超高真空スパッタリング装置（STM2323型）

先端薄膜デバイスの研究開発に最適。カスタマイズ容易な枚葉式超高真空イン…

１０‐⁷ｐａの排気性能を持つ超高真空スパッタリング装置。標準構成でカセット室・搬送室・エッチング室・複数のスパッタ室を装備。全自動ＣｔｏＣ方式による完全自動運転で研究開発作業の効率化を実現いたします。 高効率強磁性体用カソードやワイドエロージョンカソードなど成膜機構も...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

真空装置　基板用平行平板プラズマ処理装置　PC-RIEシリーズ

処理可能基板サイズ550×650ｍｍ。無廃液化・低ランニングコストを実…

「PC-RIEシリーズ」は、中型液晶基板、プリント基板等のアッシング、デスミア、表面改質、Ｆ系ガスエッチング等の処理が行えます。チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○真空プラズマ技術は従来の処理に比べて良環境化 →クリーン化，無廃液化 ○低ランニン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

平行平板式減圧プラズマ処理装置　真空プラズマ装置

各種基板・フィルムに対し、用途に応じた様々な官能基（親水、親油、密着性…

効果を与える処理が可能です。 もちろん、一般的なプラズマ処理装置として、アッシング、エッチング、デスミア等の処理も可能です。 チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○官能基修飾処理 ○リアクティブイオンエッチング（RIE） その他詳細は、PDF...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

プラズマ処理装置　WLP600S

6インチと8インチのウエハーに対応！平行平板方式のプラズマ処理装置

○スループット：3000枚／400時間（ポリイミド膜1μｍエッチング時） ○処理ステップ：3ステップ、10レシピ ○ウエハーサイズ：6インチ、8インチ兼用 ○ウエハー搬送方式 →垂直動作カセットエレベータ（6インチ、8インチ兼用） →水平・旋回動作1フィンガー吸着方式クリーンロボット ○本体寸法：W600×D1500×H1850 ○本体重量：650kg ●詳しくはお問い合わせ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エスクラフト

真空装置　平行平板評価用プラズマ処理装置　　

半導体、液晶の微細パターニング、DNAチップ製造など微細異方性加工に広…

チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまで貴社のご要望に適したバージョンが選択できます。プロセス再現性を重視し電極温調用チラー、ＡＰＣを標準装備し、高真空プロセス対応のターボポンプを増設することがで...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研