マルチ雰囲気焼成炉　FT-6800PH

本装置で手軽に加圧・減圧を再現性良く効率の良い運転が可能！クラッチドア…

【特徴】 ・手軽に加圧・減圧を再現性良く効率の良い運転が可能 ・クラッチドアー方式で簡単開閉・安全設計 ・最大加圧：0.9Mpa(第2種圧力容器) ・最大温度：1200℃ ・コンピューター通信制御＋PIDプログラムコントロール ・ガス3系統、MFC仕様を標準装備 ※冷却チラー/加圧コンプレッサー/PO2系/記録計はオプション設定 ...『FT-6800PH』 最大加圧：0...

メーカー・取り扱い企業： フルテック株式会社

精密性と操作性に優れた横型真空パージ光輝焼鈍炉RAV型

高品質を要求される電子部品・精密機械部品等の光輝加熱や、リール材・パイ…

RAV型は、前面横扉を開閉してワークの出し入れを行いますので、作業がしやすく、加熱炉・冷却装置・真空機器が 一体となったコンパクトな設備です。 真空ポンプにより減圧した後、清浄な雰囲気ガスを送入して加熱しますので、炉内の空気置換をより完全に、 より短時間で行うと共に、パージガス量を大幅に節約！ 水素・窒素・アルゴンなどのガス雰囲気を使用するとともに、熱風循環により講師恵能の温度分布を保証します。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社広築 営業部

加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応 することができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。 【特長】 ■加熱プロ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

RTA装置

トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

『RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応できる 製品です。 基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体をはじめ、MEMSや電子部品にご利用いただけます。 【特長】 ■減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社