EMI（エミッション）トータル試験システム　MR2300

PR手近なところでノイズ対策！EMIは事前試験で効率アップ。

MR2300は当社のスペクトラムアナライザ技術、電波暗箱技術およびアンテナ技術を結集した統合システムです。 EMIトータル試験システム ＭR2300の特長 ■追加設備のいらないEMIトータル試験システム アンテナ、EMI用スペクトラムアナライザ、LISN、EMI用PCソフトウェアのみならず、電波暗箱まで全てが揃ったトータル試験システム ■自社開発の小型・広帯域アンテナ 30M...

メーカー・取り扱い企業： マイクロニクス株式会社

データ消去サービス＜データ消去技術のガイドブック進呈＞

PRHDD・SSD、磁気メディア、スマートフォンなど様々なメディア・デバイ…

当社では、情報漏洩リスクが発生する情報機器の処分・再利用時に、 高いセキュリティ環境下でデータ消去を確実に行うサービスを提供しています。 第三者機関ADEC（データ適正消去実行証明協議会）より、 消去サービス事業者の認証を最上位レーティングで取得し、 消去の方法やステータス、タイムスタンプなどを記入した証明書を発行可能。 入庫からデータ消去、出荷まで一連の作業を専用エリア内で完結...

メーカー・取り扱い企業： 日本ビジネスロジスティクス（JBL）株式会社 藤沢北事業所

Epitaxial-EB蒸着装置

最高900℃の高温プロセスが可能！エピタキシャル促進機構により単結晶成…

『Epitaxial-EB蒸着装置』は、エピタキシャル促進機構により金属膜や酸化膜の単結晶成膜に適した製品です。 基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現させ、またチャンバの メンテナンスが容易。 リフトオフプロセスにも対応しており、適切な表面処理によりパーティクル 低減させます。 マルチチャンバ仕様やバッチ式も製作可能です。 【特長】 ■酸化促進ガス導入機構 ■...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応 することができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。 【特長】 ■加熱プロ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

カーボンナノチューブ合成装置

優れた膜厚分布および再現性を実現！基板プラズマクリーニングシステム搭載

『カーボンナノチューブ合成装置』は、優れた基板温度分布および ガスフロー方式を実現します。 全自動でCNT合成が可能。 基板プラズマクリーニングシステム搭載しています。 マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作できますので、 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■全自動でCNT合成が可能 ■基板プラズマクリーニングシステム搭載 ■優れた基板温度分...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

ドライエッチング装置

RIEモードとDPモードの切り替えが可能！特殊表面処理によるメタルコン…

『ドライエッチング装置』は、最大φ12インチ基板を全自動で 連続処理することができる量産装置です。 2周波独立印加方式で、特殊表面処理によるメタルコンタミ低減。 マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作いたします。 ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、アッシング及び イオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた装置です。 【特長】 ■RIEモードとD...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

真空加熱乾燥炉

スパッタターゲットの真空乾燥や真空部品の真空乾燥、治具等の真空乾燥に利…

『真空加熱乾燥炉』は、自動乾燥プロセスレシピが30通りあります。 使用温度範囲は最高450℃。スパッタターゲットの真空乾燥をはじめ、 真空部品の真空乾燥や、治具等の真空乾燥にご利用いただけます。 各種オーダーメイドも製作可能ですので、ご用命の際はお気軽に お問い合わせください。 【特長】 ■使用温度範囲：最高450℃ ■到達圧力：10Pa ■自動乾燥プロセスレシピ：30...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

立体物用スパッタリング装置

立体物成膜での高いカバレッジを実現！ 最大3台のスパッタカソードを搭…

『立体物用スパッタリング装置』は、当社独自のスパッタカソードを 搭載しています。 ワークステージに4軸機構（昇降、公転、自転、チルト）を搭載し、立体物成膜での高いカバレッジを実現。 加熱機構、バイアス電源を搭載し、逆スパッタ、高温スパッタ、膜応力制御が可能です。 最大3台のスパッタカソードを搭載し、金属膜、酸化膜等の積層成膜が 可能です。 【特長】 ■当社独自のスパッタカ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

RTA装置

トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

『RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応できる 製品です。 基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体をはじめ、MEMSや電子部品にご利用いただけます。 【特長】 ■減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社