• コネクタ形状を間違えた!→【光アダプタ/変換プラグ】で解決します 製品画像

    コネクタ形状を間違えた!→【光アダプタ/変換プラグ】で解決します

    PR「短くて繋げない」「コネクタ形状が違う」ケーブルの緊急トラブルを解決し…

    様々な場面で必要になる「ケーブル」について、こんなトラブルはありませんか? 「ケーブルが明日必要なのに、ケーブルが短い!」 「コネクタの形が違うため接続が出来ない!調達する時間もない!」 ★データコントロルズの光アクセサリで、こんな緊急トラブルを解決します★ 中継アダプタ、変換プラグ、光パッチパネルなど常時在庫多数なため 15時までのご注文で最短翌日に納品可能です! 【トラブル解決事例】 ケ...

    メーカー・取り扱い企業: データコントロルズ株式会社

  • レンズ用表面形状測定機 MarSurf LD Aspheric 製品画像

    レンズ用表面形状測定機 MarSurf LD Aspheric

    PR非球面レンズの両面を一度に測定できる表面形状測定機。高精度&高速測定で…

    特許取得の独自構造によりレンズの表・裏を一度に測定出来る 表面形状測定機『MarSurf LD 130/260 Aspheric 2D/3D』 2024年4月 OPIE'24(株)マブチ エス アンド ティー ブースに実機を展示! レンズの表裏を変える必要がなく、セッティングの手間を削減できるほか、 高精度・高速測定が行えるため、測定作業の短縮に貢献。 また、0.5mNという低測定圧での測定が可...

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    メーカー・取り扱い企業: マール・ジャパン株式会社

  • レーザー直接描画装置『DWL 66+』 製品画像

    レーザー直接描画装置『DWL 66+』

    研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

    【描画モードの一例】 ■描画モード:HR(High Resolution Mode 0.3um) ■最小アドレスグリッド(nm):5 ■最小描画サイズ(μm):0.3 ■エッジラフネス(3σ、nm):50 ■CD均一性(3σ、nm):60 ■重ね合わせ精度(3σ、nm):500 ※詳しくはカタログをご覧頂くか...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ 製品画像

    レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

    高速高解像度レーザー露光装置

    rite Mode1選択時 ■最小描画サイズ [μm] : 0.5 ■最小 L&S [HP, μm] : 0.7 ■ラインエッジラフネス [3σ、nm]: 40 ■CD均一性 [3σ、nm] : 60 ■レジストレーション [3σ、nm]: 200 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • 半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ 製品画像

    半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ

    高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

    【基本性能】 ■最小図形寸法: 500nm ■描画速度: 580mm2/分(FXモード時)、325mm2/分(QXモード) ■ラインエッジラフネス:20nm(QXモード) ■CD均一性:30nm(QXモード) ■オーバーレイ: 30...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • 高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』 製品画像

    高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

    高速パターン・ジェネレータ

    【描画性能】 ■最小描画サイズ [μm] : 0.75 ■エッジラフネス [3σ、nm] : 40 ■CD均一性 [3σ、nm] : 65 ■重ね合わせ精度 [3σ、nm] : 225 ■対応基板サイズ      :~最大1,400mm角 ...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

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