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13件 - メーカー・取り扱い企業
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PRそれぞれに適した高周波回路基板設計を実施!お客様にご満足して頂ける製品…
SDKが取り扱う『高速デジタル基板』をご紹介します。 お客様から頂いた仕様条件を元に、アナログ及びデジタルの高周波特性を 満たす基板材料を選定。 それぞれに適した高周波回路基板設計を行い、お客様にご満足して頂ける 製品を提供致します。また部品実装・調達までワンストップで実行することで御社の工程管理負担を代行いたします。 【仕様概略(一部)】 ■CPU:PEZY-SCプロセッ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社SDK
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SDカード/MicroSDカード ~仕様一覧・課題解決事例進呈~
PR自社F/Wと高い解析能力を活用し高品質を維持しています。お客様に好適な…
『GT02/GT04シリーズ』は高い解析能力と高品質を維持した「SDカード/MicroSDカード」です。 [GT02] 従来の製品と比較し、速度を遥かに向上させた製品で、ラズベリーパイ・車載機器・産業機器分野などで多数の採用実績があります。 →従来品と比較し、2倍以上にする事により、速度の下げ幅を軽減させています。 製品ラインナップ:16GB~256GB U1/U3 [GT04]...
メーカー・取り扱い企業: GTS株式会社
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【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置
小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全て…
グラフェン, TMD(遷移金属ダイカルコゲナイド)などの2D材料における成膜プロセスでは、酸素・水分から隔離された不活性ガス雰囲気で試料を取扱う必要があります。 MiniLab-026/090-GBでは、PVDチャンバーをGB内に収納することにより有機膜用途の「酸素・水分フリー」実験環境をコンパクトな省スペース環境で実現します。 【特徴】 ◉ PVD成膜、スピンコート塗布・ホットプレー...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用)
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ 抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ◉ 有機蒸着源 x 最大4 ◉ マグネトロンスパッタリングカソード x 4 ◉ 電子ビーム蒸着 ◉ ドライエ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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安定した均一加工が可能!微細バリ取り~クリーニングまで対応!
【ラインアップ】 ■標準モデル:TWB-01GB ■耐摩擦モデル:TWB-01WA ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 河新株式会社 洗浄機・洗浄剤│バレル研磨機材│ブラスト機材│研磨材 販売及び受託加工
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半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装…
oPVD-T15A有機膜・金属膜蒸着装置 - nanoCVDグラフェン合成装置 - ANNEALウエハーアニール装置 - MiniLabシリーズフレキシブル薄膜実験装置 - MiniLab-GBグローブボックス式薄膜実験装置 - 他、コンポーネント類 ※詳細は資料請求またはダウンロードからお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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メイドイン台湾!ドリル研磨機やコントロールバルブなどを豊富に掲載!
ブ ・H6SCシリーズ ・BFV-LTシリーズ ・BFV-WAFERシリーズ ・GT-200シリーズ ・YS-800シリーズ ・ND-6000シリーズ ・ND-10000シリーズ ・GB-200シリーズ ・YGB-800シリーズ ・CV-3シリーズ ・WFC-40シリーズ ・YC-800シリーズ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社YTK
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次世代メモリに対応した量産用16個書き超高速ギヤングプログラマ
・プログラマ内部の構成を新たに見直す事により、動作速度の高速化を実現 ・バッファメモリには1024Gbit(SSD:128GB)を、標準で搭載 ・シリアルATA対応のインタフェース搭載により、次世代シリアルデバイスに 対応 ・USB3.0対応で、データの転送時間を大幅に短縮可能 ・ソケットユニットの交換により、1...
メーカー・取り扱い企業: ミナト・アドバンスト・テクノロジーズ株式会社
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相談だけでも歓迎!設計から製作、組立まで自社で一貫して対応!各種装置製…
はお気軽にお問い合わせください。 【製作実績(抜粋)】 ■薄膜MEMS用超高温スパッタリング装置 ■薄膜MEMS用バッチ式スパッタリング装置 ■多元複合スパッタリング装置 ■有機EL用GB付きスパッタリング装置 ■ロードロック式二元スパッタリング装置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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RoHS準拠基板の16ch接点制御タイプです。
【特徴】 ○PCM/ADPCMの製品に比べて約10倍の記録容量があります。 ○長時間の高音質の再生に適します ○MMC(SD)メモリーカードは 8MBから2GBまで使用可能 ●その他機能や詳細については、お問い合わせください...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ダイ・エレクトロニクス
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「有機EL用GB付きスパッタリング装置」や「研究開発用IBS装置」など…
ジャパンクリエイト株式会社が行なった、『スパッタリング装置』の オーダーメイド製作実績をご紹介します。 「薄膜MEMS用超高温スパッタリング装置」をはじめ、「有機EL用GB付き スパッタリング装置」や「研究開発用IBS装置」などの実績を保有。 デモ機にてサンプル処理を実施しております。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【製作実績(抜粋)】 ...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ・最大基板サイズ:Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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ROMライターICプログラマーで定評ある『台湾・リープ社』世界の主要半…
5V、20mV IPP&IHH電流: 150mA ディスプレイ: 20×4キャラクタ LCD / WORK&PASS LED ボ タ ン: 方向キー×4。照光STARTキー ×1 内蔵メモリ: 2GBフラッシュメモリ モジュール寸法: 120mm(L)× 75mm(W)本体寸法: 360mm(L)× 190mm(幅)× 64mm(H) 本体重量: 3.0kg 対応デバイス: NOR FLASH,...
メーカー・取り扱い企業: 三友電子工業株式会社
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『台湾・リープ社』製、世界の主要半導体メーカーから認定を受けたICプロ…
&VHHレベル: 1.5V~15.5V、20mV IPP&IHH電流: 150mA ディスプレイ: 20×4キャラクタLCD ボ タ ン: 方向キー×4。照光STARTキー ×1 内蔵メモリ: 2GBフラッシュメモリ モジュール寸法: 120mm(L)× 75mm(W)本体寸法: 240mm(L)× 115mm(幅)× 60mm(H)重 量: 1.1キロ 対応デバイス: NOR FLASH...
メーカー・取り扱い企業: 三友電子工業株式会社
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高音質・ステレオ音声再生ボード
【特徴】 ○PCM/ADPCMの製品に比べて約10倍の記録容量があり、 長時間の高音質の再生に適します ○MMC(SD)メモリーカードは 8MBから2GBまで使用可能 ○RoHS準拠基板 ●その他機能や詳細については、お問い合わせください...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ダイ・エレクトロニクス
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