コネクタ形状を間違えた！→【光アダプタ/変換プラグ】で解決します

PR「短くて繋げない」「コネクタ形状が違う」ケーブルの緊急トラブルを解決し…

様々な場面で必要になる「ケーブル」について、こんなトラブルはありませんか？ 「ケーブルが明日必要なのに、ケーブルが短い！」 「コネクタの形が違うため接続が出来ない！調達する時間もない！」 ★データコントロルズの光アクセサリで、こんな緊急トラブルを解決します★ 中継アダプタ、変換プラグ、光パッチパネルなど常時在庫多数なため 15時までのご注文で最短翌日に納品可能です！ 【トラブル解決事例】 ケ...

メーカー・取り扱い企業： データコントロルズ株式会社

蓄熱燃焼式脱臭装置『Deopo（デオポ）』

PR装置全体をコンパクト化し組立た状態で運搬する為設置工事を簡略化 ！生…

『Deopo（デオポ）』は、従来の蓄熱燃焼式脱臭装置「RTO」の3塔式と回転式の 優れている要素を併せ持ち、ワンユニットにパッケージ化した装置です。 VOCの処理効率は98%以上、温度効率は95%以上の性能を持ち、従来品に比べ、 パージ部分の体積を最小にすることによりコンパクト化することが出来ました。 また、工場で組立した状態で運搬可能なサイズなので、標準装置の場合は 現地の荷降...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマルプラント

レーザー直接描画装置『DWL 66＋』

研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

【描画モードの一例】 ■描画モード：HR(High Resolution Mode 0.3um) ■最小アドレスグリッド（nm）：5 ■最小描画サイズ（μm）：0.3 ■エッジラフネス（3σ、nm）：50 ■CD均一性（3σ、nm）：60 ■重ね合わせ精度（3σ、nm）：500 ※詳しくはカタログをご覧頂くか...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

高速高解像度レーザー露光装置

rite Mode1選択時 ■最小描画サイズ [μm] ： 0.5 ■最小 L&S [HP, μm] ： 0.7 ■ラインエッジラフネス [3σ、nm]： 40 ■CD均一性 [3σ、nm] ： 60 ■レジストレーション [3σ、nm]： 200 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ

高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

【基本性能】 ■最小図形寸法：　500nm ■描画速度: 580mm2/分（FXモード時）、325mm2/分（QXモード） ■ラインエッジラフネス：20nm(QXモード） ■CD均一性：30nm(QXモード） ■オーバーレイ: 30...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

高速パターン・ジェネレータ

【描画性能】 ■最小描画サイズ [μm] ： 0.75 ■エッジラフネス [3σ、nm] ： 40 ■CD均一性 [3σ、nm] ： 65 ■重ね合わせ精度 [3σ、nm] ： 225 ■対応基板サイズ　　　　　　：～最大1,400mm角 ...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

マスクレスアライナー『MLA300』

プロダクション向け高性能マスクレスアライナー

最大露光面積：300 mm x 300 mm 最小フィーチャサイズ：1.5μm 最小ラインアンドスペース：2 µm 最大書き込み速度：5000 mm2 / min（@405 nm、1モジュール時） リアルタイムオートフォーカス 前面と背面の位置合わせ フルオートローダー 複数モジュール搭載可...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社