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【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)
PR【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄-
書籍名:先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 --------------------- ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか! 新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 --------------------- ■ 本書のポイント 1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会
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PRオリジナル半導体メーカー認定。正規販売代理店および製造メーカーとして、…
当社は、70社を超える半導体メーカーから認定を受けており、 正規販売代理店として製品の提供を行い、製造メーカーとして製品の継続供給も行っております。 東芝、ams OSRAM、京都セミコンダクターなど様々なメーカーの オプトエレクトロニクス製品を豊富に在庫保有しており、 安定した継続供給を実現する体制を整えています。 【特長】 ■フォトカプラ、可視光LEDなど幅広い製品の在庫を保有 ■複数のパ...
メーカー・取り扱い企業: Rochester Electronics, Ltd.
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半導体材料の金属除去はお任せ! 半導体薬液用メタル除去フィルター
【脱メタル】フォトケミカルの安定性に配慮!様々な要求レベルの金属低減を…
イオン交換型Purifierにおける薬液精製では酸の発生によるリスクが懸念として残っていました。これらは化学増幅型レジストの品質を劣化させるリスクのある問題点です。 第1弾として液-液交換による金属除去メカニズムを持つNylon基膜に官能基を修飾したNylonpolarを発表しましたが、第二弾としてキレート構造による金属除去とイオン交換による発生した酸を即座に除去する機構を持つ金属除去Pur...
メーカー・取り扱い企業: 日本コベッタ株式会社
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金属汚染のリスク低減に!「薬液の品質に影響が…」「強アルカリ水溶液や酸…
半導体製造プロセスには様々なガス、薬液が使用されますが、これらはサプライチェーンでの輸送や製造中に使用される供給システムや容器への接触によって、常に原料や部材からの金属汚染のリスクにさらされ、半導体製造プロセスの工程の不安定化や歩留まり低減を引き起こします。 Cobetterでは、新規機能膜の開発やフィルタ構造の最適化により、困難とされてきた強アルカリ水溶液や酸性溶液からの金属除去が高効率で達成可...
メーカー・取り扱い企業: 日本コベッタ株式会社
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弱酸性/アルカリ性流体と純水のろ過に!特長的な非対称構造のメンブレンフ…
り、高いろ過能力と長寿命化を実現し、 ろ過システムの運用コスト削減に寄与することが可能。 弱酸性/アルカリ性流体と純水のろ過に適しています。 また、最小0.03μmのろ過グレードを有し、半導体分野の超純水ろ過に 多く使用されている「APSFJシリーズ」も取り扱っております。 【特長】 <共通> ■親水性非対称PES膜を採用 ■出荷前に全品の完全性試験と18MΩ純水洗浄処理...
メーカー・取り扱い企業: 日本コベッタ株式会社
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ろ材にPTFE膜を使用したメンブレンフィルター!全品出荷前に完全性試験…
『PFAシリーズ』は、耐熱性、耐薬品性に優れたオールフッ素樹脂製の フィルターです。 半導体、液晶など様々なエレクトロニクス分野で用いられており、 各種酸性・アルカリ性・腐食性のあるケミカル品から異物を安定的且つ 効果的に除去することが可能。 構成部材に高純度PFAを使用し、溶...
メーカー・取り扱い企業: 日本コベッタ株式会社
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Photoamiによる新しいろ過の提案 ポリイミド膜をリリース!
幅広く使用されているポリエチレンやナイロンによるフォトケミカル材料ろ過…
rは新しいラインナップとしてポリイミド膜フィルターをリリースしました。幅広く使用されているポリエチレンやナイロンによるフォトケミカル材料ろ過への新たな選択肢とソリューション提供の開始です。 半導体向けフィルターとして高い薬液耐性と耐熱性を有するポリイミド膜は、清浄度においても極めて優れており、ユニークな多孔構造膜への通液を通してクリティカルなプロセスへの貢献が期待できます。 UPE ...
メーカー・取り扱い企業: 日本コベッタ株式会社
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半導体分野におけるSC1、SC2などのろ過に使用!膜の表面張力が上げら…
『NWPFAシリーズ』は、ろ材にNon-dewetting PTFE膜、構成部材に 高純度PFAを使用し、発泡しやすい流体のろ過に適したフィルターです。 材質からの溶出が最小限に抑えられ、清浄度が保証され、 装置のランニングコストを低減。 また、Non-dewetting PTFE膜の採用により、膜の表面張力が上げられ、 乾きにくくなり、発泡しやすい流体でも、大流量で安定したろ過...
メーカー・取り扱い企業: 日本コベッタ株式会社
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最高使用温度は60℃!全品出荷前に完全性試験を実施しています
『UPEシリーズ』は、レジストや半導体用ケミカル品の ろ過に適したフィルターです。 ろ材にUPE膜、構成部材にHDPEを使用。 低溶出と高流量を保証しながら、ゲル状の異物を効率的に 捕捉できます。また、全品出荷前に完全...
メーカー・取り扱い企業: 日本コベッタ株式会社
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