VPG 300 DI

VPGシリーズに300x300mm角基板まで対応した高速描画装置が加わ…

・高精細・高速描画 ・最大描画領域　300x300mm2 ...最小寸法0.5um、Line　Space 0.8umまで描画可能。 選択できるWrite Mode(最小寸法0.5um　または0.8um) 高出力DPSSレーザー 最大描画面積　300x300mm2 リアルタイムオートフォーカス オートローダー 基板検出機能 裏面アライメント機能 Zerodur採用 高精度微分干...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

【蒸着技術詳細】蒸着のしくみ

分子を基板表面に堆積させ、薄膜を形成させる技術！真空蒸着について解説！

蒸着のしくみについてご紹介いたします。 「真空蒸着」とは、1.0E-3Pa以下の真空中で金属や酸化物等を電子銃などで 加熱し蒸発させ、発生した分子を基板表面に堆積させ、薄膜を形成させる技術です。 河合光学株式会社は、真空蒸着技術で独自の研究開発を進めてきました。 お客様の要求に対し的確に対応するため、経営者及び従業員一同が一体となり 情報提供し合いながら、品質の安定した安全性...

メーカー・取り扱い企業： 河合光学株式会社