• 高温加熱用ヒーター製品「予熱くん」カスタマイズ対応します 製品画像

    高温加熱用ヒーター製品「予熱くん」カスタマイズ対応します

    PR加熱・高温保持についてお困りの方必見!「カスタマイズ対応」加熱装置をご…

    こんなご要望はありませんか? 「金型の焼きバメ作業に使いたい」「~650℃で高温加熱したい」 「溶接用途で、徐冷もできる高温ヒーターを探している」 「加熱ヘッドの形状、素材をカスタマイズして欲しい」 「制御仕様をカスタマイズして欲しい」「パトライトを付けたい」 「専用台車も作りたい」など。 当製品は、昇温速度が速く、火を使わないので安全・安心です。 小型機であれば、数分で65...

    メーカー・取り扱い企業: 南海モルディ株式会社(旧:南海鋼材株式会社)

  • 温度制御システムタンク『RKMH シリーズ』(加圧・真空タイプ) 製品画像

    温度制御システムタンク『RKMH シリーズ』(加圧・真空タイプ)

    PR撹拌真空、圧送、温度制御を1台で!加熱撹拌、真空脱泡、加熱などの用途で…

    電熱線の内蔵されたマントルヒーターをタンクに取り付け タンクを直接加熱しPID制御にて温度制御を行います。 温度制御は温度制御コントローラーにて調整可能です。 撹拌粘度、撹拌目的に応じて撹拌機・撹拌羽根を設計、製造します。 また、10L以外の容量も製作可能です。その他、ご要望に合わせてオーダーメイド製作致します。常圧仕様もお取り扱いしております。 詳しくはお...

    • 温度調整コントローラー.png

    メーカー・取り扱い企業: 加藤ステンレス科学株式会社

  • アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』 製品画像

    アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

    イスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』 製品画像

    真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』

    卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲…

    ペース:328(W) x 220(D) x 250(H)mm(*2inch用チャンバー参考値) ◉ るつぼ内サンプル焼成用(るつぼΦ50 x 100), 又はΦ1"〜Φ4"ウエハー焼成用フラットヒーター ◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス ◉ シンプルな構成、優れた操作性 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃  製品画像

    MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃

    SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応…

    ■Max2000℃(真空中1x10-5Torr, N2, Ar) ■3種類のヒーター材質: ・高純度グラファイト:Φ6〜Φ8inch ・SiC3(炭化珪素)コーティング:Φ4〜Φ8inch ・TiC3(チタン・カーバイド)コーティング:Φ4〜Φ8inch ■使用雰囲気: ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】 製品画像

    スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

    スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

    ・蒸着範囲:Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系:ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ(ロータリー、又はドライスクロールポンプ) ・基板回転、上下昇降ステージ ・Max500℃基板加熱ヒーター ・水晶振動子膜厚センサー ・7”タッチパネルHMI操作(’IntelliLink’ WindowsPCリモート監視ソフト付属)...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』 製品画像

    真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…

    ◆基本仕様◆ ・ヒーター:C/Cコンポジット(カーボン炉), タングステン(メタル炉) ・断熱材:グラファイトフェルト材(カーボン炉), タングステン/モリブデン(メタル炉) ・有効加熱範囲:Φ2inch〜Φ4inc...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置 製品画像

    ◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置

    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

    イスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』 製品画像

    アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

    SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応…

    ◉Max2000℃(真空中1x10-5Torr, N2, Ar) ◉3種類のヒーター材質: ・高純度グラファイト:Φ6〜Φ8inch ・SiC3(炭化珪素)コーティング:Φ4〜Φ8inch ・TiC3(チタン・カーバイド)コーティング:Φ4〜Φ8inch ◉使用雰囲気: ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』 製品画像

    アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…

    ◆基本仕様◆ ・ヒーター:C/Cコンポジット(カーボン炉), タングステン(メタル炉) ・断熱材:グラファイトフェルト材(カーボン炉), タングステン/モリブデン(メタル炉) ・有効加熱範囲:Φ2inch〜Φ4inc...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

1〜8 件 / 全 8 件
表示件数
60件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • bnr_2403_300x300m_ur-dg2_dz_ja_33566.png
  • 0527_iij_300_300_2111588.jpg

PR