• 超硬ボーリングバー 製品画像

    超硬ボーリングバー

    PRヘッド接合部はV字カットのロー付けにより高強度な接合を実現!

    当社で取り扱う『超硬ボーリングバー』をご紹介いたします。 CCチップ用「C-SCLCR型」とTPチップ用「C-STUPR型」をラインアップ。 クランプスクリューとトルクスレンチを付属しております。 その他、機内スペースが狭いNC旋盤などにおいて有効スペースを 確保できる「ボーリングバースリーブ」もご用意しております。 【ラインアップ】 ■CCチップ用「C-SCLCR型」 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社丸石

  • ハンディタイプ高精度デジタル温度計 Model: CTP1500 製品画像

    ハンディタイプ高精度デジタル温度計 Model: CTP1500

    PR小型軽量のハンディタイプ温度計。高精度±0.05℃。単三乾電池駆動。校…

    ◆製品概要 CTP1500はハンディタイプの温度計としてコンパクトながらも優れた精度を持ち、様々な用途や場所での測定が可能です。- 20 ... +180 °Cの範囲で±0.05 °Cの精度を達成しています。この高い精度により、バイオテクノロジーや医薬、食品業界など様々な産業における基準温度計としても活用することが可能です。 ◆製品特徴 CTP1500は小型軽量であるため、簡単に持ち運びをするこ...

    メーカー・取り扱い企業: ビカ・ジャパン株式会社

  • 多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」 製品画像

    多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C

    リフトオフ・厚膜・低温成膜対応 昭和真空の技術を結集させた最上位モデ…

    ) ○所要水量 0.2MPa以上 (差圧)、44L/min、20~25℃  ※冷却水入口の最大圧は0.4MPa以下、水質は市水相当 ○所要圧空 0.7MPa (設定圧0.5MPa)、接続口径Rc1/2 ○ガス圧力 0.05MPa (設定圧0.02MPa)、接続口径SWL1/4 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • MBE装置適応蒸発セル EF 40C1型 製品画像

    MBE装置適応蒸発セル EF 40C1型

    手動及び自動シャッターは、純度の高いタンタルで製作!

    【特長】 ●クルーシブルー容量が5ccの中間温度用セルとして、広く使用 ●クルーシブの材料は主にPBN、AI203ですが、他の材料のご要望にも対応可能 ●手動及び自動シャッターは、純度の高いタンタルで製作 ◎「カタログをダウ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノポート

  • 多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】 製品画像

    多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ポリパラキシレン蒸着成膜装置 製品画像

    ポリパラキシレン蒸着成膜装置

    ポリパラキシレン成膜に特化した装置です。メーカは35年以上、ヨーロッパ…

    本製品は、密着性よくパリレンを成膜できる装置です。研究やR&Dだけでなく、量産にも対応できる装置を販売しております。また、装置の販売実績は50台を超えており、生産ラインで既に使用されております。 本装置の特徴は、次の通りです。 ・装置クリーニング及びメンテナンスが、容易です。 ・基材との密着性を向上させる為の前処理がin-situで処理可能です。 ・装置に付帯するPLCによりプロセスが...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー

  • 【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置 製品画像

    【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    ンプ加熱) -2) Max1000℃(C/Cコンポジット) -3) Max1000℃(SICコーティング) ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-Etching(<30W) システム主制御:'IntelliDep'制御システム Windows PC(又はTP HMI)インターフェイス 全ての操作を一箇所のHMI画面で一元管理 ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • BS-60610BDS ボンバード蒸着源 製品画像

    BS-60610BDS ボンバード蒸着源

    ハイレート対応、厚膜成膜、大型装置対応

    日本電子株式会社 BS-60610BDS ボンバード蒸着源は、電子ビームボンバード間接加熱法を利用した真空蒸着源です。 従来機種 (BS-60310BDS) にビームスキャン機能を増設したことにより ハイレート対応、厚膜成膜、大型装置対応等の特長が得られます。 〇特長 ・ライナー大容量化。 ・ハイレート化 ・大型装置対応。 ・厚膜対応。赤外用途への対応も可能 ・レート安定化 ・低ダメージ・低欠陥...

    メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社

  • LUXEL社製 抵抗加熱蒸着源(エバポレータ) RADAK 製品画像

    LUXEL社製 抵抗加熱蒸着源(エバポレータ) RADAK

    有機物蒸着にも対応。 コンパクトで取扱いが簡単な、抵抗加熱蒸着源

    です。 また、用途にあわせて、ルツボ、ライナー、熱電対などのオプションをお選び頂けます。 ※アルミナルツボを標準でご提供しています。 ★ラインナップ★ ●RADAK1… 小型サイズ(1cc) ●RADAK2… 中型サイズ(10cc) ★特長★ - 高純度金属、セラミックで構成 - ルツボ、Wフィラメントによる抵抗加熱方式 - 安全、高品質 - 回転式ロック...

    メーカー・取り扱い企業: ラドデバイス株式会社

  • モリブデン・タングステンのプランゼージャパン 総合カタログ 製品画像

    モリブデン・タングステンのプランゼージャパン 総合カタログ

    原料(粉末)から最終製品まで一貫生産。ずば抜けて高機能な材料を提供可能

    原料から加工品までトータルプロデュースする、プランゼージャパンの総合カタログ進呈中です。 ■原料から最終製品まで プランゼーは粉末冶金法を用いて高融点金属や複合材料を製造しています。不測の要素をなくすため、プランゼーの製造工程は原料である粉末からスタートします。 まずそれを還元して純粋なメタルパウダーを作り、次に、プレスして焼結します。そして、業界最大の熱間圧延機で塑性加工し、ずば抜けて...

    メーカー・取り扱い企業: プランゼージャパン株式会社

  • IBAD(イオンアシスト蒸着法)装置 CVI series 製品画像

    IBAD(イオンアシスト蒸着法)装置 CVI series

    真空蒸着よりも緻密で強度が高く、表面が平滑な成膜が可能!

    【特徴】  ・従来技術の真空蒸着法に加え、イオンビームを組み合わせた複合技術  ・低温で低エネルギー照射が可能  ・曲面や立体にも成膜が可能 【主な用途】  ・超硬工具用保護膜(c-BN)  ・食品用バリア膜(アルミ)  ・太陽電池用下地膜(アルミ)  ・光学用フィルタ膜(ZrO₂、AI₂O₃等) ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クリエイティブコーティングス

  • スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A 製品画像

    スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】 製品画像

    多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    ンプ加熱) -2) Max1000℃(C/Cコンポジット) -3) Max1000℃(SICコーティング) ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-Etching(<30W) システム主制御:'IntelliDep'制御システム Windows PC(又はTP HMI)インターフェイス 全ての操作を一箇所のHMI画面で一元管理...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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