• 溶接ヒューム回収に!局所排気装置に好適な難燃性耐熱ホース! 製品画像

    溶接ヒューム回収に!局所排気装置に好適な難燃性耐熱ホース!

    PR難燃性・屈曲性に優れた高機能耐熱ホース(最高1,100℃)は、プラズマ…

    弊社ドイツ製高機能耐熱ホースは、125℃~最高1,100℃に対応可能な約20種類の豊富なラインナップがございます。 中でも難燃性・屈曲性・耐久性に優れた耐熱ホース製品は、プラズマ切断機、ガス切断機、溶接ロボットのヒューム回収用で実績があります。 その他、フレキシブル性に富んだ高温排気ガス抽出用ホースもご用意をしています! 【実現できること】 ◎ヒューム吸引用の塩ビ(PVC)ダクトホース...

    メーカー・取り扱い企業: エフ・アイ・ティー・パシフィック株式会社

  • 多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】 製品画像

    多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空装置設計・製作からサポートまで短納期でご対応 製品画像

    真空装置設計・製作からサポートまで短納期でご対応

    真空装置の設計・製作から保守作業までお任せを!

    面支給による製作】 ・部品加工、購入、組立、調整、検査、据付調整 ・量産装置向け組立、調整、検査、据付調整 【半導体プロセス応用製品】 ・実験用蒸着装置・有機EL蒸着基板用実験装置・スパッタ装置(実験設備/生産設備)・CVD装置(実験設備/生産設備)・成膜装置(実験設備/生産設備) 【真空対応製品の設計・製作】 ・各種配管・各種フランジ応用製品・真空室内用応用部品の設計製作 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社コスモ・サイエンス

  • PETボトル用プラズマCVD装置 製品画像

    PETボトル用プラズマCVD装置

    3L容器までコーティング可能!容器軽量化による物流コストの低減などに貢…

    当製品は、当社が得意としているプラズマCVDプロセス技術を応用し、 樹脂容器材質として一般的に普及している「PETボトル」への DLCコーティングに特化した成膜装置です。 PETボトル内面へサブミクロンオーダーのDLC薄膜コーティングを施すことで、 内容物の酸化による風味劣化防止や、炭酸成分の溶出防止、 また容器軽量化による物流コストの低減などに貢献します。 【特長】 ■必要...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • CARBOZENハイブリッドPVDシステム 製品画像

    CARBOZENハイブリッドPVDシステム

    製膜スピードUP&高い密着性!導入コストや維持費も低いDLCコーティン…

    『CARBOZEN ハイブリッドPVDシステム』は、製膜スピードを飛躍的に向上させた新型DLCコーティング装置。優れた密着性が特長です。 リニア・イオン・ソースとUBMスパッタ、FCVAソースの適切な組み合わせで、基材との密着性が高い、様々なDLC膜をコーティングすることができます。 【特長】 ■装置とオペレーターのためのロック機能 ■MS Windows OSベースのソフトウェア...

    メーカー・取り扱い企業: パーカー熱処理工業株式会社 川崎事業所

  • Nd:YAGレーザパルス蒸着システム 製品画像

    Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

    Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

    り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒...

    メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社

  • PLAD-221-Y PLDシステム 製品画像

    PLAD-221-Y PLDシステム

    PLAD-221-Y PLDシステム

    り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒...

    メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社

  • スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A 製品画像

    スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • エキシマレーザパルス蒸着システム 製品画像

    エキシマレーザパルス蒸着システム

    エキシマレーザパルス蒸着システム

    り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒...

    メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社

  • PLAD-271PE PLDシステム 製品画像

    PLAD-271PE PLDシステム

    PLAD-271PE PLDシステム

    り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒...

    メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社

  • PLAD-150Y PLDシステム 製品画像

    PLAD-150Y PLDシステム

    PLAD-150Y PLDシステム

    り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒...

    メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社

  • PLAD-250R PLDシステム 製品画像

    PLAD-250R PLDシステム

    PLAD-250R PLDシステム

    り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒...

    メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社

  • PLAD-261PG PLDシステム 製品画像

    PLAD-261PG PLDシステム

    PLAD-261PG PLDシステム

    り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒...

    メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社

  • PLAD-250E PLDシステム 製品画像

    PLAD-250E PLDシステム

    PLAD-250E PLDシステム

    り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒...

    メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社

  • PLAD-161 PLDシステム 製品画像

    PLAD-161 PLDシステム

    PLAD-161 PLDシステム

    り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒...

    メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社

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