• ビッカース硬さ試験機 FALCON500G2 製品画像

    ビッカース硬さ試験機 FALCON500G2

    PRFALCON 500G2はマイクロ、マクロビッカース、ヌープ、ブリネル…

    FALCON 500G2は、様々な要求に応える幅広い試験力構成の選択肢を持ち、ハードウェアを完全に統合することで、お客様の業界特有の試験タスクに確実に適合させることが可能です。 最高レベルのメカニカルデザインから生まれたベースユニットのロードセル、クローズドループシステムは、マニュアルまたはデジタルマイクロメータ、あるいはより快適な試験環境を実現するモーター駆動のCNCステージと組み合わせて完成さ...

    メーカー・取り扱い企業: イノバテスト・ジャパン株式会社 本社

  • CNCワイヤ放電精密コンターマシン『 TX-150 』新発売! 製品画像

    CNCワイヤ放電精密コンターマシン『 TX-150 』新発売!

    PRCNCワイヤ放電精密コンターマシンの最新モデルTXシリーズが新発売! …

    従来のDKVシリーズからハード、ソフトの両面でアップグレード! ワイヤ放電加工機とコンターマシンの特長を併せ持つ 『ワイヤ放電精密コンターマシン』が、ボックス型の機種をリリース! 限られた設置スペースで高いコストパフォーマンスを実現いたします。 【本製品が選ばれるポイント】  ■ 様々な金属材料、硬度に左右されずに形状加工可能!  ■ マシニングやレーザーカットに比べ導入しやすい価...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社タイナテック

  • マスクレスアライナー『MLA150』 製品画像

    マスクレスアライナー『MLA150』

    0.6umの微細描画が可能な高速マスクレスアライナー

    マスクレスアライナー MLA150は、マスク不要の非接触レーザー露光装置です。卓越した使いやすさ、および高速性により、ラピッドプロトタイピング、少量から中量生産、および研究開発環境における理想的なレーザー直接描画方式の、マスクレス露光装置です。 2015年に初めてマスクレスアライナーシリーズが発表されて以来、革新的で最先端のマスクレステクノロジーが確立されました。MLA150は従来のマスクアライナ...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • NEW 2光子重合法による3Dプリンター『MPO 100』 製品画像

    NEW 2光子重合法による3Dプリンター『MPO 100』

    100nmの超高解像度の2光子重合方式の3Dプリンター

    『MPO 100』は超微細な3Dリソグラフィーからプリントボリュームの大きなマイクロプリンティングに対応可能な3Dプリンターです。主にマイクロ光学、マイクロ流体、生物医学分野などの分野を想定しています。3Dマイクロプリンティングのための高生産性ともに3Dリソグラフィーに必要な高精度加工を備え、シングルプロセスで高速で複雑な機能性微細構造を造形できます。...プリントサイズ:100mm x 100m...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ 製品画像

    レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

    高速高解像度レーザー露光装置

    『DWL 2000 GS』は、グレイスケールリソグラフィーに適した、柔軟性のある高速高解像度レーザー描画装置です。グレイスケールリソグラフィーは伝統的なバイナリリソグラフィーと異なり、マイクロレンズやブレーズド回折格子のようなスロープパターンをレジスト上に再現する技術です。 『DWL 2000 GS』シリーズは最大描画エリアが200x200mm²もしくは400x400mm²あり、MEMS、B...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • VPG 300 DI 製品画像

    VPG 300 DI

    VPGシリーズに300x300mm角基板まで対応した高速描画装置が加わ…

    ・高精細・高速描画 ・最大描画領域 300x300mm2 ...最小寸法0.5um、Line Space 0.8umまで描画可能。 選択できるWrite Mode(最小寸法0.5um または0.8um) 高出力DPSSレーザー 最大描画面積 300x300mm2 リアルタイムオートフォーカス オートローダー 基板検出機能 裏面アライメント機能 Zerodur採用 高精度微分干...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • 半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ 製品画像

    半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ

    高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

    【基本性能】 ■最小図形寸法: 500nm ■描画速度: 580mm2/分(FXモード時)、325mm2/分(QXモード) ■ラインエッジラフネス:20nm(QXモード) ■CD均一性:30nm(QXモード) ■オーバーレイ: 30nm(QXモード) ■ポジション精度:...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • マスクレスアライナー『MLA300』 製品画像

    マスクレスアライナー『MLA300』

    プロダクション向け高性能マスクレスアライナー

    MLA300は、研究開発アプリケーション、ラピッドプロトタイピング、および少量から中量生産の領域では既に標準となっているマスクレスアライナーの工業生産バージョンです。MLA300は、生産工場で期待される高スループットと高可用性を維持しながら、2 µmのラインアンドスペースの高解像度を実現します。 ワークフローを簡素化するための自動化に対応するために、ウェーハロボットとロードポート、および生産環境用...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

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