【チェックリスト付】AI活用のためのIT導入補助金活用の手引き

PR【無料ダウンロード】チェックリスト付属：AI活用のためのIT導入補助金…

無料チェックリストを活用して、申請過程を効率化！ この手引きは、IT導入補助金を活用してAI技術を導入し、業務を改革したいと考えている企業の課長や経営者にとって理想的なリソースです。 詳細な手順、重要ポイント、チェックリストを利用して、申請から導入、運用までの一連のプロセスをスムーズに進めることができます。 無料で入手可能なこの手引きを今すぐダウンロードし、AIによるビジネス変革の第一歩...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コーピー 本社

新提案！工場・設備のスマート監視！ ※モニター企業様を募集中

PR遠隔監視システム『T-BOX』のデモ機をお貸し出し！現場のデータ収集や…

＜ 様々な用途でお使いいただけます ＞ ・上下水道設備の遠隔・集中監視に！ ・工場の設備診断、予知・予防保全、異常の早期発見に！ ・ビルの省エネ管理に！ ・太陽光や風力発電など再エネ施設の運用監視に！ ＜大洋電機製作所（日東工業グループ）の遠隔監視システム＞ ■T-BOX for データロガー 温度・圧力・流量・電力量などのデータ監視に特化 「現場の見える化」や「予知・予防保全」に活用！ ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社大洋電機製作所 日東工業グループ

ARPES-Lab　（ARPES光電子分光分析システム）

ARPESでのXPS観察・測定に！次世代のARPES測定装置の紹介です…

ARPES-Lab　（ARPES光電子分光分析システム）、XPS観察・測定に使用される装置です。 【用途】 ARPESでのXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 The ARPES-Lab brings together the world leading instrumentation for ARPES: ●Outstanding performance ARPES...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

HiPP-Lab（環境制御型X線光電子分光分析システム）

大気圧レベルの圧力での測定を可能にしたXPS分析装置！

HiPP-Labは、大気圧レベルの圧力での測定を可能にしたXPS分析装置をさします。 差動排気システムを用いて大気圧に近いレベルでの測定環境下で試料の測定が可能となり 今まで測定出来なかった環境制御下における次世代のXPS装置です。 【用途】 環境制御下での試料のXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 The HiPP-Lab brings together th...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

COMPACT EFFUSION CELLS

COMPACT EFFUSION CELLSの製品情報となります

COMPACT EFFUSION CELLS FOR THIN FILM DEPOSITION OR MBE IN RESEARCH UHV SYSTEMSの製品情報となります。 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

Custom MBE Systems（真空蒸着装置）

真空蒸着装置の紹介です。

Virtually unlimited thin film growth techniques. ●Combined UHV SPM / XPS / UPS / MBE system ●Hybrid (PLD) Laser-MBE System (based on a LAB10 MBE System) ●UHV PLD and MULTIPROBE Compact ●Charge &...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

VUV-5K　（紫外光源）

真空紫外光源の紹介

輝度の高い紫外光源（真空紫外光源）のご紹介です。 【詳細】※英文 The Scienta VUV5000 is a high intensity, narrow bandwidth extreme UV source. It provides radiation con-centrated to He I (21 eV and 23 eV) and He II (41eV). T...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

HAXPES-Lab（ラボ型硬X線光電子分光分析システム）

放射光施設でのみ可能であった硬X線光電子分光がラボでも使用可能に！

今までの汎用XPSでは到達できなかった深さを分析できる次世代のXPS装置です。 これまで放射光施設でのみ使用可能だった硬X線の使用が可能になりました。 Ga ka単色化線源により９．２５keV励起による高分解能硬X線光電子分光を実現いたしました。 【用途】 表面より深い領域での試料のXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 HAXPES-Lab is designed ...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

DA30-L　（光電子アナライザー）

ARPES分析アナライザーの紹介

ARPES分析アナライザーのご紹介です。 【特長】※英文 ●30° degrees full cone acceptance without sample rotation ●Spin-resolved MDC without sample rotation ●Patented (WO2013/133739) ●Improved ky accuracy (resolution bet...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

Cluster Systems（真空蒸着装置）

真空蒸着装置の紹介です。

○FZ Juelich Cluster -Installed at the HNF (Helmholtz Nanofabrication Facility) Juelich, Germany ○IQC Cluster Tool -Installed at the Institute for Quantum Computing at the University of Wate...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

SILICON SUBLIMATION SOURCE SUSI

SILICON SUBLIMATION SOURCE SUSIの製品情…

The Silicon Sublimation Source - SUSI - was developed for growing of thin Si layers, short period Si/Ge superlattices and Si/Sige heterostructures, but it is also an excellent Si dopant source. 詳しくはカ...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKO

CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKOの製品情報…

The Carbon Sublimation Source - SUKO - was developed for growth of Si-C and Si-Ge-C alloys in silicon MBE. The SUKO provides a very clean and constant flux at a low deposition rate up to 2 Å/min. A ma...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社