スマートディスプレイ－直観的なGUIを開発、ホストとシンプル接続

PRCTP搭載の高解像度広視野角TFT液晶モジュール。GUIとタッチを直感…

画面サイズ 3.5/4.3/5.0/7.0/10.1インチ、主要なサイズをカバーしたCTP搭載の高解像度広視野角TFT液晶モジュールです。 開発環境（GUI作成ツールと開発キット）が用意されており、PC上でソフトウェア言語を使用せずに操作性のよいGUIを短期間で作成できます。 GUI作成ツールには、画面に表示するオブジェクト（ボタン、メーター、アイコン等）が多数用意されており、タッチ機能を...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社デンシトロン

新型 PFA溶着機『PFMシリーズ』

PRタッチパネルで簡単操作！機能性、操作性ともにパワーアップしたPFA溶着…

『PFMシリーズ』は、作業性向上やワイドな施工範囲、使いやすさなど従来の仕様を踏襲しつつ、新規ヒーター、安全対策のためのボタンオプション等、新機能を搭載し、 溶着品質、耐久性、操作性、安全性が向上しています。 【特長】 ■高速昇温、温度が均一な高性能ヒーターを採用。長期間の使用でも初期と同等の性能を維持 ■当社製PFA溶着継手 TBNシリーズを使用することで最短溶着が可能 ■安全対策のためのダブ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キッツエスシーティー

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

・真空排気系：ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ（ロータリー、又はドライスクロールポンプ） ・基板回転、上下昇降ステージ ・Max500℃基板加熱ヒーター ・水晶振動子膜厚センサー ・7”タッチパネルHMI操作（’IntelliLink’ WindowsPCリモート監視ソフト付属）...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

6inch ◉ SUS304水冷式チャンバー ◉ 到達圧力 5x10-5Pascal ◉ 最大3系統プロセスガス入力 ◉ 最大3系統マスフローコントローラ（オプション） ◉ 7"HMIタッチパネル ◉ 高精度ワイドレンジ真空ゲージ 10-9〜1000mbar ◉ USB端子付、PCデータロギング機能 ◉ ターボ分子ポンプ：EXT75DX（Edwards社） ◉ ロータリーポンプ：...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

フットプリント・省スペース】 ・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）：1200(W) x 590(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、…

(カーボン炉）, タングステン(メタル炉) ・断熱材：グラファイトフェルト材(カーボン炉）, タングステン/モリブデン(メタル炉) ・有効加熱範囲：Φ2inch〜Φ4inch ・7inchタッチパネル操作 ・デジタル真空計 ・フローメーター（ガス流量手動調整） ・温度制御：デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度：1x10-2Pascal（*但し空炉の場合） ・一次側電源仕...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

プション） ■基板加熱温度：最高1000 ℃（基板表面） ■加熱源：ハロゲンランプ ■昇温レート：最大150 ℃/sec ■真空排気：DP ■制御操作 　・制御：PLC 　・操作：タッチパネルまたはPC ■データロギング：外部メモリまたはPC ■基板搬送：大気搬送ロボット、冷却ステージ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

真空ガス置換オーブン

Class 1のクリーンな環境で複数枚のウェハを加熱処理 最大450…

真空環境、不活性ガス雰囲気下(N2, Ar etc)に対応した 卓上型のチャンバー式加熱オーブンです。 装置前面のタッチパネルディスプレイで容易に温度制御レシピを設定できます。 また、クラス1のクリーンな環境で、温度安定性の高い加熱処理を実現しました。 1×10-5 Torrの高真空に対応したモデルもあります。 (...

メーカー・取り扱い企業： ハイソル株式会社

真空蒸着装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

(W) x 590(D)mm ・トリプルラックタイプ（MiniLab-125）：1770(W) x 755(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

ルフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ（MiniLab-026）：590(W) x 590(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。 【主仕様】 ◉ チャンバ：SUS304製 クラムシェル式 ◉ 19inchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

6inch ◉ SUS304水冷式チャンバー ◉ 到達圧力 5x10-5Pascal ◉ 最大3系統プロセスガス入力 ◉ 最大3系統マスフローコントローラ（オプション） ◉ 7"HMIタッチパネル ◉ 高精度ワイドレンジ真空ゲージ 10-9〜1000mbar ◉ USB端子付、PCデータロギング機能 ◉ ターボ分子ポンプ：EXT75DX（Edwards社） ◉ ロータリーポンプ：...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

ルフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ（MiniLab-026）：590(W) x 590(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。 【主仕様】 ◉ チャンバ：SUS304製 クラムシェル式 ◉ 19inchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、…

(カーボン炉）, タングステン(メタル炉) ・断熱材：グラファイトフェルト材(カーボン炉）, タングステン/モリブデン(メタル炉) ・有効加熱範囲：Φ2inch〜Φ4inch ・7inchタッチパネル操作 ・デジタル真空計 ・フローメーター（ガス流量手動調整） ・温度制御：デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度：1x10-2Pascal（*但し空炉の場合） ・一次側電源仕...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

RTA装置

トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

（オプション） ■基板加熱温度：最高1000℃（基板表面） ■加熱源：ハロゲンランプ ■昇温レート：最大150℃/sec ■真空排気：DP ■制御操作 　・制御：PLC 　・操作：タッチパネルまたはPC ■データロギング：外部メモリまたはPC ■基板搬送：大気搬送ロボット・冷却ステージ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社