加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応 することができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。 【特長】 ■加熱プロ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

2,000℃を超えるカーボン加熱炉の開発・設計・試作支援

光ファイバの線引炉やガラス化炉で30年の実績がある加熱炉・加熱システム…

古河電気工業（株）でコーポレートの生産技術部門に26年間所属し、生産技術開発センター長を５年勤めました。主に光ファイバの開発・量産ラインへの装置導入の業務を行ない、現在も導入した装置が現役で活躍しています。 私が担当した1980年後半から通信バブル崩壊するまでは毎年線引速度が高速化しプリフォーム径も大型化してゆく時代でした。私が担当した当時は、購入した線引炉の水漏れがたびたび起きて、自社で線引炉...

メーカー・取り扱い企業： プロセスD&Tラボ 千葉

超臨界流体洗浄・乾燥装置

微細構造物を破壊せずに洗浄・乾燥を行うことが可能

従来の「液化二酸化炭素で置換する工程」を「超臨界二酸化炭素で置換する工程」に置き換えたことにより… ●ポンプにより圧送される液化二酸化炭素を予備加熱することで粘性の低い超臨界流体としてチャンバーに導入するため、ナノレベルの微細構造物に対してもダメージの少ない洗浄・乾燥が行えます。 ●チャンバーの冷却、加温という温度サイクルがなく一定温度での洗浄・乾燥が行えるめ、処理時間の短縮が可能です...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社レクザム 香川工場

RTA装置

トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

『RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応できる 製品です。 基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体をはじめ、MEMSや電子部品にご利用いただけます。 【特長】 ■減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社