• 卓上CMP研磨機『EJ-380IN-CH-D』 製品画像

    卓上CMP研磨機『EJ-380IN-CH-D』

    PRコンパクト設計のCMP研磨機。研究開発にお勧めです!

    卓上CMP研磨機『EJ-380IN-CH-D』は、コンパクトなボディで設置場所を省スペースに抑えます。試料片研磨加工や多種少量部品の研磨等の研究開発用途だけでなく、本格的な精密研磨加工まで幅広いニーズに対応できる卓上ラップ装置です。 <特徴> ・精密鏡面加工の自動化 ・耐薬品性に優れたボディ設計 【使用可能定盤外径 : Φ380 mm】 また、本装置を2024年10月2日...

    メーカー・取り扱い企業: 日本エンギス株式会社

  • CZ/高抵抗FZ 各種ウェーハ販売(評価・開発・テスト用) 製品画像

    CZ/高抵抗FZ 各種ウェーハ販売(評価・開発・テスト用)

    PR少量ウェーハに対応!研究・テスト用途に便利なウェーハ販売サービス! ハ…

    【取扱商品】 *CZ・FZ・拡散ウェーハ・SiC・SOI・EPI・GaAs・SiGe・GaSb・サファイア・ゲルマニウムなど様々な半導体用ウェーハを扱っております。 *プライム・テスト・モニター用ベアウェーハ(高精度ウェーハ・パーティクルチェック用・COP対策品等) *SOIウェーハ:高抵抗デバイス層、基板も対応可、ウェーハを支給していただきSOIウェーハへ加工することも可能です。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社

  • プラズマCVD成膜 製品画像

    プラズマCVD成膜

    ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成!低温加工も可能です。

    プラズマCVD法は、膜としたい元素を含むガスを、プラズマにより励起や分解をさせて、 基板表面で吸着、反応等を経て膜を形成する方法です。 プラズマを用いるため熱CVDに比べて低温での製膜が可能です。 また、イオンプレーティング法、真空蒸着法、スパッタリング法と比べて凹凸への付きまわりがよいのも特徴です。 弊社では、イオンプレーティング法、真空蒸着法に加え、 プラズマCVD法によるコ...

    メーカー・取り扱い企業: 東邦化研株式会社

  • 真空蒸着法 製品画像

    真空蒸着法

    50種類以上もの薄膜コーティングを1個からでも対応可能!薄膜形成ならお…

    薄膜とは「はくまく」「うすまく」と呼ばれ、 一般的に膜の厚みがナノレベルのコーティング(被膜)を指します。 薄膜は、真空装置の中で膜にしたい材料(金属等)を蒸発させたり叩き出したりして形成されます。 『真空蒸着法』 真空蒸着法は、真空中で膜にしたい材料(金属等)を加熱して蒸発させ、 その蒸気(粒子)が対象物に到達し、堆積していくことで膜を形成する方法です。 真空蒸着...

    メーカー・取り扱い企業: 東邦化研株式会社

  • 立体形状への成膜加工 製品画像

    立体形状への成膜加工

    平面モノだけでなく、立体モノへの成膜もできます!ご希望の成膜箇所をお聞…

    東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工(コーティングサービス)を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少量案件から、中小ロットの生産案件まで、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 例えば、ガラス板やフ...

    メーカー・取り扱い企業: 東邦化研株式会社

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