CVD装置 | イプロスものづくり

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

【プラズマCVD 装置】アピステのチラーPCUシリーズ

アピステのチラーはノンフロン・高耐久・超ワイドレンジの3シリーズ展開！…

【プラズマCVD 装置】冷却水温を一定に温調することで、反応室やプラズマ電極、基板の最適温度を保ちます。ーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーー【選べる3シリーズのチラー】 1.PCU-NEシリーズ：ノンフロン冷媒を使用し、フロン排出抑制法の対象外 2.PCU-SLシリーズ：厳しい現場環境でも、安心してご使用いただける高い耐久性を実現 3.PCU-Rシリーズ：...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アピステ

CVD、IBDの成膜装置

ヨーロッパ発の技術！Leuven instruments装置の日本国…

・Shale Cシリーズ：ICP CVD（誘導結合プラズマCVD）低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える高アスペクト比の穴埋めに適用・Shaleシリーズ：PE CVD（プラズマCVD） 2周波数のプラズマ源を搭載、SiNx製膜の応力を幅広く制御可能・Ganistarシリーズ：IBD（イオンビーム堆積）低温低圧条件...

メーカー・取り扱い企業：日星産業株式会社

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～8インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適　・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜　・密閉式チャンバーによる高い安全性と成膜...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・～56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～12インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メタ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速…

『VC-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。多点制御により、より細かな均一性を確保。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社SCREENファインテックソリューションズ

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品…

『VC-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔への超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。多点制御により、より細かな均一性を確保。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社SCREENファインテックソリューションズ

小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

試作・開発・小ロット生産向け　NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・異形状・サイズ基板の同時処理　・高い成膜速度　・シンプルメンテナンス　・省フットプリント　・低CoO(低ランニングコスト) 【用...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

結晶Si太陽電池セル量産用　NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・156mm角/125mm角ウェハ対応　・1500枚/hの高生産性　・太陽電池用薄型ウェハ対応【用途】　・拡散/インプラ用ハードマス...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜などその他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

【調査資料】化学蒸着（CVD）の世界市場

化学蒸着（CVD）の世界市場：CVD装置、CVD材料、CVDサービス、…

業の動向（売上、販売価格、市場シェア）、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録しています。化学蒸着（CVD）市場の種類別（By Type）のセグメントは、CVD装置、CVD材料、CVDサービスを対象にしており、用途別（By Application）のセグメントは、コーティング剤、電子、触媒作用を対象にしています。地域別セグメントは、北米、アメリカ、ヨーロッ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マーケットリサーチセンター

【オーダーメイド製作実績】CVD装置

「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」などの実績を…

ジャパンクリエイト株式会社が行なった、『CVD装置』のオーダーメイド製作実績をご紹介します。「太陽電池用プラズマCVD装置」をはじめ、「立体物用プラズマCVD装置」や「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」など...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

CVD装置

せる気相反応、表面反応を利用した薄膜作製装置です。原料ガス状物質を化学的に活性させる（励起状態にする）手法として、熱、プラズマ、光（レーザー、紫外線など）があり、各々熱CVD、プラズマCVD、光CVD装置などがございます。 ...

メーカー・取り扱い企業：北野精機株式会社

フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応しコンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCのグ...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

プラズマエンハンストCVD装置のグローバル分析レポート2023

プラズマエンハンストCVD装置に関するグローバル市場分析、市場規模、販…

2023年9月5日に、QYResearchは「グローバルプラズマエンハンストCVD装置に関する調査レポート, 2023年-2029年の市場推移と予測、会社別、地域別、製品別、アプリケーション別の情報」の調査資料を発表しました。プラズマエンハンストCVD装置の市場生産能力、生産量、...

メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research

【市場調査レポート】High-k・CVD ALD金属前駆体市場

『無料サンプル』進呈中！【PDFダウンロード】ボタンからお申し込み方法…

世界のHigh-k・CVD ALD金属前駆体市場規模は、2023年に6億1,880万米ドルに達しました。今後、IMARC Groupは、市場は2032年までに11億2,240万米ドルに達し、2024年から2032年の間に6.63%の成長率（CAGR）を示すと予測しています。コンシューマーエレクトロニクスの販売増加、自律走行車や電気自動車（EV）の需要増加、さまざまな医療用画像処理装置におけるHig...

メーカー・取り扱い企業：株式会社グローバルインフォメーション

CVD/ALD装置用窒化アルミニウムセラミックヒーターレポート

CVD/ALD装置用窒化アルミニウムセラミックヒーターの世界市場：現状…

2023年4月3日に、QYResearchは「グローバルCVD/ALD装置用窒化アルミニウムセラミックヒーターに関する調査レポート, 2023年-2029年の市場推移と予測、会社別、地域別、製品別、アプリケーション別の情報」の調査資料を発表しました。CVD/ALD装置用窒化アルミニウムセラミックヒーターの市場生産能力、生産量、販売量、売上高、価格及び今後の動向を説明します。コロナ禍によって、C...

メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research

PETボトル用プラズマCVD装置

3L容器までコーティング可能！容器軽量化による物流コストの低減などに貢…

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。その他ウェットプロセス装置、真空プロセス装置も取り扱いしておりますので、ご覧ください。『立体物用プラズマCVD装置』 ■チャンバー容積：1m3 ■独自のプラズマ制御方式 ■多段式大量一括処理可能 ■高い汎用性を備えたシンプルな構造 ■様々な製品材質に成膜可能『High-Rate Depo....

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

太陽電池作製装置（Si系、CIGS系太陽電池作製用のCVD装置）

高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC…

本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作製することが可能な装置です。太陽電池における光吸収層であるi層、およびpn層の各層が分離形成できるように、3つの薄膜堆積チャンバー、試料搬送用ロボットチャンバー、試料ストックチャンバーの合計5室で構成しております。...本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作...

メーカー・取り扱い企業：北野精機株式会社

常圧CVD装置「AMAX800V」

優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

常圧CVD装置「AMAX800V」は、φ200mmウェーハ対応、モノシランガスの反応特性を応用したUSG、PSG、BPSG等の絶縁膜およびシリコン基板の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。搬送機...

メーカー・取り扱い企業：株式会社天谷製作所

【事例】『DSMC-Neutrals』シャワーヘッド型CVD解析

「シャワーヘッド型CVD」解析にも対応した希薄流体解析ソフトウェア…

シャワーヘッド型CVD装置内のガス流れのシミュレーション解析はじめ様々なシミュレーションに対応【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

CVD装置『ナノカーボン堆積装置』

3種類の堆積装置をラインアップ！用途に合わせてお選びください

株式会社片桐エンジニアリングが取り扱う、『ナノカーボン堆積装置』をご紹介いたします。当製品は、ナノカーボン材料を合成可能なCVD装置です。「CND-050LP」をはじめ、大面積ナノカーボン堆積装置「LCND-200」や PNナノカーボン堆積装置「NCD-050W」をラインアップ。用途に合わせてお選びいただけ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社片桐エンジニアリング

単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置　DCVD-51A

コンパクトで省電力！デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験用…

ダイヤモンドの単結晶成長(ホモエピタキシャル)が可能な高純度のダイヤモンド合成実験を行うためのプラズマCVD装置 【特徴】 ○コンパクトで省電力 ○超高真空技術を駆使しており、プラズマが室壁に接触しないため　デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験が可能 ○球状コンパクトチャンバ...

メーカー・取り扱い企業：アリオス株式会社

プラズマCVD装置

パワーデバイス、LED、MEMS等の量産で多数の実績がある装置です。

膜質の制御範囲が非常に広く、様々なお客様の求める膜質に対応します。また、化合物ウエハや特殊ウエハなど、従来の装置では問題があった安定した自動搬送を実現し、歩留まり向上に貢献します。当社では、お客様のご要望を出来るだけ装置に反映するため、装置毎のカスタマイズを積極的に行います。社内にデモ機を常設していますので、お気軽にご相談ください。...当社の装置は1回の処理で複数枚のウエハに成膜を実施する、バッ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社日本生産技術研究所

立体物対応実験用プラズマCVD装置

対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等！基板加熱機構付き（最高設定…

当社で取り扱う『立体物対応実験用プラズマCVD装置』をご紹介いたします。立体物に成膜可能で、対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等。 PC操作（シーケンサー制御）で、全自動、データロギングが可能です。当社では実験装置から生...

メーカー・取り扱い企業：株式会社DINOVAC

PE CVDコーティング装置『CD1000 Nanofics 』

専用の真空蒸着装置を用い、気体として蒸着！コンポーネントの割れ目に…

株式会社メディア研究所ではEuroplasma社のPE CVDコーティング装置『CD1000 Nanofics SE』を取り扱っております。 Europlasma社のPE CVDコーティング装置は日本で主流とされている液体コーティングとは異なり、気体としての蒸着を行い、液体では入りきれないコンポーネントの細かな隙間・割れ目まで均一なコーティングを実現いたします。またプラズマを付加する...

メーカー・取り扱い企業：株式会社メディア研究所

ロータリーキルン式連続CVD装置

粉体の連続熱／CVD処理、連続CNT合成などに

反応管の傾斜と回転機構により、粉末試料の連続フィード／回収機構を有する連続CVD処理装置です。　粉末試料表面へのカーボコート、熱処理、CVD処理、ドープ処理などの大量生産が可能。大面積の配向CNT基板や、多収量の粉末タイプCNTの大量生成に適します。...【特　徴：・炉心管の傾斜角度および回転速度の調整により、粉末試料の素性に合わせた導入速度の調整が可能・試料導入用回転機構と、CVD処...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マイクロフェーズ

熱CVD装置

反応ガスの流れが均一！反応室内にガスが淀むことがない熱CVD装置

『熱CVD装置』は、試料装填後、真空に排気した反応管内で気相成長を行うための装置です。石英製反応室、基板加熱系、真空排気系、ガス導入系及び制御系からなり、基板上に成膜が出来ます。本装置...

メーカー・取り扱い企業：株式会社日本シード研究所

【産業調査レポート】世界の化学気相成長 (CVD) 装置市場

世界の化学気相成長 (CVD) 装置市場：プラズマ強化 CVD（PEC…

IMARC社の本報告レポートによると、世界の化学気相成長 (CVD) 装置市場規模が2022年に281.3億ドルに至りました。2028年には461.9億ドルまで拡大し、2023年から2028年の間にCAGR 8.30%で成長すると予測しています。本レポートでは、化学気相成長 (CVD) 装置の世界市場について調査・分析を行い、序論、範囲・調査手法、エグゼクティブサマリー、イントロダクション、技術別...

メーカー・取り扱い企業： H&Iグローバルリサーチ株式会社

プラズマCVD装置

漏洩マイクロ波検出用も付属！試料の取付は、下部よりモーターによる上下機…

『プラズマCVD装置』は、実験用に極端に簡素化して製作されたCVD装置です。マスフロー本体は、メーカー品を使用。表示器、設定器は当社オリジナルで製作し価格を下げております。また、プラズマ発生域と...

メーカー・取り扱い企業：株式会社和泉テック