高耐熱シリコン両面粘着シート『TACSIL F20』

PRサンプルプレゼント！260℃までＯＫ！500回以上繰り返して使える高耐…

『TACSIL F20』は、リフロー工程で500回以上繰返し使用しても 均一な粘着力を維持する両面テープ。 対応温度範囲は－73℃～260℃で、安定性に優れているのが特長です。 特にFPCや薄い基板の実装工程で実績多数。 基板が動いたり、カールするのを抑制します。 サンプルを無料プレゼント中！ お問い合わせよりお気軽にお申込みください。 【特長】 ■粘着強度にバリエーシ...

メーカー・取り扱い企業： イーグローバレッジ株式会社 ＭＩ本部

簡単に繰り返し円筒成形が可能に！ピンチ型4本ロール機『BS-B』

PR従来では不可能だった端曲げを1工程で可能にした4本ロールマシン

「今まで熟練者が手作業で行っていた塑性加工を簡単に精度よく加工したい」 「もっと精度を追求したい」などの課題はありませんか？ アイセルでは、従来の3本ロール機では不可能だった端曲げを 4本のロール軸により1工程で可能にしました。 1台の機械で端曲げと円筒成形どちらも行う事ができ、生産性の向上を実現。 また、タッチパネル仕様により、自動成形が可能な為、高品質な生産はもちろん、 加工データを保存...

メーカー・取り扱い企業： アイセルグループ株式会社

Druck 半導体製造装置向け圧力計測ソリューション

半導体製造装置やサブシステムの圧力校正試験にPACEシリーズを導入しま…

ラPACE：モジュール式で高精度且つ、幅広い圧力範囲に対応 ■PACE1000圧力インジケータ：最大３つの圧力を同時表示、最大5チャンネルのセンサが入力可能。シングルチャンネルの圧力計に比べて検査工程のコストを大幅に削減できます。 【半導体製造装置の流体制御に必要な圧力センサ】 詳しくはこの下のリンクをクリック！ ※イプロスにご登録されている個人情報は、弊社正規代理店にも共有させて...

メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

多層膜スパッタリング装置『S600』

ヒーターステージ(1000℃)搭載！開発工程～量産工程まで様々な用途へ…

性を両立 ■T/S距離調整により長期間の高膜厚均一性を維持 ■独自プラズマ制御(MPスパッタ)技術にてスパッタ薄膜特性を向上 ■ヒーターステージ(1000℃)搭載で高温プロセスが可能 ■開発工程～量産工程まで様々な用途へ活用が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社

Druck 半導体製品の圧力校正試験の自動化に

半導体製造装置やMEMS圧力センサの計測試験/ライン検査に圧力コントロ…

【MEMS圧力センサの校正検査工程の自動化に】 現在高需要の車載圧力センサ。ドラックの圧力コントローラPACEでエンド・ライン検査を効率化しませんか？試験を自動化することで生産コストが各段に削減できます。生産ラインの拡張の機会にぜ...

メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

【納入事例】地方独立行政法人大阪産業技術研究所様

多層膜の作成を自動で実行することが可能なスパッタ装置の納入事例をご紹介…

【MS-3C100L ソフトウェア機能】 ■製膜ログ機能 ・各処理工程における、真空度・冷温媒温度・ガス流量・スパッタ電力値・ 　基板ホルダー回転速度の自動保存が可能 ■製膜レシピ機能 ・各処理工程における、使用基板・使用ターゲット・真空度・冷温媒設定温度・ガス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社大阪真空機器製作所

スパージャー【焼結金属フィルター用途事例】

■長所 ・ご要望に合わせたオーダーメイド ・均一な気体の拡散 ・…

複数の理由により、液体に様々な気体が拡散(スパージング)されます。例えば、廃水処理工場や水道水には酸素やオゾ ン、飲料や化学品製造工程においては、窒素や二酸化炭素が利用されます。GKN製エレメントを底に設置し、液体に気 体をスパージングします。 素　　材：ステンレス プロセス：フィルター ■アプリケーション詳細 ...

メーカー・取り扱い企業： ダイアエンタプライズ株式会社 本社

Druck 半導体アプリケーション用圧力センサ

半導体製造装置の流量制御に必要な高精度の圧力センサ各種。モジュールのカ…

【SEMICON JAPAN2021に出展いたしました】 多くのお客様にブースにお寄りいただきありがとうございました。 【半導体製造装置の流体制御に】 半導体製造工程においてはプロセスガスの高精度な流量制御が不可欠です。厳しい条件下で高いパフォーマンスを発揮する各種圧力センサ、カスタマイズできるモジュール機能などをご提供しております。 【注目製品】 新製...

メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置（HR-PVD）

誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜

度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的な方法により、高レートかつ直進性の高い成膜を実現します。 ターゲット面全体を高効率で利用するため、貴重・希少なターゲットを用いる成膜工程でのコスト削減にも貢献します。 ＜特長＞ ■高速・高効率イオンビームスパッタリング 　誘電体・強磁性ターゲットへの最適解 ■ヘリコンプラズマイオンソースとターゲット印加 　高速スパッタリングと低コ...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

マルチチャンバスパッタリング装置

20年以上の歴史を誇る実績のラインナップ。R&Dから量産までハイエンド…

標準仕様では対応の困難な各種用途・基板に積極対応。 Ｒ＆Ｄ・ディスクリート・化合物・ＭＥＭＳ・パッケージ・実装工程・マスク・小型ＦＰＤ　多くの基板に専用機構を用意。 基板のトレイ搬送も標準対応、大気側の基板ハンドリングで異種基板の同一装置での成膜・処理を実現。 各用途専用カソード（ワイドエロージョン・強磁性...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

SiC半導体製造用機能部品

2000℃以上のSiCプロセスに対応可能な単結晶成長およびCVD用部品…

tiveの『タンタルカーバイドコーティング』は、SiC単結晶成長炉、エピタキシャル装置の部品として多くの実績を有しており、『静電チャック』はSiやSiC半導体プロセスの高温イオン注入、スパッタリング工程で使用されています。 【特長】 ■タンタルカーバイド ・超高温（2000℃以上）での使用が可能 ・複雑な形状にも対応できる優れた被覆性 ■静電チャック ・1000℃までのプロセスに対...

メーカー・取り扱い企業： モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社

標準バッチタイプスパッタリング装置（ＳＲＶシリーズ）

多機能・コンパクト・フレキシブル対応、実績と信頼の標準型ラインナップ

コンパクトな筐体に３元のカソードを組み込んだ標準バッチタイプスパッタリングシリーズ。広い膜厚分布均一範囲と自動制御機構によって各種電子デバイスや関連材料の成膜工程をの基礎開発から量産までカバーします。 多くの納入実績に支えられた成膜プロセスとオプションにより御要望を確実にサポートします。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

低温装置用銅板プレート

低温環境で使用される、C1020製の低温装置用銅板プレートです。

加工、手前２か所に関してはタップ加工を行いました。また、手前部分には溝加工も施しています。銅板加工.comでは、こうした多面加工もマシニングセンタにてワンチャッキングで行うことができるため、取り付け工程や取り付け誤差もなく、高効率かつ高精度な部品加工が可能となります。 またこちらのプレートは、マイナス領域の低温環境で使用される部品のため、全体の仕上げ面精度がRa1.6と、非常に高精度な仕上げ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイジェクト

コンビナトリアル・マグネトロンスパッタシステム CMS-3200

単一基板に数100条件の組成分布を形成。有効成膜エリアは1辺25mmの…

成傾斜成膜に対応する 3元コンビナトリアル・マグネトロンスパッタ装置です。 有効エリアは1辺25mmの正三角形。2インチウエハを標準基板とするため、 パターン描画・エッチングなどのライン後工程に投入でき、成膜のみならず 解析までをハイスループット化できます。 【特長】 ■2元・3元のコンビナトリアル組成傾斜成膜に対応 ■有効成膜エリア：1辺25mmの正三角形 ■2インチ・マ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コメット

割れない！削らない！低コストな『スパッタリングターゲット』

酸化被膜防止を目的としたプレスパッタリングが必要なく工数削減が可能！熱…

す。 【対応可能材質】 金属材料：Si、Nb、Ti、Cr、Ta、Al… 酸化物　：SiO2、Ta2O5、Al2O3、ITO… 合金材料：Cu+Ag、Ni+Cr、Ti+Cl… ※製造工程の紹介資料も進呈しております。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： USTRON株式会社

【技術資料無料贈呈！】粉体スパッタリングとは

表面改質から触媒利用まで！成膜事例付きで密着性が高い粉体スパッタ技術を…

【スパッタ(乾式)の特長】 ■前処理や乾燥工程、廃液なし ■真空中のクリーンな環境で処理 ■様々な材料を被膜可能(金属、酸化物、その他化合物) ■密着性が高い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： エイ・エス・ディ株式会社 技術研究所

精密洗浄

超純水（18MΩ・cm）での精密洗浄により、お客様の製品の品質向上及び…

【精密洗浄工程】 脱脂洗浄（60℃） →市水洗浄→純水洗浄→超純水洗浄→超純水超音波洗浄（60℃） ※『電解研磨』『不動態化』などの処理を追加することも勿論可能です 電気抵抗率（比抵抗）：18MΩ・cm...

メーカー・取り扱い企業： 東陽理化学株式会社

コンビナトリアル・マグネトロンスパッタシステム CMS-6420

1辺25mmトライアングルの有効エリア！単一基板に数百条件分の組成分布…

開発された6元コンビナトリアル・マグネトロンスパッタ装置です。 有効エリアは1辺25mmトライアングル。 4インチウエハを標準基板とするため、パターン描画・エッチングなどの ライン後工程に投入できることから、成膜のみならず解析までを ハイスループット化できます。 【特長】 ■プロセスラインに適合可能な4インチウエハ対応 ■有効エリア：1辺25mmトライアングル ■2元...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コメット