• 『SKF 軸受メンテナンス製品』総合カタログ 製品画像

    『SKF 軸受メンテナンス製品』総合カタログ

    PR軸受を長期にわたって安心して使うのに欠かせないメンテナンス製品を多数掲…

    当社は軸受および関連製品を多数取り扱っています。 ただいま、軸受の性能を維持するのに役立つ 『軸受メンテナンス製品』を1冊にまとめた総合カタログを進呈中です。 【ラインアップ】 <取付けと取外し> ■機械式工具 ■ヒーター ■油圧式工具 <計測機器> ■アライメント ■簡易状態監視 <潤滑> ■潤滑剤 ■グリース自動供給ツール ■グリース手動供給ツール ■オイル点検およ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本エスケイエフ株式会社

  • 薬液供給装置(連続式) P112 製品画像

    薬液供給装置(連続式) P112

    PRプロセス装置に連続で薬液を供給

    本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法:W1720*D810*H2010 ○重量:約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノメイト

  • リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜プロセスの構築など、幅広い研究に対応できる装置です。 これまでのスパッタ装置で成膜が難しいとされる強磁性体...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • 大気非暴露型多元スパッタ装置 製品画像

    大気非暴露型多元スパッタ装置

    硫化物対応も可 薄膜固体二次電池研究用専用成膜装置 ターゲット~成膜…

    3インチカソード3元を装備した標準型スパッタ装置をカスタマイズ。 専用ターゲットとグローブボックスを標準装備。 Li系複合酸化物 硫化物等ターゲットも供給。有償にて成膜テストに対応 実績豊富な研究開発用スパッタ装置の基本仕様を踏襲、小径ターゲットを使用し大面積(φ180)への成膜が可能。 基板加熱ヒーターと基板水冷機構を標準装備し幅広い成膜条件を...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソース 製品画像

    【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソース

    多目的真空蒸着装置HEXシステム用RF&DCスパッタリングソース

    【主な仕様】 ターゲット直径:2インチ ターゲット厚さ:最大6mm(材料に依存) DC電源:720W(600V, 1.2A) RF電源:300W(13.56MHz) ガス供給:ガスフード経由 冷却:水冷(1L/分)...

    メーカー・取り扱い企業: テガサイエンス株式会社

  • 高電圧パルス発生器 製品画像

    高電圧パルス発生器

    電圧・電流設定の操作、モニタ-を行う事が可能

    圧高速スイッチ(2KV-pp / 40ns)搭載。 ・各電源を機能別にモジュール化。 ・各電源の電圧、電流、温度モニタ機能。 ・負荷短絡時の保護機能。 ・5KVフローティング回路へ80W電力供給、SPI信号通信。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社A・R・P

  • 仕様多様化真空フランジ-「ICFフランジシリーズ」  製品画像

    仕様多様化真空フランジ-「ICFフランジシリーズ」

    高真空及び超高真空に対応可能の真空部品

    日揚科技(Htc)は供給している真空フランジはKF(NW)シリーズ、ISOシリーズとICFシリーズの3種類があります。ICFフランジシリーズ は製品多様に揃えています。 ICFシリーズフランジを分類すると固定型、回転型、...

    メーカー・取り扱い企業: 日揚科技股份有限公司

  • Plasma Quest Limited  企業紹介 製品画像

    Plasma Quest Limited 企業紹介

    リモートソース型イオンビームスパッタ装置 リモートプラズマソースの開発…

    ヘリコン型 高密度イオンソースの開発販売、及び 応用製品の開発販売で25年の歴史を持つ優良企業です。 グリッドレスで高密度なプラズマを発生させるヘリコンプラズマソースは、多くの装置メーカーにOEM供給を続けていおります。 その高品位なプラズマソースをイオン源として、ターゲットにバイアス印加を行う画期的な手法「HiTUS」システムにより、様々な条件やターゲットを用いてのスパッタを実現しています。 ...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • ターゲット材、スパッタリング材用高純度シリコン製品(5N〜6N) 製品画像

    ターゲット材、スパッタリング材用高純度シリコン製品(5N〜6N)

    高純度シリコン製品(5N〜6N)をお客様の要望によってカスタマイズしま…

    弊社では、高純度シリコン製品を製造する海外企業と密接な関係を作っており、お客様の要望に合わせた仕様の多結晶シリコン・インゴット、単結晶シリコン・ターゲット、単結晶スパッタリング・ターゲットを供給可能です。まずは弊社からのヒアリングにお答えいただき、サンプルを作成させていただきます。そのサンプルを実際にお手にとってご判断ください。きっとご満足いただけると思っております。どうかよろしくご検討を...

    メーカー・取り扱い企業: テラスケープ合同会社

  • 割れない!削らない!低コストな『スパッタリングターゲット』 製品画像

    割れない!削らない!低コストな『スパッタリングターゲット』

    酸化被膜防止を目的としたプレスパッタリングが必要なく工数削減が可能!熱…

    当社は特殊な製法により割れを低減させたSiターゲットを供給しております。 現状、割れが多く発生すると言われているSiターゲットですが、 弊社の特殊製法により割れを低減させることが可能です。 その他の各種金属材料や酸化物、合金ターゲットなど ...

    メーカー・取り扱い企業: USTRON株式会社

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