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9件 - メーカー・取り扱い企業
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PR最大限の可用性と迅速な修理に対応!より長い寿命と顧客の生産性を保証
『RDHX PRO』は、データセンターの局所的でエネルギー効率の高い 冷却を実現するよう設計されている冷水冷却ユニットです。 データセンターの局所的でエネルギー効率の高い冷却を実現、 800Wモデルで78kW、600Wモデルで59kWの冷却能力。 ツールレス、ホットスワップ可能なコンポーネントにより、 最大限のアップタイムとより長い寿命と顧客の生産性を保証。 HPCおよび温水冷...
メーカー・取り扱い企業: エヌヴェントジャパン株式会社 エンクロージャー事業部
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PR日本製! 抜群のクッション性で接触事故による建物や車輛の破損を防ぎシ…
・合成ゴム製でしかも中空形状なのでクッション効果抜群。 ・工場荷捌所などの建物の破損を防ぐ。 ・穴あき金具付きなので取り付けしやすい。 ・倉庫/配送センター/商品発着場/トラックテール/カーゴ車/パレットの当たり止め及び車止め ・御指定いただければ穴ピッチや穴の数も変更します。 ・長さも変更可能です。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...材質...
メーカー・取り扱い企業: 信栄物産株式会社 本社
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高温イオン注入・高温アニール受託サービス【SiC、GaN等】
SiC等のデバイス作製に適した高温イオン注入や、ドーパント活性化のため…
SiC(シリコンカーバイド)、GaN(窒化ガリウム、ガリウムナイトライド)等の化合物半導体では、デバイス作製に適した高温イオン注入やドーパント活性化のための高温アニールが必要とされます。弊社では、高温イオン注入や高温アニールのリクエストにお応えします。 また、アニール時の温度が高温のため、アニール前のキャップ膜による表面保護が必要になります。弊社では高温アニールだけでなく、PBII(Plas...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター
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ご要望のイオン種や深さ、濃度に合わせてシミュレーションが可能です。
お客様のご要望「ご希望の深さと濃度にするにはエネルギーと注入量をどれくらいにすればよいのか」や「ご指定のエネルギーと注入量でドーパントのイオンはどのような深さ分布となるか」に対して、シミュレーションをご提供することが可能です。 (イオン注入のご依頼を前提としたサービスです)...イオン注入シミュレーション ・シングルプロファイル 深さ、濃度から注入条件を計算 ・ボックスプロファイル ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター
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半導体などの工程加工に適した各種成膜、酸化膜形成、アニール処理に適した…
SiCのアニール前処理として最適なカーボン成膜をPBIIで、アニール処理をRTAで、アニール前後処理を弊社で行うことができます。...成膜 ・PBII(Plasma Based Ion Implantation) カーボン成膜が可能 ・スパッタ 電極膜の成膜が可能 熱処理 ・RTA(Rapid thermal annealing) 縦型高周波誘導加熱方式により、~1800度...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター
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低エネルギーから8MeVまでの多彩な注入装置を完備しております。
室温でのイオン注入はもちろん、世界で数社のみが対応可能な高温でのイオン注入では、トップレベルの技術力と設備を誇ります。 弊社では、チップ小片から300mm(12インチ)径ウエハまで多種多様なサンプル及び、お客様からのご要望に合わせて各種条件での注入処理が可能です。注入条件は10~8,000KeVまで、室温から高温加熱(600℃)まで、イオン種は約60種の対応が可能です。...※詳しくはPDF...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター
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Various implanter line-up for your …
We can perform ion implantation processing under various conditions according to customer requirements, with a wide variety of samples from chips to 12-inch wafers. The implantation conditions range f...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター
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Film Deposition&Heat Treatment
Equipped with various film depositi…
PBII is suitable for carbon film for pre-annealing of SiC, RTA is for annealing....Film formation ・ PBII (Plasma Based Ion Implantation) Carbon deposition ・ Sputter Possible to form elect...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター
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Simulation for ion species, depth a…
Customer's request "How much energy and dose should be used to achieve the desired depth and concentration?" And "What depth distribution of dopant ions will be given at the specified energy and dose....
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター
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『真贋判定』 や『故障解析』など、お客様に最適なサービスを提案いたしま…
自社長野物流センター 検査歴10年以上の経験を活かし、半導体・電子部品の真贋判定から故障解析、 部品選別や代行検査など、幅広い検査が可能です。 【こんなお悩みありませんか?】 外観検査やX線検査では判定できな...
メーカー・取り扱い企業: コアスタッフ株式会社
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技術管理、品質管理、納期管理を完全サポートし高品質をお届けします
当社では、実装、ユニット組立までお客様のニーズに 合わせ試作1枚~量産まで対応いたします。 多種多様な実装ニーズに対し短納期でのご提案はもちろん、 「もの造り」を基本としお客様へ満足をご提供。 また、ご予算に対応する為の知恵を絞りることにより、 出来る限りご希望に沿う価格対応をいたします。 【サービス事例】 ■短納期実装 ■基板実装 ■機器組立、リワーク他 ※詳...
メーカー・取り扱い企業: グローバルスタイル株式会社 関西工場EMSセンター
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