エバミスティ 微量オイル塗布制御装置 PO100

PRプレスオイル、防錆剤、潤滑油、離型剤などの粘性液を均一塗布可能。流量計…

“微量、しかも均一塗布”を追求し続けた特殊ノズルと制御装置。 ●微量塗布および流量把握のメリット 　オイル使用量低減、使用量把握によるコスト削減 　オイルタンク小型化と個数削減により省スペース化 ●均一塗布のメリット 　塗布量の不均一、不安定による製品不具合の削減 ●INTERMOLD 名古屋2024 に出展します！ 　プレスオイル噴霧装置の実演デモを行いますので、ぜひお立ち寄りください。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社共立合金製作所　/　総代理店　エバーロイ商事株式会社

ダイボンダー/フリップチップボンダー FALCONシリーズ

PRマルチな高精度部品搭載に対応！高度な荷重制御が要求されるアプリケーショ…

『FALCONシリーズ』は、マニュアルからオート仕様までユーザーのニーズの沿った 装置をラインナップしたダイ・フリップチップダイボンダーです。 オプションを組み合わせによる御社要求仕様でのダイ・フリップチップボンダーの製作を実現。 加熱機構、高荷重接合、ウェハからのピックアップ、チップ反転機能等、お客様の仕様に適した装置を提案可能。 また、搬送機などを取り付けたフルオート仕様に対応可能な上位モデ...

メーカー・取り扱い企業： テクノアルファ株式会社

立体物用スパッタリング装置

立体物成膜での高いカバレッジを実現！ 最大3台のスパッタカソードを搭…

ドを 搭載しています。 ワークステージに4軸機構（昇降、公転、自転、チルト）を搭載し、立体物成膜での高いカバレッジを実現。 加熱機構、バイアス電源を搭載し、逆スパッタ、高温スパッタ、膜応力制御が可能です。 最大3台のスパッタカソードを搭載し、金属膜、酸化膜等の積層成膜が 可能です。 【特長】 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ワークステージに4軸機構を搭載し、立体物...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

カーボンナノチューブ合成装置

優れた膜厚分布および再現性を実現！基板プラズマクリーニングシステム搭載

【仕様】 ■基板サイズ：最大φ12インチ ■CNT合成ガス：CH系、H2 ■基板加熱温度：最高800℃（基板表面） ■真空排気：RP ■圧力制御：APC制御 ■制御操作 　・制御：PLC 　・操作：タッチパネルまたはPC ■データロギング：外部メモリまたはPC ■オプション 　・基板自動搬送システム 　・ガス検知器 　・シリ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

ドライエッチング装置

RIEモードとDPモードの切り替えが可能！特殊表面処理によるメタルコン…

【仕様（抜粋）】 ■基板サイズ：最大φ12インチ ■プラズマソース：CCP型 ■真空排気 　・低真空プロセス：MBP+DP 　・高真空プロセス：TMP+DP ■圧力制御：APC制御 ■プロセスガス：F系、Cl2、Ar、O2、他 ■制御操作 　・制御：PLC 　・操作：タッチパネルまたはPC ■データロギング：外部メモリまたはPC ■基板搬送：大気または...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

立体物用プラズマCVD装置

高い汎用性を備えたシンプルな構造！独自のプラズマ制御方式を採用していま…

『立体物用プラズマCVD装置』は、豊富な蓄積データを有し、 独自のプラズマ制御方式を採用しています。 チャンバー容積は1m3。 多段式大量一括処理可能で、高い汎用性を備えたシンプルな構造です。 マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作可能ですので、 ご用命...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

搭載により 圧電特性低下に寄与する元素検知可能な製品です。 単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜することができます。 また発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、 高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜が可能。 当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載しており、基板温度900℃を実現します。 【特長】 ■圧電に寄与する軸長を最大限に長...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

Epitaxial-EB蒸着装置

最高900℃の高温プロセスが可能！エピタキシャル促進機構により単結晶成…

【仕様】 ■基板サイズ：最大φ12インチ ■基板加熱温度：700℃（基板表面） ■蒸着材料：金属または酸化物 ■真空排気：CP+DP ■膜厚コントロール：水晶式膜厚センサ ■制御操作 　・制御：PLC 　・操作：タッチパネルまたはPC ■データロギング：外部メモリまたはPC ■基板搬送：真空搬送ロボット ■オプション：基板加熱900℃（基板表面）、基板冷却、基板バ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

チ ■反応ガス：O2 、N2 、 H2O（オプション） ■基板加熱温度：最高1000 ℃（基板表面） ■加熱源：ハロゲンランプ ■昇温レート：最大150 ℃/sec ■真空排気：DP ■制御操作 　・制御：PLC 　・操作：タッチパネルまたはPC ■データロギング：外部メモリまたはPC ■基板搬送：大気搬送ロボット、冷却ステージ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置

広範な膜特性の制御可能！大幅なパーティクル低減および生産性を向上します

問い合わせください。 【特長】 ■2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現 ■優れた膜厚分布および再現性を実現 ■特殊表面処理によるメタルコンタミ低減 ■広範な膜特性の制御可能 ■豊富な蓄積データ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

DLCコーティング装置

広範な膜特性の制御可能！基板加熱源は水冷型と加熱型から選択いただけます

長】 ■成膜源はRFプラズマCVD法とイオン化蒸着法から選択可能 ■基板加熱源は水冷型と加熱型から選択可能 ■優れた膜厚分布および再現性を実現 ■様々な基板材質に成膜可能 ■広範な膜特性の制御可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

真空加熱乾燥炉

スパッタターゲットの真空乾燥や真空部品の真空乾燥、治具等の真空乾燥に利…

【仕様】 ■有効寸法：600W x 500D x 200H ■試料棚（1段）：2段 ■加熱温度：最高450℃ ■真空排気：DP ■チャンバ冷却：水冷 ■制御操作 　・制御：PLC 　・操作：タッチパネルまたはPC ■データロギング：外部メモリまたはPC ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

アッシング装置

エッチング、アッシング及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた…

【仕様】 ■基板サイズ：最大φ12インチ ■プラズマソース：CCP型 ■真空排気 ・低真空プロセス：MBP+DP ・高真空プロセス：TMP+DP ■圧力制御：APC制御 ■プロセスガス：F系、Cl2、Ar、O2、他 ※PDF資料も合わせてご覧ください。 ※お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

PETボトル用プラズマCVD装置

3L容器までコーティング可能！容器軽量化による物流コストの低減などに貢…

問い合わせ下さい。 その他ウェットプロセス装置、真空プロセス装置も取り扱いしておりますので、ご覧ください。 『立体物用プラズマCVD装置』 ■チャンバー容積：1m3 ■独自のプラズマ制御方式 ■多段式大量一括処理可能 ■高い汎用性を備えたシンプルな構造 ■様々な製品材質に成膜可能 『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』 ■圧電に寄与する軸長を...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

ロードロック式スパッタリング装置

CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能です！

ットにも対応し 全面エロージョンが可能です。 当社独自のスパッタカソードや急速昇降温基板加熱機構を搭載し 基板温度900℃を実現。 発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、 高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜ができます。 【特長】 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能 ■当社独自の急速昇...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

MH-500　自動シングルダイヤモンドワイヤーソー

ダイヤモンドワイヤーを用い脆性材料の端面出し、シリコンウエハ、ガラス、…

プ方式を使用したXYテーブルでの自動切断が可能。X軸は回転機構付。 ・一定の応力での切断 高精度位置センサーでワイヤーのたわみを探知し、ステッピングモーターにフィードバックをかけて移動速度を制御することにより一定の応力での自動切断が可能。 ・ シンプル設計、タッチパネルによる簡単操作。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

『圧電膜形成スパッタリング装置』は、単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜することが可能な製品です。 プラズマエミッションモニターによるプラズマ分析とフィードバック制御により、高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜、圧電特性低下に寄与する元素検知も可能です。 当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載しており、基板温度900℃を実現します。 ※詳しくはP...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社