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PRキャスター付きで移動できる小型触媒式脱臭装置!触媒式だからこそ、フィル…
トルエン、キシレン、酢酸エチル等のVOC(揮発性有機化合物)ガスや悪臭を含んだ排気ガスを、 酸化分解処理することによりVOCの除去や脱臭を行う『小型触媒式脱臭装置』です。 局所排気や一時使用を可能にするため、軽量・コンパクト化を実現し、 キャスターを付けることで必要な場所へ移動させて使用できる、可搬式脱臭を可能とした装置です。 【特徴】 ・処理風量 1Nm3/min、3Nm3/min、 5Nm3...
メーカー・取り扱い企業: TESSHA株式会社
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PRAEM(アニオン交換膜)式水電解を採用。アルカリ水電解・PEM水電解の…
【AEM式水電解水素製造装置 3つの特長】 1.高圧・高純度の水素を生成 99.999%純度の水素を3.5MPaGの高圧で生成可能。電極反応はアルカリ 水電解と同じですが、腐食性の高い濃アルカリ液を使用しません。セ ル構造はPEM水電解と同様、膜電極接合体構造で高速応答性、広い運 転範囲、間欠運転を許容する等の優れた特性を持ちます。 2.貴金属不要で低コストを実現 ...
メーカー・取り扱い企業: 三國機械工業株式会社
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PCDの高速高圧研磨を実現!高速高圧研削加工
どの基板は 硬く脆い性質を持った研磨加工の難しい素材です。 その中でも、特に加工の困難な焼結ダイヤモンドの 研磨を実現した加工事例をご紹介いたします。 【研磨結果】 ■表面粗さ<3nm ■加工時間4時間(従来の方法での加工時間10時間) ■高速高圧研磨装置『EJW-400HSP』と 固定砥石 『MAD Plate』を使用することで 6時間の加工時間の短縮を実現 ...
メーカー・取り扱い企業: 日本エンギス株式会社
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SiCの両面研削を実現!両面研削加工
ワーデバイスにおいて、コスト削減は 重要な課題です。 その中でも、従来の加工プロセスと異る方法でコスト 削減を実現した加工事例をご紹介いたします。 【研磨結果】 ■表面粗さ<0.5nm (後工程CMP) ■TTV<2μm/Warp<10μm ■高速圧研磨装置『EJD-6BY』と 固定砥石 『MAD Plate』を使用することで SiCの両面研削加工を実現 ※詳し...
メーカー・取り扱い企業: 日本エンギス株式会社
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銅の溶接に適した波長のレーザー溶接です。2mm深さの溶接などが…
南海モルディ株式会社(旧:南海鋼材株式会社) -
MANNER社製『テレメータ』
自動車、航空機、船舶、タービン、押出機等の回転体で、様々な計測…
株式会社マツイ 東京本社