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アドバンスト電動ドライバー『KL-TCC/SGT-CC』

PR角度エンコーダー・DCサーボモーター搭載、電流制御でトルクの締め分けが…

『KL-TCC/SGT-CC』は、角度エンコーダーを搭載した電流制御式のアドバンスト電動ドライバーです。ある一定のトルクが掛かった時点で角度の計測を始めるため、確度の高い締付け不良検出を実現。締め付けトルク等をJOBに登録でき、締め付け結果と同時に部品番号も記録可能です。また、トルク/回転速度等の可変は「バーコード」「専用ソフト」「イーサネット」で切替えできます。 ...
メーカー・取り扱い企業：キリウスジャパン株式会社
太陽電池の最大電力点で動作「MPPT負荷装置」シリーズ

PR独自MPPT制御機能を採用し、様々な太陽光の照度・角度・温度条件で最大…

太陽電池モジュールの最大動作点（Pmax）で追従する装置です。太陽電池の発電性能を評価するには、太陽電池を実際に発電状態にする必要があります。負荷を接続しないと電流は流れませんので、発電性能を計測できません。本装置は太陽電池を接続することで、その出力電力を内部で熱に変換することにより消費します。最低限の計測環境を構築するだけで太陽電池の発電量計測が可能です（本装置内で毎秒電圧・電流・電力を...
メーカー・取り扱い企業：日本カーネルシステム株式会社本社
多機能スパッタリング装置【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー）基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート）基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップス...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【MiniLab-SA125A】多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

Ar, O2, N2）反応性スパッタリング・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー＜30W 低出力制御*ソフトエッチング *独自の"Soft-Etching"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減・タッチパネル又はWindows PC制御：操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うこ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置コンパクトフレームに…

ポンプ）・基板回転、上下昇降ステージ・Max500℃基板加熱ヒーター・水晶振動子膜厚センサー・7”タッチパネルHMI操作（’IntelliLink’ WindowsPCリモート監視ソフト付属）...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
リフトオフプロセス対応真空蒸着装置

高周波・通信デバイスに多用されるリフトプロセスに対応した専用蒸着装置で…

°at6インチウェハ） ■基板水冷機構による低温蒸着（70℃以下＝実績値） ■大口径排気系による高速排気とクリーンなバックグラウンドによる緻密な膜質 ■豊富なオプション類による柔軟なハード＆ソフト対応（枚葉式＝CtoC化　ロードロック化　複合プロセス化＝ロードロック化＋他プロセス室接合） ■デモ機を常設し、サンプルテスト対応可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

RF両電源対応 3. Load Lockチャンバー・プラズマエッチングステージロードロック室では「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリーニング、又、同社独自の『ソフトエッチング』技術による<30W 低出力・ダメージレスプラズマエッチングステージも搭載可能。2D（PMMA等のレジスト除去など）、グラフェン剥離、又、テフロン基板などのダメージを受けやすい繊細なエッ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
標準バッチバッチタイプ蒸着装置（ＡＭＦシリーズ）

電子デバイス用途のスタンダードシリーズ。Ｒ＆Ｄ用の多目的小型研究用から…

全機種クリーンルーム、クリーンバキューム対応で各種選択機構を装備。実績豊富な標準仕様から個別要求に細やかに対応。蒸発源・加熱温度・基板機構（プラネタードーム・公転ドーム）操作・ロギングソフト　全てカスタマイズＯＫ社内デモ機でプロセステストも対応　幅広く柔軟なハード＆サポート　 ...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

源・有機蒸着源 x 最大4源・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源・電子ビーム蒸着・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃）・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング・CVD（熱CVD, PECVD） *プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリングプラズマエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー）基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート）基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップス...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

Ar, O2, N2）反応性スパッタリング・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー＜30W 低出力制御*ソフトエッチング *独自の"Soft-Etching"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減・タッチパネル又はWindows PC制御：操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うこ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【MiniLab】蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

*Chamber-3. Load Lockチャンバー・プラズマエッチングステージロードロック室で「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリーニング、又、同社独自の『ソフトエッチング』技術による<30W 低出力・ダメージレスプラズマエッチングステージも搭載可能。2D（PMMA等のレジスト除去など）、グラフェン剥離、又、テフロン基板などのダメージを受けやすい繊細なエッ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

源・有機蒸着源 x 最大4源・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源・電子ビーム蒸着・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃）・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング *プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

4源・有機蒸着源 x 最大4源・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源・電子ビーム蒸着・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃）・プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社