実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD（原子層堆積）装置』

PRご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜をお手伝い。ライブデモ、パ…

ワッティーでは、ALD装置を使用した『受託成膜サービス』を行っております。 Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN等、各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能。 成膜可能サイズは小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能です。 ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜のお手伝い、お客様立会い によるライブデモや、ご希望のレシピ、パラメータ...

メーカー・取り扱い企業： ワッティー株式会社

AI端末装置『AI-NETWORK TERMINAL II』

PRDeep Learningとネットワークを融合した本格AI端末装置＊A…

AIを使用した問題解決 ◎正常か異常か、AIが音で判断します! 数社との連携で様々な環境音、生活音等を現場で収集し、収集音データを 学習して「何か起きた⁉」に対応する異常音検知の開発を進めています。 AIコアモデルのAuto_Encoderを使用し、正常音を学習することで異常音 検出（非定常音検出、特異音検出）を可能としています。工作機械、製造 ライン、体内の音、道路、住宅街等、様々な機械音、工場...

メーカー・取り扱い企業： SIシナジーテクノロジー株式会社 本社

6in・8inウエハ両用非接触ピンセット

６ｉｎと８ｉｎウエハを同じ非接触ピンセットにて掴むことができる

「6in・8inウエハ両用非接触ピンセット」(特許） 新しく気体垂直噴流方式を採用しております。　　気体垂直噴流方式はクッション室にノズルより噴出する気体流を垂直気体噴流させることり、クッション室内の気体流の摩擦損失を減少させ、負圧発生の効果を増し、従来型より大幅に懸垂能力を増加させることで、保持安定元力が増し、衝撃に強く、気体消費量をほぼ半減させました。 「6in・8inウエハ両用非接触ピ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所

量子ドットレーザー

温度による出力変動が小さい特長を持っており、様々な分野への展開が可能！…

当製品は、GaAs基板を使った『量子ドットレーザー』です。 温度による出力変動が小さい特長を持っており、様々な分野への展開が可能。 また、MBE装置を使った化合物半導体ウエハや量子ドットウエハの作製を 承ります。カスタム製造も承りますので、ご相談ください。 【ウエハ製作概要】 ■ウエハ径：2インチ ■使用可能元素：Ga、In、Al、As、Sb、Si（n型ドーパンド）、Be（...

メーカー・取り扱い企業： YITOAマイクロテクノロジー株式会社

アメリカ製 金属インジウム（メタル）

In系化合物半導体向けに実績多数。6N5（99.99995%）の高純度…

＊3N, 4N, 5N, 6N, 6N5など純度グレードあり。 ＊インゴット、ワイヤー、箔、リボン、電極、板、ショット、パウダー 　などご要望に応じて各種形状でご提供可能。 当社無機ファイン部HPもご覧ください。 ...　...

メーカー・取り扱い企業： 蝶理株式会社 無機ファイン部

GaAs Based Epi Wafer

化合物半導体エピタキシャル InP基板上にカスタム構造のMBE / …

2インチから6インチまでのGaAs基板にカスタム構造のMOCVDエピタキシャル成長を提供しています。 エピタキシャル構造設計、エピタキシャル材料、テスト分析など企業、大学、科学研究機関にGaAsエピタキシャル基板の全面的なサービスを提供しています...◆赤外線LD 波長範囲(808nm, 980nm and others in 800~1064nm) ◆垂直共振器面発光レーザ(VCS...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社GLORY 東京営業所