屋外対応顔認証入退室管理システム『BioStation3』

PRSupremaの新フラッグシップ端末BioStation3

Supremaの最新機種で最もコンパクトにリリースした顔認証端末BioStation3は電源投入してからカードリーダ並みの約40秒で起動します。 これにより瞬停や計画停電があってもすぐに運用を再開します。...IK06により様々な環境に設置可能にFaceStation F2のIP65に加えてIK06の高耐久を纏いました。 スリムでコンパクトなデザイン FaceStation F2と比較しサイズが...

メーカー・取り扱い企業： ステルス・ネットワークス株式会社

タクボ・プレート熱交換器　HET/HEKシリーズ ※省エネルギー

PR気体対気体の排熱回収に優れ、各種乾燥機などから排出される“熱”を最大限…

タクボ・プレート式熱交換器 HET/HEK シリーズは、自社独自開発・特許取得のプレート構造が誇る熱回収効率で驚異のコストパフォーマンスを実現しました。内部伝熱板が2つのチャンネルを完全分離、排気中の湿気・ダストを完全にシャットアウト、”熱”のみを最高の状態で再利用できます。 【特徴】 ■通常のヒートシンク式熱交換器に比べ広大な伝熱板面積を有します。 ■80％以上の熱回収率を誇り（タクボ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社タクボ精機製作所

Oxygen Atom Beam Source OBS

Oxygen Atom Beam Source OBSの製品情報となり…

The Oxygen Atom Beam Source OBS is a thermal gas cracker which produces an ion-free oxygen gas beam. The OBS does not cause ion induced damage on the substrate. It exhibits a very compact design and i...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

HYDROGEN ATOM BEAM SOURCE HABS

HYDROGEN ATOM BEAM SOURCE HABSの製品情報…

The Hydrogen Atom Beam Source HABS is a thermal gas cracker which produces an absolutely ion-free hydrogen gas beam to avoid ion induced damage of the substrate. 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。...HYDROGEN A...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKO

CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKOの製品情報…

The Carbon Sublimation Source - SUKO - was developed for growth of Si-C and Si-Ge-C alloys in silicon MBE. The SUKO provides a very clean and constant flux at a low deposition rate up to 2 Å/min. A ma...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

SILICON SUBLIMATION SOURCE SUSI

SILICON SUBLIMATION SOURCE SUSIの製品情…

The Silicon Sublimation Source - SUSI - was developed for growing of thin Si layers, short period Si/Ge superlattices and Si/Sige heterostructures, but it is also an excellent Si dopant source. 詳しくはカ...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社