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28件 - メーカー・取り扱い企業
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マイナス温度からの水素分析！ ～1700℃の高温測定可能！
高周波加熱型昇温脱離分析装置IH-TDS1700は、超高真空中で試料を電磁誘導加熱することにより、試料から脱離する分子を四重極質量分析計（QMS）でリアルタイム観測する分析装置です。超高真空であるためバックグラウンドが低く高感度な測定が可能です。大気や発生ガスなどによる副反応の影響も大幅に抑えられているため 理想的な状態で試料からの脱離分子を観測することができます。 加熱効率の良い金属サンプ...
メーカー・取り扱い企業： 電子科学株式会社
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真空装置＆真空ポンプのことならお任せください！
水冷銅鋳型を用いイナートガス(Ar.He)雰囲気での溶解のため、試料は酸化、窒化することなく、また、るつぼからの汚染がないので極めて良好な溶解ができます。 【特徴】 ○耐熱材料のるつぼと反応する金属では絶対欠くことのできない溶解法の一つです。 ○排気から溶解まで僅か数分で作業が完了し、熟練者でなくても操作が簡単にできます。 ○アークの安定領域7×10-3Pa以上の、大気圧より減圧下での...
メーカー・取り扱い企業： アトーテック 株式会社
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磁場中熱処理炉『HV-0.5TS』【磁場中での高温熱処理が可能】
非磁性加熱源を採用で、磁場中での高温熱処理が可能！熱処理後に雰囲気をキ…
非磁性加熱源を採用している為、磁場中での高温熱処理ができ、熱処理後 に雰囲気をキープしたまま冷却チャンバに移動し、ガスフローすること によりガス冷却することが可能。 また、冷却水循環装置、各種インターロック付きで、オプションとして 外径50及び60用熱処理チャンバとの交換取付ができます。 【仕様（抜粋）】 ＜熱処理チャンバ/加熱機構＞ ■外径40×長さ236mm 水冷式二重S...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所
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【エッチング装置/アッシング装置部品の保護膜に】Y5O4 F7膜
Y5O4 F7膜は表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージン…
半導体製造工程の一つであるドライエッチングプロセスにおいてウェハ処理を行うと、プロセスガス自体からの生成物やエッチング時の副生成物がチャンバ内壁やチャンバ内のパーツ表面に付着するといった現象が発生すします。これら堆積物の付着によってプロセスの初期と処理後のチャンバ内表面状態が変化することにより、プロセス条件の変動が発生します。このようなプロセス条件の変動を緩和するため、従来技術では製品処理前に類似...
メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー
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高真空加熱マイクロプローバ『HMP-100』【最大500℃対応】
高真空仕様の加熱マイクロプローバ！加熱温度は最大500℃で、10mm形…
【仕様（抜粋）】 ＜試料評価室＞ ■真空チャンバ：φ114×h84mm SUS304／内面#400/外面#400＋電解研磨 ■フランジ：コンフラット規格 ■ベーキング：150℃対応 ＜測定部＞ ■プローブ数：4探針プローブ/タングステ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所
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管状炉の試料サイズ制限及びマッフル炉の仕切り入れの手間をなくした新たな…
・常用温度1000°C以下の連続運転に適します。 ・無酸素環境の為の完璧な雰囲気制御。 ・長方形チャンバ設計で、管状炉と比較して、幅広い試料サイズに対応。 ・真空の有無にかかわらず、硬化、焼きなまし、焼戻し、ろう付け、焼結をサポートします。 ・真空、真空状態の解除、ガス入力およびガス出力は個別の4ポートで構成されています。 ・複数の大気環境を作り出せます(空気中での燃焼、空気のパージと真...
メーカー・取り扱い企業： オガワ精機株式会社
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真空装置＆真空ポンプのことならお任せください！
温度と加圧力の最適設定によって短時間で高密度な焼結体が得られます。 【特徴】 ○前扉方式のため、試料、ダイスのセッティング、炉材、ヒータ、チャンバなどの保守、点検が容易におこなえます。 ○ヒータ、断熱材は温度、真空、イナートガス、還元、酸化雰囲気などによって選択できます。 ワークによりガス加圧（MAX 9.8気圧）中でのホットプレスも製作致します。 ○通常加圧は片押し（上押し、下押...
メーカー・取り扱い企業： アトーテック 株式会社
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お客様の多岐に渡る研究用途に合わせて、高真空、超高真空、さらには極高真…
北野精機では、お客様の多岐に渡る研究用途に合わせて、高真空、超高真空、さらには極高真空の領域まで各種真空チャンバーを制作しています。真空チャンバーの形や使用するステンレス鋼の材質は、実験の内容に応じて豊富な種類の中から最適なものを選択。分岐機器や計測機器の取り付け用ポートの設定も、数や角度、位置などきめ細...
メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社
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幅広い冷却ガス圧に対応する真空熱処理炉
『RQシリーズ』は、シンプルな冷却ガス上下切替機構を搭載した 高圧加圧ガス冷却横型真空炉です。 オプションとして対流加熱機能の付加が可能。 循環ファンによる対流加熱は850℃まで昇温でき、真空加熱（放射加熱）の 欠点である低温での昇温遅れを大幅に改善します。 【特長】 ■省エネルギー性を高めるため、インターナルチャンバ外表面温度を200℃以下に維持 ■開閉ドアは、クラッチ式ド...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社IHI機械システム 本社 セールスグループ
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スパッタターゲットの真空乾燥や真空部品の真空乾燥、治具等の真空乾燥に利…
『真空加熱乾燥炉』は、自動乾燥プロセスレシピが30通りあります。 使用温度範囲は最高450℃。スパッタターゲットの真空乾燥をはじめ、 真空部品の真空乾燥や、治具等の真空乾燥にご利用いただけます。 各種オーダーメイドも製作可能ですので、ご用命の際はお気軽に お問い合わせください。 【特長】 ■使用温度範囲：最高450℃ ■到達圧力：10Pa ■自動乾燥プロセスレシピ：30...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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小型から中型程度の真空チャンバーを製作致します！
当社は、多種・多様な『真空チャンバー』を製作しております。 真空チャンバーは使用する目的や用途により必要とする真空度が異なり、 高真空タイプ・中真空タイプ・低真空タイプの3種類に対応しております。 ご要望の際はお気...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマルブロック
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1200℃石英チャンバー真空マッフル炉『OSK 93TI109』
常用温度1000℃以下の連続運転に！石英製棚板により庫内空間を有効利用
『OSK 93TI109』は、管状炉の試料サイズ制限をなくした新たな電気炉です。 石英チャンバ－設計(ドアの内側を含め)により、粉塵による庫内汚染や、 実験中に発生する腐食性ガスによるヒーターの損傷を防ぎ、 実験後庫内の清掃も容易。 マスフローコントローラ、背圧弁、デジタル真空メーター及び 真空ポンプのフル構成で完全且つ精密な実験を可能とします。 【特長】 ■常用温度10...
メーカー・取り扱い企業： オガワ精機株式会社
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金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での加熱プロセス、材…
真空ホットプレートチャンバー 「PH-224D型」は、金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での加熱プロセス、材料評価に最適です。 【仕様カスタマイズ】 ○温度制御範囲 室温～200℃ ○プレートサイズ 200×200mm ○圧力範囲 -100KPa（真空）~0.02MPa（N2ガス充填時） 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...【特徴...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー
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半自動真空ホットプレートチャンバー 「PH-224S-42型」
小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。
半自動真空ホットプレートチャンバー 「PH-224S-42型」は、小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 ウエハ加熱バッチ炉として、6”ウエハ3枚、8”ウエハ２枚の処理能力があります。 【特徴】 ○最高温度 300℃ 対応 ○温度コントローラーは、専用タイプにより プロセスの確認に必要な...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー
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加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応
真空ホットプレートチャンバー 「PH-224型」は、小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。 【特徴】 ○観察窓により、ワークの状態が視認できる ○空冷にて、最高温度400℃対応 詳しくは...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー
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高性能卓上システム！簡便な操作のタッチスクリーンと判りやすい指示表示
『V6-G』は、少量量産から研究開発までの広い製造範囲をサポート可能な 真空プラズマ表面処理装置です。 装置は表面処理、高度クリーニング及び活性化に用いることが可能。 内蔵の専用制御PLCは、自由に設定を行うことの出来る各プロセスと 各パラメーターを保存しておくことができます。 【特長】 ■高性能卓上システム ■少量量産から研究開発までの広い製造範囲をサポート可能 ■装...
メーカー・取り扱い企業： ピンク・ジャパン株式会社
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多様な研究に対応！あつかいやすく、導入・維持コストを抑えることができま…
当社では、使い勝手に優れるフレキシブル強化塩化ビニール製の 『嫌気性チャンバー』を取り扱っております。 外気を遮断しチャンバー内のガス供給と排気、物の出し入れをする エントリーボックス。チャンバー内の作業に応じて、真空レベルや サイクル数などのプログラム設定ができます。 研究現場に求められる性能を追求した製品です。 【特長】 ■使い勝手に優れるフレキシブル強化塩化ビニール...
メーカー・取り扱い企業： 東洋紡エムシー株式会社／東洋紡エンジニアリング株式会社
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自動化量産ラインに対応。インラインタイプ、枚葉タイプ、柔軟なハード構成…
先端薄膜デバイスで実績豊富なチャンバ構成をクリーニング用途に展開。 高いクリーニング効果を各種基板で実現。 基板と生産量に合わせて柔軟なハード構成と高いプロセス能力 クリーニング・ディスカム・アッシング・親水処理、撥水膜処理、各種用途に対応。 基板実装から素材表面処理まで実績豊富な大型プラズマ装置...平行平板型高周波真空プラズマによる各種基板のクリーニング・親水化に実績 プリント基板、...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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【操作簡単、ワンサイクル60分】超小型型により一般の実験室に設置可能！…
【超小型ガスアトマイズ装置】 真空排気後の不活性ガス雰囲気中又は大気中において 試料の溶解を行い、ガスアトマイズ法により粉末を作製 【特徴】 ○真空溶解及び噴射室真空排気による酸化防止 ○粉末は100μm以下で高回収率（平均粒径20〜60μm） ○高温材料のガスアトマイズが可能（Max1800℃） ○ガスジェットノズルの上下調整機構 ○合金溶解噴射が可能 ○石英管タイプ（1〜4kg） ○チャンバ...
メーカー・取り扱い企業： 日新技研株式会社
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多機能型プラズマクリーニング装置。 サンプルテスト受付中 クリー…
半導体製造装置のチャンバをシンプル化・低コスト化しプラズマクリーニングに応用 プラズマモード切替機構（ＲＩＥ，ＤＰ）とマルチガス（Ａｒ、Ｎ２，Ｏ２，Ｈ２）プロセスにより従来にない表面処理を実現。 基板洗浄（酸化物・有機物除去・微細異物除去） 親水性処理（メッキ前処理、半田濡れ性向上） 撥水性処理（ウェット工程前処理） リフロー前処理に実績豊富 半田濡れ性向上効果大 ハイエンド製品（高密...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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スポット集光で超高温熱処理。
回転楕円反射面をもち、シングル又はダブルタイプのチャンバと組合せることにより、極めて高い反射効率を実現したコンパクトなスポット集光型赤外線ゴールドイメージ炉です。焦点を合わせることにより1800℃までの昇温が可能です。 ...【特長】 ○超小型で低価格な超高温加熱炉 ○シングル又はダブルタイプチャンバと組合せる事で真空中、不活性ガス中、等の雰囲気下で加熱可能 ○加熱中の試料観察が可能 ○お手持ちの...
メーカー・取り扱い企業： アドバンス理工（旧：アルバック理工）株式会社 本社
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IonPOWDERによる粉体の革新的な表面処理。 粉体へのイオン注入…
特徴 ･多種のガスが使用可能（Ar, He, N2, O2, SiH4, 混合ガス） ･装置はレシピで動作可能 ･PVD(physical vapor deposition)機構も、増設できます。 プロセスの利点 低温表面処理：元の材料特性が保持されます。 コーティング不要：イオンが深部までで注入されるため、表面は剥がれません。 部品の形状を尊重：追加の加工が不要です。 精密で...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー
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デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！
Morpher ALDシステムは、業界標準の枚葉ウエハ真空クラスタプラットフォームを組み込み、ウエハバッチを完全自動処理するように設計されています。 米国特許取得済みのウエハバッチフリップ機構により、他の半導体製造ラインとのシステムの統合が可能で、またSEMI S2/S8認定により、当システムが業界の最も厳しい規格と互換性があることが保証されています。 Morpher ALDシステムは、...
メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社
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基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！
『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応 することができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。 【特長】 ■加熱プロ...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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半導体製造プロセスは高密度、微細化の進展によりRTPが重要な加熱技術と…
MILA-5000シリーズは赤外線ゴールドイメージ炉の特長である高速加熱・冷却、クリーン加熱が行なえます。自在な雰囲気下で加熱する事が可能で温度コントローラと雰囲気可変チャンバが一体化した小型で低価格な赤外線ランプ加熱装置です。 加熱操作をUSB接続によりパソコン上で行なえ、手軽にデータ管理出来ます。...【特長】 ○真空中、ガス中、ガスフロー中、大気中と任意の雰囲気選択 ○精密な温度コントロール...
メーカー・取り扱い企業： アドバンス理工（旧：アルバック理工）株式会社 本社
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高い保持温度精度を実現する真空熱処理炉
『PQシリーズ』は、幅広い冷却ガス圧に対応可能な横型真空炉です。 加熱室内面はシールド板で被覆することで断熱材の飛散を抑制。 オプションとしてモリブデン板で被覆することで、加熱室内の放射効率を高め 温度分布均一性および均一加熱性を向上します。 また、低温度から高温度までの広範囲において、熱処理品の均一加熱と 分布の均一性を最良にするため、ヒータを上下および両サイドの4面に配置し、...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社IHI機械システム 本社 セールスグループ
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半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」
最高温度400℃！小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。
半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」は、加熱源にセラミックヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。 【特徴】 ○空冷にて、最高温度400℃対応 ○小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適 ○観察窓により、ワークの状態が視認できる...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー
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トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現
『RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応できる 製品です。 基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体をはじめ、MEMSや電子部品にご利用いただけます。 【特長】 ■減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリ...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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