• ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』 製品画像

    ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

    PR課題解決事例を進呈中!ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

    『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ(還元方式)・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...

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    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • 3次元レーザ統合システム『ALCIS-1008e』 製品画像

    3次元レーザ統合システム『ALCIS-1008e』

    PR【変わる世界に、光でこたえを。】高出力Blueレーザによる高速・高品質…

    『ALCIS』 日々進化する素材や工程に対応する柔軟な加工機 高出力Blueレーザ発振器/ファイバーレーザ発振器を搭載 「高出力Blueレーザ」 高出力BLUEレーザ(3kW/4kW)により、高速・スパッタレスの銅溶接を実現します。 「スキャナヘッド」 スキャナヘッドにより多数の加工点の高速加工を実現。 コンビ加工、オンザフライ加工、スキャナ加工の三つの加工方法で、 好適な加工方法を選択可能で...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アマダ(アマダグループ)

  • 卓上真空プラズマ装置YHS-G(ガス導入タイプ) 製品画像

    卓上真空プラズマ装置YHS-G(ガス導入タイプ)

    空気・酸素・窒素・アルゴンなど様々なガスを導入できる卓上型の真空プラズ…

    。 昨年の『関西フロントナー大賞』『京都中小企業優秀技術賞』を受賞。 社内の技術者が様々なニーズに対応いたします。 本製品は文部科学省の支援事業『京都環境ナノクラスター』に協力頂き 製品化を実現致しました。 【特徴】 ○回転チャンバー搭載 ○様々なガスの導入が可能 ○タッチパネル制御で使用方法が簡易 【オプション対応致します】 設計から製造まで弊社の技術者により製品を作...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社魁半導体

  • 薄膜形成装置 エレクトロスプレー SLEF-100 製品画像

    薄膜形成装置 エレクトロスプレー SLEF-100

    室温・大気圧下で高品質な薄膜を形成!電着による塗布とX-Yロボットで高…

    『室温・大気圧』下であるにも関わらず、均一な薄膜を形成致します 『電着による塗布』+『X-Yロボット』=ムダのない効率的な塗布! マスク板を汚しにくく『お手入れも簡単』! 【特徴】 ・小型な装置でスプレーコーティング ・高温・高真空下ではなく、室温・大気圧下で塗布 ・電着による塗布により塗液を効率的に塗布! ・X-Yロボットを使用した正確なコーティング ・マスク板を汚しにくいの...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社魁半導体

  • ダイレクト式大気圧プラズマ装置D300-TB※インライン処理可能 製品画像

    ダイレクト式大気圧プラズマ装置D300-TB※インライン処理可能

    ダイレクト式の大気圧プラズマ装置でフィルム両面を連続で表面処理が可能。…

    。 昨年の『関西フロントナー大賞』『京都中小企業優秀技術賞』を受賞。 社内の技術者が様々なニーズに対応いたします。 本製品は文部科学省の支援事業『京都環境ナノクラスター』に協力頂き 製品化を実現致しました。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社魁半導体

  • 親水・洗浄・密着強化『回転式真空プラズマ装置』 製品画像

    親水・洗浄・密着強化『回転式真空プラズマ装置』

    乾式で『粉体や固体全面』の『表面改質(親水・洗浄・密着強化)』を一括処…

    『関西フロントナー大賞』や『中小企業優秀新技術・新製品賞』を受賞。 社内の技術者が様々なニーズに対応いたします。 本製品は文部科学省の支援事業『京都環境ナノクラスター』に協力頂き 製品化を実現致しました。 【特徴】 回転チャンバー搭載でサンプル全面の処理が可能 紛体やペレットなどにも処理できます。 【仕様】 機能:圧力調整・電力調整・回転数調整・放電タイマー    脱...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社魁半導体

  • 面型大気圧プラズマ 製品画像

    面型大気圧プラズマ

    世界初の面状に大気圧プラズマを生成する製品です。

    【特長】 ○300mm四方への均一処理を実現 →面状にプラズマを生成するので、パッチ処理が可能 ○熱によるダメージが殆どなし →熱に対して脆弱なサンプルへの処理が可能 ○コロナ放電のような電流集中したアーク状態ではない →処理対象物...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社魁半導体

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