【現場のDX推進】3D計測データ処理ソフトGalaxy-Eye

PR3D計測データを利用したシミュレーションや部材セミオートCAD化機能で…

プラント施設、建築現場などでこのようなご要望はございませんか？ 「現場にある配管やダクトなどを素早く簡単にCAD化したい」 「設計図が無い現場を3Dデータ化して管理したい」 「設備を新たに導入するための搬入ルートを検討したい」 「既存設備のレイアウト変更を検討したい」 『Galaxy-Eye』は3Dレーザー計測器から得た大規模点群データを軽快に処理するソフトウェアです。 3Dレ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社富士テクニカルリサーチ

低コスト多機能CAD/CAMシステム【OneCNC】

PR低コスト多機能CAD/CAMシステム｢OneCNC」

OneCNCはアメリカ、ドイツ、イギリスなど世界中で実績のあるCAD/CAMシステムです。 2D加工~3D加工、旋盤加工に対応しており、2D加工モジュールで28万円(税別)、上位の3D加工モジュールで88万円(税別)と 低価格ながら高速加工やシミュレーション機能等の豊富な機能が搭載されています。 また同一モジュール2台分の価格で同時10台利用可能なネットワークライセンスは従業員数の多い大...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社Aiソリューションズ 本社

リチウムイオン電池負極用 一酸化ケイ素（SiO）微粉末

LIB負極用/光学用/保護フィルム蒸着用　高純度 一酸化ケイ素（SiO…

リチウムイオン電池負極材料としても注目されるSiOパウダー D50=１µｍ～数ミリのGranuleまで、要求スペックによりカスタマイズ。 塊状品（Lump）も承ります。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素（Si3N4）粉末

微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素(Si3N4)粉末。 ミクロンスケ…

■製品スペック(COA : 量産品代表値。) ＜α相 D50=1μm - 2μm品の場合＞ Si3N4 純度≧99.9% α相>90.0% 不純物濃度(ICP-MS) Fe=45ppm Al=14ppm Ni=11ppm W= 9p...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

粒度・材料指定可 シリコン（Si）粉末

用途広がるシリコンパウダー（粉末） 必要スペックに基づき、粒度・使用…

応じて、シリコン原料と粉砕粒度を柔軟にに選定・組み合わせ。 材料：金属シリコン（1101/2202/3303/441/553） 　　　金属冶金法ポリシリコン（4N/5N/6N） 粒度：D50=5µmー50µｍ程度の範囲内でご指定頂けます。 　　　なお、数ミリ～サブミクロン（ナノ）単位まで幅広くご相談頂けます。 　　　（粒度・Si純度・数量に基づき、価格見積もりをご提出いたします...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

4N超高純度 シリコン（Si）粉末

Si純度＞99.99% 4N超高純度 シリコン粉末 ＊25元素不…

材料：シーメンス法バージンポリシリコン（6N以上） Si粉末不純物濃度： 　　　25元素不純物濃度合計=20.21ppm（GDMS分析） 　　　→ Si+Others > 99.9979% 　　　粉砕工程で２回の酸洗いと磁選により、高純度化を実現。 粉砕後酸素（O）濃度：0.29%（IGA分析） ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

LiB負極用 ナノ級 シリコン（Si）微粉末

リチウムイオン電池負極用 ナノ級 シリコン（Si）微粉末

Si > 99.0% D10=0.195 μm D50=0.300 μm D90=0.566 μm ＊ビーズミル。 ＊上記は、量産品の測定結果ですが、保証値ではありません。 ＊保証スペックについては、契約にて...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

シリコン（Si）粉末

Si純度2N～4N、粒度分布50nm～3mmに対応。ニーズに合わせカス…

分：Si純度　2N～4N 　　　　　　個別の金属不純物濃度※上限値指定 　　　　　　ドーピング元素（B／P／Ge／As等）濃度※上限値指定 　　　　　　酸素濃度※管理上限濃度協議 ◎粒子径：D50指定※D10、D90指定協議 ※「超微粉末」のカスタマイズ可能範囲は開発途上のため、ニーズに合わせ研究を進めます。 　詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

サブミクロン～１ｍｍまで　球状 銅（Cu）粉末

物理蒸着法（PVD）による球状 銅（Cu）粉末。 サブミクロン～１ｍｍ…

物理蒸着法（Physical vapor deposition (PVD) method）による 球状 銅（Cu）粉末。 Cu 純度≧99.0% (C/Oを除く) サブミクロン～１ｍｍまで、粒度カスタマイズに対応。 原産国：中国 供給可能数量...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

ナノ級 高純度 Siスラッジ精製品『Si-P-015』

短時間で100nmレベルへの粉砕が可能！リチウムイオン電池負極用シリコ…

末です。 高純度シリコンウエハーの切削物であるため、元々、不純物濃度は極めて低く、 切削工程中で金属不純物の混入が有りますが、Si純度は4N以上(C/Oを除く)の水準です。 乾燥状態でD50=0.584μmの粒子径を達成していますが、結晶がフレーク状に 重なっているため、湿式ボールミル等により追加粉砕すれば短時間で0.1μm(100nm) レベルへの粉砕が可能です。 【特...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

３N高純度 シリコン（Si）粉末

Si純度＞99.9% 3N高純度 シリコン粉末

材料：金属冶金法ポリシリコン（4N） 粒度：D50=8µｍー10µｍ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

シリコン（Si）スラッジ乾燥品

シリコンウエハー切削工程から排出されるSiスラッジの乾燥品

Ca（％）＝０．０３ 　　Ni （％）＝０．０３ 　　Cu (％）＝０．００４ 　 　 C(％) < ３．０ O(％) < ７．０ 　 ＜粒子径＞ 　　D５０=２．０－３．０μｍ 　　 ＊上記は、量産品の測定結果ですが、保証値ではありません。 ＊保証スペックについては、契約にて定めます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

LiB負極用 ３N高純度 シリコン（Si）微粉末

Si純度＞99.9% リチウムイオン電池負極用 シリコン（Si）微…

Si > 99.9% Fe=38.6ppm Al=27.3ppm Ca= 6.3ppm P= 5.8ppm B= 0.87ppm D10=0.757 μm D50=1.112 μm D90=1.641 μm ＊1mm程度まで粉砕後、酸洗浄。 ＊その後、ビーズミル。 ＊上記は、量産品の測定結果ですが、保証値ではあ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

球状 サブミクロン ニッケル（Ni）粉末

物理蒸着法（PVD）による球状 ニッケル（Ni）粉末。サブミクロンスケ…

物理蒸着法（Physical vapor deposition (PVD) method）による 球状ニッケル（Ni）粉末。 Ni 純度≧99.0% (C/Oを除く) サブミクロン スケールで、粒度カスタマイズに対応。 原産国：中国 供給可能...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

LiB負極用 ４N超高純度 シリコン（Si）微粉末

Si純度＞99.99% リチウムイオン電池負極用 シリコン（Si）…

Si > 99.99% D10=0.387 μm D50=1.535 μm D90=8.736 μm ＊1mm程度まで粉砕後、酸洗浄。 ＊その後、ビーズミル。 ＊上記は、量産品の測定結果ですが、保証値ではあ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

リチウムイオン電池負極用 ５μm 一酸化ケイ素（SiO）微粉末

LIB負極用/光学用/保護フィルム蒸着用　高純度 一酸化ケイ素（SiO…

リチウムイオン電池負極材料としても注目されるSiOパウダー D50=１µｍ～数ミリのGranuleまで、要求スペックによりカスタマイズ。 塊状品（Lump）も承ります。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

リチウムイオン電池負極用 ４μm 一酸化ケイ素（SiO）微粉末

LIB負極用/光学用/保護フィルム蒸着用　高純度 一酸化ケイ素（SiO…

リチウムイオン電池負極材料としても注目されるSiOパウダー D50=１µｍ～数ミリのGranuleまで、要求スペックによりカスタマイズ。 塊状品（Lump）も承ります。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社