• 小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】 製品画像

    小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】

    PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置!シャッタを具備しているので安定…

    『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置(デポアップ)です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系:<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化:W500×D39...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

  • ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』 製品画像

    ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

    PR課題解決事例を進呈中!ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

    『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ(還元方式)・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...

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    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100 製品画像

    Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • フローパレット/リフロー炉パーツ洗浄剤 パレクリン 製品画像

    フローパレット/リフロー炉パーツ洗浄剤 パレクリン

    シャワー式洗浄機や超音波洗浄機との組み合わせで、こてこてフラックス楽々…

    パレクリンPA-2850:高洗浄力! パレクリンPA-4450:低臭気・低VOCタイプ パレクリンPA-3200:低VOCタイプ(2層分離タイプ)...

    メーカー・取り扱い企業: 化研テック株式会社

  • ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 VSS-300 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 VSS-300

    300mm角対応モデル。ローダー・アンローダーと連携可能で量産にも。 …

    当製品は、最高0.01%のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや 鉛フリーへの課題解決に好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 接合する金属表面の酸化膜除去に”水素還元”や「ギ酸還元」に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、フラックス無しでも濡れ性の向上を実現します。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、試作開発~量産まで 対応する機能と性能を一台に凝縮。 リフロー...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』 製品画像

    真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

    ギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

    ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

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    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • 【課題解決事例】通信デバイスメーカーA社 製品画像

    【課題解決事例】通信デバイスメーカーA社

    180μmピッチのウエハバンピングに成功!スクリーン印刷による量産ライ…

    A社の開発担当者様は携帯端末向け通信デバイスの新製品量産にあたり、 スクリーン印刷によるはんだバンピングを想定し印刷機メーカー数社で 評価実験を行っていたが、満足のいく結果が得られていませんでした。 そこで、当社製印刷機「TD-4420シリーズ」に搭載の圧入型スキージユニットの 特長である充填圧力制御機能を生かし、以下の内容を提案しました。 「マスク開口内に100%はんだペースト...

    メーカー・取り扱い企業: 谷電機工業株式会社

  • Model 5100 真空・加圧リフロー装置 製品画像

    Model 5100 真空・加圧リフロー装置

    次世代のプロセスに対応し、ボイドレスを実現するバッチ式真空加圧リフロー

    『Model 5100』は、SST Vacuum Reflow Systems社製の バッチ式真空加圧リフロー装置です。 高精度に昇温・降温設定をオート制御可能。 ユニークな設計のIRヒーターによりプロセスエリアの温度フィードバック 制御をしながらプロセスエリア全体を均一に加熱します。 マイクロエレクトロニクスパッケージや、電子部品のフラックスレスで ボイドレスはんだ付けの量...

    メーカー・取り扱い企業: テクノアルファ株式会社

  • 卓上真空貼合装置 製品画像

    卓上真空貼合装置

    研究開発(要素技術)に最適!/卓上真空ラミネーター

    ・微粘着パッドにより真空中でガラス基板を保持し、下基板に気泡レスで貼り付けます。 ・貼り付け動作は精密Zステージを電動操作。 ・上ステージは石英ステージを採用。貼合状態の観察と真空中でのUV照射が可能です。 ・上下ステージをMax120℃のヒーター内蔵タイプに変更も可能。...基板サイズ:20mm×20mm~120mm×120mm  上ステージ:石英(UV照射エリア110mmロ) 下ステ...

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    メーカー・取り扱い企業: 常陽工学株式会社

  • ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』 製品画像

    ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

    課題解決事例を進呈中!ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

    『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ(還元方式)・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...

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    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • 真空はんだ付け装置(真空リフロー装置) 製品画像

    真空はんだ付け装置(真空リフロー装置)

    インターネプコンにも出展!大型製品にも対応した新製品のご紹介 <サン…

    真空はんだ付け装置は真空中ではんだを溶融させることにより、 はんだ中のボイドを除去します。 予備加熱を水素雰囲気または蟻酸雰囲気で行うことにより、 フラックスレスはんだ付けを実現します。 パワーデバイス製造工程のスタンダード機として国内実績No.1クラスを 誇ります。 上部ランプヒータ仕様採用により、重量物を含む大型製品/異形基板にも対応しています。 【展示会出展情報】 イ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • ≪はんだ・基板・溶融・ろう付≫加熱その場観察に好適【IR-HP】 製品画像

    ≪はんだ・基板・溶融・ろう付≫加熱その場観察に好適【IR-HP】

    チップ部品等の微小実装部品から基板(□100mm)、固体・粉末の溶融、…

    ■大型加熱観察装置「IR-HPシリーズ」の特長 チップ部品等の微小実装部品から基板(□100mm)、固体・粉末の溶融、ろう付け等のその場観察を実現します! ▼特徴▼ ・サンプルだけの赤外線集光で基板などの試料を秒速高温均一加熱 ・クリーン加熱とクリヤーな加熱観察・簡単構造でメンテナンスフリー ■用途 各種材料の上部又は側面から「その場観察」できます。その場観察で保存した動画...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社米倉製作所

  • 可動真空チャンバー <ボディフレーム> 製品画像

    可動真空チャンバー <ボディフレーム>

    ご使用の開放プレス機に装着、低コストで真空プレス機に転用します。

    ■コスト  低コスト(ハウス型の約1/20)で真空加熱成形を実現します。プレス機は改造不要です。  既存の加熱プレス機に取り付けるだけで、真空プレス機に転用できます。 ■気密性  確実な気密性で133〜1.33Pa(1.0〜0.01Torr)の真空度を実現します。  製品の酸化不良を防止、高品質化を実現し歩留まりも向上します。 ■耐熱性  BFS(角形)では最高260℃まで使...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社タンケンシールセーコウ

  • 『MEMSパッケージ』 製品画像

    『MEMSパッケージ』

    シーム溶接機を保有し、MEMSなど気密封止が必要な試作・量産に対応しま…

    『MEMSパッケージ』シーム溶接機を保有し、MEMSなど気密封止が必要な 試作・量産に対応するサービスです。 お客様から仕様書や図面をいただければ、パッケージの設計から部材調達、 実装から出荷まで、一貫対応いたします。 実装は、ワイヤーボンディングやACF(異方性導電フィルム)をはじめ、 FCB(フリップチップボンディング)や、SMT(表面実装)に対応しています。 【半自動...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イングスシナノ

  • 『フルオート真空テープマウンター』 製品画像

    『フルオート真空テープマウンター』

    高品質な貼付けを、低コストで実現!フルオート真空テープマウンター

    本機は、ウエハを真空チャンバー内で貼付けをすることができる、 『フルオート真空テープマウンター』です。 OKK独自のプリカットユニットも標準搭載しており、 ダイシングフレームとウエハをセットするだけで高品質な貼付けを簡単・ 低ランニングコストで実現できます。 【特長】 ■非接触貼付(特許)ノンダメージ ■廃棄幅「0」(特許) ■豊富なオプション ※詳しくはPDFをダウ...

    メーカー・取り扱い企業: 大宮工業株式会社 営業本部営業課

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    Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本の...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300 製品画像

    Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RSO-200 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RSO-200

    金属の焼結にも使える最大昇温速度600K/min.の超高速昇温対応モデ…

    『RSO-200』は、最高0.01%のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや 鉛フリーへの課題解決に好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 接合する金属表面の酸化膜除去に”水素還元”の他、「ギ酸還元」に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、フラックス無しでも濡れ性の向上を実現します。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、さまざまな試作開発に 対応する機能と性能を一台に凝縮...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-110-S 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-110-S

    フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…

    『RSS-110-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ、 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 多...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応真空はんだリフロー装置 RSS-3×210-S 製品画像

    ギ酸・水素還元対応真空はんだリフロー装置 RSS-3×210-S

    対象物が大きい場合や同時作成にも適した、シリーズ最大の加熱プレートサイ…

    『RSS-3×210-S』は、最高0.01%のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや 鉛フリーへの課題解決に好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 接合する金属表面の酸化膜除去に”水素還元”や、「ギ酸還元」に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、フラックス無しでも濡れ性の向上を実現します。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、さまざまな試作開発に 対応する機能と性能を一台...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-210-S 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-210-S

    フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…

    『RSS-210-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 多彩...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RVS-210 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RVS-210

    フラックスなどによりコンタミが多く発生してもメンテナンスが容易なモデル…

    『RVS-210』は、最高0.01%のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや 鉛フリーへの課題解決に好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 接合する金属表面の酸化膜除去に”水素還元”の他、「ギ酸還元」に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、フラックス無しでも濡れ性の向上を実現します。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、さなざまな試作開発に 必要な機能と性能を一台に凝縮。...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-160-S 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-160-S

    フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…

    『RSS-160-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”の他、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ、 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

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    真空はんだ付け装置(真空リフロー装置)

    国内実績No.1をもつ真空リフロー装置のスタンダード! <サンプ…

    真空中ではんだを溶融させることにより、はんだ中のボイドを除去します。 また予備加熱を水素雰囲気または蟻酸雰囲気で行うことにより、フラックスレスはんだ付けを実現します。 パワーデバイス製造工程のスタンダード機として国内実績No.1を誇ります。 多彩なオプションと豊富な装置ラインナップで、お客様にとって最適な装置をご提案致します。 <第2回ものづくり日本大賞 優秀賞受賞>...【特長】...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

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