【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化（No.2220）

PR【試読できます】－成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄－

書籍名：先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか！ 　　新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ■　本書のポイント　1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社技術情報協会

材料開発DXを加速! 活用事例紹介ウェビナー開催＜無料＞

PR原子レベルのシミュレーションとマテリアルズ・インフォマティクス活用で材…

半導体や電子部品から日用品に至るまで、様々な材料開発において、原子･分子レベルでの設計が求められています。 シュレーディンガーの『Materials Science Suite』は、各種の原子・分子レベルのシミュレーションおよび機械学習により、材料開発を大幅に加速するソフトウェア・プラットフォームです。 さらに、データ駆動型アイデア創出プラットフォーム『LiveDesign』は、計算技術を活用...

メーカー・取り扱い企業： シュレーディンガー株式会社

原子層堆積装置『AFALD-8』

優れた段差被覆性と精密な膜厚制御！高品質な成膜が可能

『AFALD-8』は、複雑な三次元構造に原子レベルで膜厚制御された成膜が できる原子層堆積装置です。 ミリ秒単位で高品質な薄膜成膜が可能なため、低ダメージで安定した成膜を 実現。 操作性に優れたソフトウェアや、自由度の高いオプ...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

原子層堆積装置 「ALD-Series」

複雑な形状の基板への成膜に最適で、低温成膜で樹脂基板にも対応します。ま…

ALD（Atomic Layer Deposition）とは原子層堆積法という単原子層を1サイクルで成膜する手法で、サイクルを繰り返すことにより薄膜を形成します。 一原子層レベルの均一なレイヤーコントロールが可能となり、高品質かつ段差被覆性の高い薄膜を形成する...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

原子層堆積（ALD）デモ成膜/導入サポート

原子層堆積（ALD）プロセス装置の老舗、PICOSUNによるコンサルテ…

ALD成膜の研究開発は市場にも浸透しつつありますが、目的とする性能の膜をどのように作ればいいのか、お悩みになる方も多いのではないでしょうか。 そこで設計段階でのお悩みの方には、材料選定やレシピ設定、評価方法についてアドバイスをいたします。 ALD法の開発最初期から現在までノウハウの蓄積があるPICOSUNだからこそご提案できるサービスで、技術の導入検討からお客様をサポートいたします。....

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

ALD装置（原子層堆積装置）『P-300B』

高品質のALD膜を作り出す！MEMS機器の生産や3Dオブジェクトの成膜…

『P-300B』は、プリントヘッド、センサー、マイクなどのMEMS機器の生産やレンズ、光学部品、機械部品、ジュエリー、コイン、医療用インプラントといった3Dオブジェクトの成膜に適した装置です。 当社が特許取得済みの高温壁設計と完全に分離した投入口を組み合わせる ことにより、優れた生産性、低パーティクルレベル、電気性能や光学性能の優位性を実現した、高品質のALD膜を作り出すことができます。 ...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

RFプラズマ源　ERFS-500

RFプラズマ源　ERFS-500

　操作が簡単かつ長時間安定な動作が可能です。 ○空冷仕様になっており冷却水の心配がなく 　既設装置等へ気軽に取り付けられる ○活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え 　かつクリーンな原子・ラジカルビーム等を得ることが可能 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

ＡＬＤプロセス用高速高耐久バルブ『TDFシリーズ』

高速開閉・高い応答安定性！特殊面間寸法や弁形状、耐腐食性材料ボディなど…

『TDFシリーズ』は、ＡＬＤ（原子層堆積）プロセスに必要な高速開閉、高耐久、耐食性、耐熱性、Cv安定性を兼ね備えた高純度ガス対応ダイヤフラムバルブです。 アクチュエータへの熱伝導を低減する構造を採用し、最高220℃までの 高...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キッツエスシーティー

高温対応バルブ　SCVサブマージブルバルブ『TD-Sシリーズ』

高温環境(最高200℃)で多種多用なガスに使用可能な集積化ガスシステム…

使用が可能な 集積化ガスシステム対応のダイヤフラムバルブです。 バルブ全体を最高200℃までの高温環境で使用できることにより 効率の良いヒーティングが可能。 流量の再現性が求められる原子層堆積（ALD）プロセスのプリカーサ （前駆体）供給に適しています。 【特長】 ■高温環境に対応 ■安定したCv値 ■PFAシートの採用 ■多種多用なガスに使用可能 ■高耐久 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キッツエスシーティー

RFラジカルビーム源　IRFS-503

RFラジカルビーム源　IRFS-503

放電部、引き出し部は高純度PBNで製作され 活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え かつクリーンな原子・ラジカルビームを得ることが可能な、ラジカルビーム源 【特徴】 ○ICPタイプのRF放電により化学的に活性なラジカルを形成し 　差圧によりフラックスを引き出す ○放電が目視確認できるビ...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

アローズエンジニアリング株式会社　会社案内

お客様のニーズに的確に捉え、最適なサービスを提供し、躍進して参ります。

→中古装置の立ち上げ →移設装置の立ち上げ ○製品・販売 →半導体装置向け部品（プロセスパーツ）の販売・再生 →溶接ベローズの販売 →各種ヒーターの販売 【主な製品】 ○検査装置・原子間力顕微鏡 →照明などの光学系や機械系の検討 →機械系とのインターフェイス、技術系コンサルタントから具体的な 　画像処理ソフトの開発 ○瞬時電圧低下保護装置 →UPSとは目的が異なりVSP...

メーカー・取り扱い企業： アローズエンジニアリング株式会社

固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-2300』

低温で高い結晶性薄膜を得ることが可能！価格を抑えたプラズマ成膜装置

とともに、ロードロック機構、ターボ分子ポンプを装備した 高性能な固体ソースECRプラズマ成膜装置です。 10-30eVの低エネルギーに制御された高密度イオンの照射下で 薄膜が成長するため、原子レベルの平滑性で緻密・高品質な薄膜が 形成されます。 イオンアシスト効果により、高温の加熱を行うことなく酸化膜、 窒化膜などの化合物薄膜を形成できるほか、低温で高い 結晶性薄膜を得ること...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社