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ネットワーク端末装置『VOICE-IP TERMINAL II』
PR産業用音声ネットワーク端末 音声放送システムを簡単にIP化!導入・運…
産業用音声ネットワーク放送(VoIP)に好適! 弊社の『VOICE-IP TERMINAL II』は全てH/Wで設計しています。 CPUを使用していないため起動が非常に早い事が特徴です。 放送中に電源OFF/ONしても数秒で放送動作を開始します。 また装置にダメージもありません。 当然のことながらOSやアプリケーションソフトを実装していない為、 外部からのハッキング(書換えや乗っ取り等...
メーカー・取り扱い企業: SIシナジーテクノロジー株式会社 本社
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PR産業用多軸ロボットのツール座標を高精度測定 手作業による設定・修正問題…
産業用多関節ロボット向け。作業基準“ツール座標”を自動測定・補正し、ロボットアプリケーションの高精度要求に対応 ■対象アプリケーション: 1.切削加工 2.バリ取り 3.溶接(スポット, アーク) 4.シーリング等 ■主要機能: 1.ツール座標測定入力 – ツール座標設定時の3点/5点教示を自動化 2.定常/非定常動作によるツール変形を測定自動補正 3.ロボットと...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イリス 東京本社、大阪支店、名古屋支店
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SI 500-1M、SI 500 PPD-1Mなど搭載可能!搬送チャン…
『3ICP+2cassetteモジュール』は、さまざまなモジュールを 搭載可能なクラスターツールです。 ICPRIEモジュールの「SI 500-1M」をはじめ、RIEモジュールの 「SI 500 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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GaNマイクロLEDメサ加工の結果、GaNマイクロLEDメサ加工中の発…
当資料では、マイクロLED向けのICPエッチングの加工例を ご紹介しています。 実験及び結果として、GaNマイクロLEDメサ加工の結果や GaNマイクロLEDメサ加工中の発光分光データなどを掲載。 ぜひ、ご一読ください...
メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社
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ICPパワーによるイオン密度の制御!低温成膜、低ダメージ、高コンフォマ…
『SI 500 D』は、ICPパワーによるイオン密度の制御のICPECVDです。 独自のPTSA200ICPソースによる10^12[イオン/cm3]の高いプラズマ密度により 低温成膜、低ダメージ、高コンフォマリティーを...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」などの実績を…
式会社が行なった、『CVD装置』のオーダーメイド 製作実績をご紹介します。 「太陽電池用プラズマCVD装置」をはじめ、「立体物用プラズマCVD装置」や 「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」などの実績を保有。 デモ機にてサンプル処理を実施しております。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【製作実績(抜粋)】 ■太陽電池用プラズマCVD装置 ...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置!実験~量産に幅広く対応…
半導体など、様々な材料に対応可能 ■幅広い温度の工程に対応可能 ■エッチングの速度と均一性を精密制御 ■BOSOH工程に対応可能 【成膜機種(一例)】 Shale Cシリーズ: ■ICP CVD(誘導結合プラズマCVD) ■低温条件(<120℃)で緻密な成膜を実現可能 ■プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える ■高アスペクト比の穴埋めに適用 ※詳しくはPDFダ...
メーカー・取り扱い企業: 日星産業株式会社
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MRAM用ドライエッチング装置!
反応性イオンエッチング装置(RIE)、誘導結合プラズマ (ICP)エッチング装置、イオンビームエッチング装置(IBE)等のドライエッチング装置など各種取り揃えております。...
メーカー・取り扱い企業: 日星産業株式会社
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研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』
独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品…
スアンテナ)方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔への超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細かな均一性を確保。 手動、自動、オプションも多彩です。 【特長】 ■実験・研究・評価・試作に好適 ■...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社SCREENファインテックソリューションズ
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研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』
独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速…
ンテナ)方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細かな均一性を確保。 手動、自動、オプションも多彩です。 【特長】 ■実験・研究・評価・試作に好適 ■...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社SCREENファインテックソリューションズ
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フロー管理システムが搭載!粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理…
る処理が可能。 PLASMICON制御システムにより全自動プロセス、データ保存に対応しています。 【特長】 ■FLOCONシリーズのフロー管理システムが搭載 ■PLUMEシリーズのICPプラズマソースを搭載可能 ■ガス、蒸気、液体や固体原料から合成・成膜可能 ■シングルゾーン、マルチゾーンによる温度分布制御 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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これまでの加工実績をベースに行ったGaNのトレンチ加工をご紹介します
当社は半導体製造装置メーカーとして、GaN系発光デバイス製造における ICPエッチング装置、CVD装置及びプロセス技術を提供してきた実績があります。 また、4H-SiCパワーデバイスに対してもトレンチ加工、メサ加工等に対応で きる装置を提供。 当資料では、こ...
メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社
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ヨーロッパ 発の技術から生まれた汎用性の高い装置!実験~量産に幅広く対…
金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能; 幅広く温度の工程に対応可能; エッチングの速度と均一性を精密制御; BOSOH工程に対応可能 ・成膜機種 Shale Cシリーズ: ICP CVD(誘導結合プラズマCVD) 低温条件(<120℃)で緻密な成膜を実現可能 プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える 高アスペクト比の穴埋めに適用 ...
メーカー・取り扱い企業: 日星産業株式会社
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