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22件 - メーカー・取り扱い企業
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PRバイオマス由来の潜熱蓄熱物質を内包したマイクロカプセルで、熱のタイムシ…
樹脂製のシェルで潜熱蓄熱物質をマイクロカプセル化した材料です。 ・良好な取り扱い性;潜熱蓄熱物質が液化しても漏れません! ・アルデヒド非発生;非メラミン樹脂でカプセル化しています! ・SDGs;自然熱や排熱利用ができ、また潜熱蓄熱物質はバイオマス由来です。 詳しくはPDF資料をご覧頂くか、お気軽にお問い合わせください。 無償サンプルを準備しております。...蓄熱カプセル基本特性 ...
メーカー・取り扱い企業: 根上工業株式会社
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PR【無料サンプル進呈中】新素材のカーボンナノチューブ(CNT)を塗料化し…
ニクロム線など金属系素材を使用した面状発熱体とは違い、 全面発熱する素材です。 HEATNEXはCNTを抵抗体として使用しフィルムに印刷することで フレキシブルな発熱素材を実現しました。 透明度の調整により透明に近づけ 光を通す仕様にも対応可能です。 【特長】 ■全面で均一に発熱させることが可能なフレキシブルな発熱素材です。 ■面状発熱の伝熱と遠赤外線の輻射熱により効率的に...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社アドバネクス
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ハンディタイプ大気圧プラズマ処理装置『ピエゾブラッシュPZ3』
驚くほど小型!低温大気圧プラズマ装置!広範な用途に使用可能です。
『ピエゾブラッシュPZ3』は、研究や開発、少量生産用に開発された小型で ハンディタイプの大気圧プラズマ処理装置です。 圧電素子による直接放電(PDD)技術を使って、最大消費電力18Wで50℃以下の低温プラズマを発生させます。 プラズマ発生部の高圧トランスにはTDK社のCelaPlas圧電素子を使用しています。 【特長】 ■研究や開発、少量生産用 ■小型のハンディタイプ ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社アルス
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高性能でコンパクトなRFフィルタ(高周波フィルタ)です。複数チャンネル…
・チャンネル:1~8 ・RF周波数:1~50MHz ・インピーダンス:共振周波数で10kΩ以上 ・DCR:各チャンネルで25℃の場合に2MHzで100mΩ未満、13MHzより高い周波数で15mΩ未満 ・L:各チャンネル25℃で5μH~300μH(公称値) ・C:各チャンネル10~25pF(公称値) ・チャンネル間の絶...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社グローブ・テック
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真空中でプラズマエネルギーを利用した環境重視の窒化処理についてのご紹介…
同様に励起してN+のイオンに変わります。 このN+イオンを処理物の表面に帯電させ、活性化窒素元素を拡散させ 表面硬化させる方法です。 一般的には、1から10torrの真空減圧下で400℃から570℃で処理されます。 【特長】 ■処理に使用する熱源がプラズマであり、省エネ ■ガス濃度を容易に変えられ、窒化特性を調整できる ■浸炭性ガスを使用することにより、窒化とともに浸炭...
メーカー・取り扱い企業: 朝日熱処理工業株式会社
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UV照射で即硬化。ブラスト加工、酸・アルカリ、塗料などから対象箇所を保…
リ溶液、めっき、塗装など様々なものに耐性をもち、対象箇所を保護します。 塗布方法: シリンジ、ブラシ、ディップ、スプレー等 剥離方法: 引きはがすタイプ・水に溶けるタイプ・50~80℃に温めると引きはがせるようになるタイプ・焼却するタイプ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社理経
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低温域の処理において、窒素拡散だけではなく、炭素拡散も有効な表面硬化法…
当社で行っている、DC-IMPACT(低温プラズマ浸炭)処理についての紹介です。 SUS鋼を対象にして、500℃未満の低温浸炭を行った場合、耐食性の低下を 制御した浸炭が可能で、当社の技術は航空宇宙に採択されています。 又、複合処理として、シナジー・ハイブリッド表面改質技術を開発し、 “ものづくり新...
メーカー・取り扱い企業: 朝日熱処理工業株式会社
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CVD、エッチング、表面改質のプロセスに最適です。
ラズマ、ICPプラズマでは達成できないプラズマ状態を生成し、様々な材料の精密成膜、エッチング、表面改質ができます。φ100mmの酸化物、金属、樹脂等の成膜、表面改質に対応。ステージ加熟(Max500℃)、バイアス印加による高速高精度処理が容易となっております。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社片桐エンジニアリング
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大気圧で安定したプラズマ処理が可能な大気圧プラズマ処理装置!装置の小型…
も容易です。 【特長】 ■2.45GHzマイクロ派による高密度プラズマを発生 ■素早い発火で必要な時にのみプラズマ発生を可能に ■装置の小型化・低価格化を実現 ※低温プラズマ(70℃以下)・酸素を使った熱処理プラズマについてもご相談ください。 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 長野日本無線株式会社
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PVDコーティングとは、物理蒸着とは金属等、融点の高い物質を電気の力を…
面処理のガス軟窒化で1300HV程度です。 コーティングの色は、蒸着させる物質により異なり、 膜色は工具でよくある金色、その他オレンジ、グレー、紫など様々あります。 処理温度は、450℃前後である為、 処理中における素材自体の寸法変化、歪がありません。 金型材料の再結晶温度は560℃前後なので、それより高い温度にすると硬度が落ちて変形します。...
メーカー・取り扱い企業: みのる産業株式会社
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強力なプラズマ分子照射とヒータチャックを組み合わせることにより、通常の…
特長 ●高出力密度ダウンストリーム・プラズマ処理 ●ヒータステージ最高温度250℃ ●MFCによる各種ガス雰囲気制御(最大4系統) ●低周波40kHzプラズマ電源により効率的で加熱の少ない処理を実現 (CV200RFS) ●ストリップレート CV200RFS:最大70...
メーカー・取り扱い企業: ハイソル株式会社
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優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現!スパッタカソードを標準装備していま…
細や膜質などにつきましてはお問い合わせください。 【特長】 ■極めて平滑なDLC膜が形成可能:(Ra=0.015μm以下) ■成膜レートが早い:(3μm/hr以上) ■低温成膜:(200℃以下) ■厚膜形成可能:(20μm) ■DLC膜の除膜:同一真空槽内でDLCの除膜が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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CXコーティング 防水 防湿 生体適合性 無償コートも受付中
防水・防湿、絶縁、生体適合性などの性能を持ち合わせているCXコーティン…
酸やアルカリには非常に強い被膜です。薬品付近での使用などを検討しておられる場合、弊社の膜でテストしてみるのも非常に有効かもしれません。 ◆耐熱性・絶縁性 PPXコーティングは膜種によっては350℃ほどまでの耐熱性をもったものもあります。絶縁性は膜厚によって絶縁破壊電圧なども変わってきます。用途によって膜種を選定し、お客様へご提案させていただいております。 上記の性能を薄膜(5μm)のコ...
メーカー・取り扱い企業: オーエスジー株式会社グループ
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日本発のまったく新しいガスイオン注入も可能なDLCコーティング装置です…
方位に均一にDLC処理が可能です ・ワーク自身がプラズマ発生用アンテナになる為、外部アンテナやイオン源が必要なく簡単にDLC処理が可能になりました ・パルス電源を使用しているため非常に低温(50℃〜)での処理も実現しました ・金属から絶縁物まで幅広い物がこの一台でDLC処理できます...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
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低温・電荷ダメージなし!簡易型大気圧プラズマ装置 洗浄・表面改質・親水…
【特徴】 ■熱によるダメージは殆んどありません。 →熱に対して脆弱なサンプルへの処理が可能です。 (条件によってはサンプル表面を40℃程度に。) ■コロナ放電のような電流集中したアーク状態ではありません。 →処理対象物へ電荷のダメージを与えません。 ■窒素のみをプラズマ化。 →ArやHeなどの高価なガスは必要としません。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社チェッカーズ
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導電性カーボン薄膜をスパッタリングで形成。低温(400℃以下)で不活性…
独自高密度スパッタ法 アーク放電型マグネトロンスパッタリング法(ADMS法)によりメタル成膜と同等のプロセスで導電性カーボン薄膜を形成。 従来のスパッタカーボン薄膜に比べて格段に緻密で高い密着性が特徴。 導電特性と膜の安定性よりエネルギー・バイオセンサーなどの新分野に対応 導電性カーボン薄膜は硬度や表面の平滑性に優れており、金属への高い密着性より機械部品の表面処理(トライボロジー用途)への応...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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緻密で耐摩耗性と耐酸化性に優れたSiC(シリコンカーバイド)膜をPVD…
新開発アークフィラメント型イオンプレーティング法により従来に無かったPVD法による」SiC成膜を実現。 400℃以下の低温で緻密で耐摩耗性・耐酸化性に優れたSiC膜を形成可能とした新成膜技術を採用。 個体シリコンを出発材料としたイオンプレーティング法のためシンプルで環境負荷の少ないクリーンなプロセスを実現。...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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表面改質・洗浄・親水処理・接着強化に優れた低温電荷ダメージ無し!ペン型…
【特長】 ■熱によるダメージは殆んどありません。 →熱に対して脆弱なサンプルへの処理が可能です。 (条件によってはサンプル表面を40℃程度に) ■コロナ放電のような電流集中したアーク状態ではありません。 →処理対象物へ電荷のダメージを与えません。 ■窒素のみをプラズマ化。※アルゴンは導入できます。 →ArやHeなどの高価な...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社チェッカーズ
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ALNコーティング装置(高密度プラズマスパッタADMS装置)
高密度プラズマスパッタで結晶性AlN膜を形成、立体形状への全面コーティ…
ーク放電型マグネトロンスパッタリング法)により従来に無い緻密なAlN膜を立体形状基板に成膜。 従来の10倍のイオン量の高密度プラズマスパッタを実現。他には無い高反応性スパッタで結晶性AlNを500℃以下の低温で形成 電子デバイスから機械部品まで新たな表面機能を生み出す新薄膜形成装置 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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AlNテンプレート作成装置(配向性AlN膜用スパッタリング装置)
UV-LED用AlNテンプレートをスパッタで。高い結晶性とC軸配向性を…
UV-LEDの製造の低コスト化に必要なサファイア基板へのAlNテンプレートをスパッタで作成。100arc/sec以下のC軸配向性を持つAlN膜を低温(700℃以下)でスパッタリングで形成。 シンプルかつ安定したプロセスとハイスループット性でUV-LEDの低コスト化に貢献。 サンプルテストに対応中、高周波デバイスへの展開も開発中。 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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マニュアル操作により化合物半導体ウエハ(GaAs,InP,GaP)を非…
◎特徴 1.450℃の高温ウエハの非接触搬送が可能である。 2.化合物半導体ウエハ(GaAs,InP,GaP)の下記の切り欠きウエハの非接触搬送が可能である。 ・Φ2~4in ウエハ ・Φ2~4inx1/4ウエ...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所
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硬質膜用スパッタリング装置STL5521型(精密レンズ金型用)
最大5元カソードによる多元・多層成膜。耐摩耗性・耐熱性・平滑薄膜。ロー…
最大5元kソードを装備し、5元同時スパッタが可能な専用スパッタ室と重量基板の搬送に適したロードロック機構で金型コーティングに対応。 650℃の加熱とガス冷却機構を併用する特殊基板台を装備。 高温加熱による膜の密着力の確保と処理の高速化を実現。 幅広い材質・形状に最適な膜種・処理温度・プロセスを実現できる硬質膜用専用ロードロックタイプ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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EUROVAC社製VARIAN型廉価版3keVイオン銃
【仕様】 ■ イオンビームエネルギー:0–3keV ■ イオン電流密度:>300μA/cm2 ■ 高スパッタリングレート:200Å/min ■ ビーム径:2.5mm ■ リモートコントロール機能:ビーム電圧のオンオフ ■ イオンビームスキャニング機能: ■ DC偏向機能: ■ 自動出ガス機能: ■ 取付フランジ:ICF70 ■ 許容加熱温度:250℃
メーカー・取り扱い企業: 有限会社テク
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熱化学蒸着法により各種機能性セラミック膜を、単層又は多層コーティングし…
合成し、 基材・基板の表面に吸着・堆積させ処理物表面に超硬質のセラミック化合物を化学的にコーティングさせる方法です。 熱化学蒸着法により各種機能性セラミック膜を、高温度(900~1100℃)で単層又は多層コーティングし、 得られた高硬度、高密着力セラミック膜により素材の性能を飛躍的に向上させます。 CVDコーティングの機能 すべり性/耐薬品性/耐熱性/ 撥水・撥油性/親...
メーカー・取り扱い企業: みのる産業株式会社
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溶接ヒューム回収に!局所排気装置に好適な難燃性耐熱ホース!
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常温から約150秒で1200℃に!高速高温カートリッジヒーター
短時間で1200℃まで上昇!加工時間の短縮、生産性の向上に貢献…
三洋熱工業株式会社 -
【蓄熱カプセル】相変化50℃の潜熱蓄熱カプセル
潜熱蓄熱物質を内包したマイクロカプセル。高温排熱を貯めて、50…
根上工業株式会社 -
アクリル、PC、ABS樹脂の溶解剤『eソルブ21RA-1』
アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ABS樹脂の接着剤として、…
株式会社カネコ化学 -
磁気選別機『異物除去用 格子型マグネット 両端固定』
食品・粉粒体に混入した金属片を強力に吸着。1ミリ単位のオーダー…
株式会社サンギョウサプライ -
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