御により、より細かな均一性を確保。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社SCREENファインテックソリューションズ

小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

試作・開発・小ロット生産向け　NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・異形状・サイズ基板の同時処理　・高い成膜速度　・シンプルメンテナンス　・省フットプリント　・低CoO(低ランニングコスト) 【用...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

結晶Si太陽電池セル量産用　NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・156mm角/125mm角ウェハ対応　・1500枚/hの高生産性　・太陽電池用薄型ウェハ対応【用途】　・拡散/インプラ用ハードマス...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜などその他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

【調査資料】化学蒸着（CVD）の世界市場

化学蒸着（CVD）の世界市場：CVD装置、CVD材料、CVDサービス、…

業の動向（売上、販売価格、市場シェア）、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録しています。化学蒸着（CVD）市場の種類別（By Type）のセグメントは、CVD装置、CVD材料、CVDサービスを対象にしており、用途別（By Application）のセグメントは、コーティング剤、電子、触媒作用を対象にしています。地域別セグメントは、北米、アメリカ、ヨーロッ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マーケットリサーチセンター

【オーダーメイド製作実績】CVD装置

「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」などの実績を…

ジャパンクリエイト株式会社が行なった、『CVD装置』のオーダーメイド製作実績をご紹介します。「太陽電池用プラズマCVD装置」をはじめ、「立体物用プラズマCVD装置」や「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」など...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

CVD装置

せる気相反応、表面反応を利用した薄膜作製装置です。原料ガス状物質を化学的に活性させる（励起状態にする）手法として、熱、プラズマ、光（レーザー、紫外線など）があり、各々熱CVD、プラズマCVD、光CVD装置などがございます。 ...

メーカー・取り扱い企業：北野精機株式会社

フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応しコンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCのグ...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

プラズマエンハンストCVD装置のグローバル分析レポート2023

プラズマエンハンストCVD装置に関するグローバル市場分析、市場規模、販…

2023年9月5日に、QYResearchは「グローバルプラズマエンハンストCVD装置に関する調査レポート, 2023年-2029年の市場推移と予測、会社別、地域別、製品別、アプリケーション別の情報」の調査資料を発表しました。プラズマエンハンストCVD装置の市場生産能力、生産量、...

メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research